[發明專利]用于在基體上的改良涂層的非直角涂布器幾何結構無效
| 申請號: | 201080044402.1 | 申請日: | 2010-08-16 |
| 公開(公告)號: | CN102656293A | 公開(公告)日: | 2012-09-05 |
| 發明(設計)人: | J·W·麥卡米;J·F·索普克 | 申請(專利權)人: | PPG工業俄亥俄公司 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44;C23C16/455;C23C16/54 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 李帆 |
| 地址: | 美國俄*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 基體 改良 涂層 直角 涂布器 幾何 結構 | ||
發明背景
1.發明領域
本發明涉及一種具有非直角涂布器幾何結構的涂布裝置以改善基體上的涂層,并且更特別地,涉及相對玻璃帶表面設置化學氣相沉積(“CVD”)涂布器的涂布噴嘴,以使無論以順時針或逆時針方向相對涂布蒸氣流動的方向或玻璃帶移動的方向測量的來自涂布噴嘴的涂布蒸氣的流動方向與玻璃帶的移動方向的夾角大于0度且小于90度。
2.技術討論
向玻璃表面施加環境涂布層以選擇性地控制紫外線輻射、可見光和/或紅外線能量透射穿過玻璃。在現有技術中已知的一個用于沉積環境涂層的涂布工藝是化學氣相沉積(“CVD”)涂布工藝。通常CVD涂布器裝置包括一對間隔開的氣幕入口狹縫或噴嘴,具有一個或多個在氣幕狹縫之間的涂布區域和對涂布區域進行排氣的設備。每一個涂布區域包括在一對間隔開的排氣狹縫或噴嘴之間的涂布噴嘴或狹縫。具有兩個或多個涂布區域的CVD涂布器通常具有在相鄰涂布噴嘴之間和遠離相鄰涂布噴嘴的排氣狹縫,以便在涂布噴嘴兩側提供排氣狹縫。涂布噴嘴和排氣狹縫各自具有跨越涂布器寬度的細長形出口開口。
隨著涂布蒸氣移動通過涂布噴嘴并在玻璃帶表面上方向著排氣狹縫移動并進入排氣狹縫,在CVD涂布器的涂布噴嘴和排氣狹縫下方移動連續的玻璃帶。涂布器能夠安裝在玻璃成形室內,例如,但不限于如美國專利第4,853,257號和第5,356,718號中所教導的,在這種情況下玻璃帶沿著朝向玻璃成形室出口端的下游方向的路徑移動,或者涂布器能夠安裝在玻璃成形室出口端和玻璃退火爐入口端之間,例如,但不限于如美國專利第4,584,206號和第4,900,110號中的教導所論述的,在這種情況下玻璃帶沿著朝向玻璃退火爐入口端的下游方向的路徑移動。美國專利第4,584,206號;第4,853,257號;第4,900,110號和第5,356,718號在此通過參考引入。
盡管目前可獲得的CVD涂布器和涂布工藝在工業上是可接受的,但是具有局限性。更特別和更詳細的論述將在下面的發明詳述中給出,碎片顆粒在涂布噴嘴的入口狹縫開口邊緣和/或排氣狹縫開口邊緣積累。該碎片減小了涂布噴嘴和/或排氣狹縫出口開口的寬度,這導致了流動的破壞,由于伯努利效應,涂布蒸氣通過涂布噴嘴和/或排氣狹縫開口的流動降低或加速。涂布蒸氣流動的破壞或降低導致涂布層或膜具有涂布條紋。當在涂布中觀察到涂布條紋時,可做的選擇包括,但不限于從涂布噴嘴和/或排氣狹縫的出口開口處移除碎片,和/或挽救涂布條紋每一側的涂布玻璃并且丟棄具有涂布條紋的玻璃。
如本領域技術人員所理解的,停止涂布操作以從涂布噴嘴和/或排氣狹縫開口清除碎片,和/或丟棄具有顏色條紋的玻璃,對于解決問題來說都是昂貴的權宜之計。因此,在將涂層施加至玻璃帶時,使涂布工藝的操作連續,同時將碎片對于涂布噴嘴和/或排氣狹縫出口開口的影響消除或最小化將是有利的。
發明概述
本發明涉及一種氣相沉積涂布裝置,其中包括第一裝置和第二裝置,所述第一裝置用于沿第一方向路徑使基體移動通過涂布區域,其中通過涂布區域的該路徑由第一假想直線表示;涂布器包括涂布噴嘴和排氣狹縫,所述涂布噴嘴用于將涂布蒸氣引導至涂布區域,所述排氣狹縫用于從涂布區域移除蒸氣,其中涂布噴嘴和排氣狹縫彼此間隔開并且各自具有縱向軸;所述第二裝置用于相對該路徑間隔地安裝涂布器,其具有面向涂布區域的涂布噴嘴和排氣狹縫,其中垂直于涂布噴嘴和/或排氣狹縫的縱向軸的第二假想直線與第一假想直線的夾角范圍為大于0度至90度。
本發明還涉及一種化學氣相沉積涂布器,其腔室包含主表面、第一壁和相對的第二壁、以及從第一壁至第二壁延伸的中心線;位于腔室主表面上的涂布噴嘴的狹長開口;在腔室的第一壁和涂布噴嘴開口之間的、位于腔室主表面上的第一排氣狹縫的狹長開口,以及在腔室的第二壁和涂布噴嘴開口之間的、位于腔室主表面上的第二排氣狹縫的狹長開口,其中,涂布噴嘴的狹長開口、第一排氣狹長開口和第二排氣狹縫的狹長開口各自具有縱向軸,并且涂布噴嘴開口的縱向軸與腔室中心線的夾角大于0度且小于90度,和用于以氣體形態提供氣化的涂布混合物和使蒸氣移動通過腔室以及通過涂布噴嘴開口的裝置。
本發明還進一步涉及一種在沿著通過涂布區域的路徑而移動的基體上沉積涂層的方法,其中,以第一直線方向使基體移動通過涂布區域,和當它移動通過涂布區域時,將涂布蒸氣引導至基體表面,其中,在基體表面上方的涂布蒸氣的流動線路為第二方向,其中第一方向與第二方向的夾角范圍大于0度且小于90度。
本發明還涉及一種通過實施本發明的方法制備的涂布制品。
附圖簡述
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





