[發(fā)明專利]制造用于注射成型的壓模的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201080040404.3 | 申請日: | 2010-09-06 |
| 公開(公告)號: | CN102782577A | 公開(公告)日: | 2012-11-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 金暎奎;鄭錫在 | 申請(專利權(quán))人: | LG電子株式會社 |
| 主分類號: | G03F7/004 | 分類號: | G03F7/004 |
| 代理公司: | 隆天國際知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003 | 代理人: | 付永莉;鄭小軍 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 制造 用于 注射 成型 方法 | ||
1.一種制造用于注射成型的壓模的方法,該方法包括:
圖案形成步驟,用于在基材上形成預(yù)定的微型圖案;
金屬電鍍步驟,用于在該基材上電鍍金屬,以便形成其上翻刻有該微型圖案的壓模;
壓模分離步驟,用于使該基材與金屬電鍍的該壓模分離;以及
保護層涂覆步驟,用于在該壓模上涂覆保護層以維持鏡面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,在該金屬電鍍步驟中所電鍍的金屬為鎳或銅。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,該保護層由氮化鈦形成。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其中,該保護層涂覆步驟包括通過發(fā)射電子束來涂覆氮化鈦的步驟。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其中,該保護層涂覆步驟包括在氮保護氣氛或氮及氬的保護氣氛的真空室中,將電子束引向鈦以在該壓模上沉積鈦離子和氮離子的步驟。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,還包括超聲洗滌的步驟,用于將該壓模浸入溶液中并且對該壓模施加超聲波,以在該保護層涂覆步驟之前清洗該壓模。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其中,該溶液是丙酮溶液。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,該氮化鈦涂層具有0.2-0.6μm的厚度。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,該圖案形成步驟包括以下步驟;
在該基材上涂覆光致抗蝕劑;
對這樣涂覆的光致抗蝕劑進行軟烘;
將預(yù)定形狀的圖案掩模放置在涂覆有光致抗蝕劑的該基材上并且對該基材進行曝光;
對這樣曝光的光致抗蝕劑進行顯影;以及
對光致抗蝕劑的一部分進行硬烘,從而部分地清除光致抗蝕劑。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,還包括在該圖案形成步驟之后,在這樣形成的圖案上沉積籽晶層的步驟。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,該圖案形成步驟包括以下步驟:
在該基材上沉積金屬;
對這樣沉積的金屬進行電拋光;
對金屬進行第一次陽極氧化;
對這樣形成的金屬氧化物進行蝕刻和清除;
對還未氧化的金屬進行第二次陽極氧化;以及
通過該第二次陽極氧化來清除在該微型圖案與該基材之間形成的阻擋層。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
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