[發明專利]使用兩性表面活性劑的方法

無效

• 申請號: 201080046218.0
• 申請日: 2010-10-07
• 公開（公告）號: CN102858736A
• 公開（公告）日: 2013-01-02
• 發明（設計）人: 彭晟;A·M·雅克
• 申請（專利權）人: 納幕爾杜邦公司
• 主分類號: C07C311/09
• 分類號: C07C311/09;C07C311/24;C11D1/00;B01F17/00;A62D1/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 鄒雪梅;李炳愛

1.向介質或基底提供表面效果的方法，所述方法包括使所述介質或基底與式(I)的化合物接觸：

其中

R_a為直鏈或支鏈的F(CF₂)_n(CH₂CF₂)_m-、或直鏈或支鏈的F(CF₂)_r-O-B-；

B為任選地被1至2個鏈氧原子中斷的(C_sF_2s)，每個氧與兩個碳原子鍵合，

n為2至4，m為1至4，r為1至4，s為1至4，前提條件是(r+s)最大為7，

A為O或(CH₂)_k-COO，

R¹為氫或甲基，

R²和R³各自獨立地為具有1至6個碳原子的烷基，并且

p、q和k各自獨立地為1至10的整數。

2.權利要求1的方法，其中R_a為F(CF₂)_n(CH₂CF₂)_m-，其中n為2至4，并且m為2，或其中R_a為F(CF₂)_r-O-B-，其中r為3或4。

3.權利要求1的方法，其中所述表面效果為降低表面張力。

4.權利要求3的方法，其中在所述介質中按重量計小于約0.5％的式(I)的化合物的濃度下，所述介質的表面張力小于約25毫牛頓/米。

5.權利要求3的方法，其中所述介質選自水、鹽水溶液、KCl溶液、HCl溶液、鉆井液、井液、用于地下地層和井孔區域的液體處理流或氣體處理流、烴、鹵化碳體系、涂料組合物、膠乳、聚合物、地板涂飾劑、地板拋光劑、滅火劑、油墨、乳化劑、發泡劑、剝離劑、拒斥劑、流動改性劑、薄膜蒸發抑制劑、潤濕劑、滲透劑、清潔劑、研磨劑、電鍍劑、腐蝕抑制劑、蝕刻劑溶液、焊接劑、分散助劑、微生物劑、制漿助劑、漂洗助劑、拋光劑、個人護理組合物、干燥劑、抗靜電劑和粘合劑。

6.權利要求1的方法，其中所述表面效果選自潤濕性、滲透性、鋪展性、找平性、流動性、乳化性、分散性、拒斥性、剝離性、潤滑性、蝕刻性、粘結性和穩定性。

7.權利要求6的方法，其中在涂層基料沉積在所述基底上之前將式(I)的化合物加入到所述涂層基料中，以向涂覆的基底提供所述找平性和潤濕性。

8.權利要求7的方法，其中所述涂層基料為水分散的涂料、醇酸涂料、I型聚氨酯涂料、不飽和聚酯涂料、地板拋光劑、或地板涂飾劑。

9.權利要求1的方法，其中將式(I)的化合物加入到介質中，所述介質將與含烴的地下地層接觸。

10.權利要求9的方法，其中所述介質選自水、鹽水溶液、KCl溶液、HCl溶液、烴、鹵化碳、鉆井液、井液、增產流體、以及用于地下地層和井孔區域的液體處理流或氣體處理流。

11.權利要求10的方法，其中式(I)的化合物以按重量計約0.001％至約50％的濃度存在于介質中。