[發(fā)明專利]用于水力發(fā)電機的支撐基礎(chǔ)、相關(guān)的水下裝置和就位方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201080046132.8
• 申請日: 2010-08-26
• 公開（公告）號: CN102575450A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: A·呂皮
• 申請（專利權(quán)）人: 泰克尼普法國公司
• 主分類號: E02D27/42
• 分類號: E02D27/42;E02D27/52
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標事務(wù)所 11038
• 代理人: 劉敏

1.用于水力發(fā)電機(22)的支撐基礎(chǔ)(20)，其用于放置在水體(14)的底部(12)上，所述支撐基礎(chǔ)(20)包括：

-底座(50)；

-由所述底座(50)承載的水力發(fā)電機支座(54)；

-支撐在所述水體的底部(12)上的至少三個撐腳(52)，所述至少三個撐腳通過所述底座(50)互相連接，每個支撐撐腳(52)包括一空心沉箱(70)；

其特征在于，每個支撐撐腳(52)另外包括：

＊調(diào)節(jié)所述沉箱(70)相對所述水體的底部(12)的豎直位置的剛性調(diào)節(jié)機件(72)，所述剛性調(diào)節(jié)機件(72)在所述沉箱之下豎直突出地固定不動；

＊與所述水體的底部(12)配合的配合機件(74)，所述配合機件與所述剛性調(diào)節(jié)機件(72)的下端連接。

2.如權(quán)利要求1所述的支撐基礎(chǔ)(20)，其特征在于，至少兩個調(diào)節(jié)機件(72)具有在所述沉箱與所述配合機件(74)之間采用的不同高度。

3.如權(quán)利要求1或2所述的支撐基礎(chǔ)(20)，其特征在于，每個調(diào)節(jié)機件(72)包括一可展開元件(88)，該可展開元件在所述支撐基礎(chǔ)(20)安裝在所述水體的底部(12)上之前相對所述沉箱(70)向所述水體的底部(12)可展開。

4.如權(quán)利要求3所述的支撐基礎(chǔ)(20)，其特征在于，每個調(diào)節(jié)機件(72)包括相對所述沉箱(70)固定的一固定元件(86)，在所述支撐基礎(chǔ)(20)安裝在所述水體的底部(12)上之前所述可展開元件(88)相對所述固定元件(70)活動安裝，所述固定元件(86)和所述可展開元件(88)特別是由伸縮管形成。

5.如上述權(quán)利要求中任一項所述的支撐基礎(chǔ)(20)，其特征在于，每個沉箱(70)至少包括一底壁(80)和一側(cè)壁(82)，所述底壁和側(cè)壁限定一內(nèi)空間(78)，所述內(nèi)空間能夠充填用于保證所述支撐基礎(chǔ)(20)能夠浮在所述水體(14)上的氣體。

6.如權(quán)利要求5所述的支撐基礎(chǔ)(20)，其特征在于，所述沉箱(70)包括向上封堵所述內(nèi)空間(78)的一上壁(84)，所述沉箱(70)包括將流體注入所述內(nèi)空間(78)中和/或使所述流體從所述內(nèi)空間排出的至少一孔(85A、85B)。

7.如權(quán)利要求5所述的支撐基礎(chǔ)(20)，其特征在于，所述內(nèi)空間(78)永久地向上通到所述側(cè)壁(82)上方。

8.如上述權(quán)利要求中任一項所述的支撐基礎(chǔ)(20)，其特征在于，所述配合機件的至少一個限定向下敞開的空腔(96)，用于插在所述水體的底部(12)中。

9.如權(quán)利要求8所述的支撐基礎(chǔ)(20)，其特征在于，所述空腔(96)由空心容器(94)限定，所述空心容器向下敞開并具有向上堵塞所述空腔(96)的上壁。

10.如上述權(quán)利要求中任一項所述的支撐基礎(chǔ)(20)，其特征在于，所述配合機件(74)的至少一個包括完全實心的特別是凸起的下表面(92)，用于阻止所述配合機件(74)進入到所述水體(14)的底部(12)中。

11.水下發(fā)電裝置(10)，其特征在于，所述水下發(fā)電裝置包括：

-如上述權(quán)利要求中任一項所述的支撐基礎(chǔ)(20)；

-安裝在水力發(fā)電機支座(54)上的水力發(fā)電機(22)。

12.用于使如權(quán)利要求1-10中任一項所述的支撐基礎(chǔ)(20)就位的方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟：

-將至少部分在水體(14)的表面之上的支撐基礎(chǔ)(20)運輸直到與所述支撐基礎(chǔ)(20)在水體的底部(12)上的放置區(qū)域(134)相對的地點；

-將所述支撐基礎(chǔ)完全浸入到所述水體(14)中；

-布置所述支撐基礎(chǔ)(20)的撐腳(52)支撐在所述放置區(qū)域(134)上，每個配合機件(74)與所述水體的底部(12)接觸。

13.如權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，所述方法包括調(diào)節(jié)每個剛性調(diào)節(jié)機件(72)在沉箱之下突出的高度的一調(diào)節(jié)步驟，然后是使每個剛性調(diào)節(jié)機件(72)相對所述沉箱(70)固定不動的一固定步驟。

14.如權(quán)利要求13所述的方法，其特征在于，調(diào)節(jié)每個剛性調(diào)節(jié)機件(72)在所述沉箱(70)之下突出的高度的所述調(diào)節(jié)步驟在所述支撐基礎(chǔ)(20)完全浸入到所述水體(14)中之前進行。

15.如權(quán)利要求12-14中任一項所述的方法，其特征在于，通過使所述支撐基礎(chǔ)(20)在它自身的浮力的作用下保持部分浸入到所述水體(14)中來實現(xiàn)所述運輸步驟。