[發(fā)明專利]光刻設(shè)備和用于減小雜散輻射的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201080025210.6
• 申請(qǐng)日: 2010-05-04
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102460302A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-05-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: M·迪里希斯;M·奧林斯;H·范格瑞溫伯諾克;A·費(fèi)爾韋
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 吳敬蓮

相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用

本申請(qǐng)要求于2009年6月9日申請(qǐng)的美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)61/185,487的權(quán)益，且通過(guò)參考將其全部?jī)?nèi)容并入本文中。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請(qǐng)涉及一種包括遮擋裝置的光刻設(shè)備和一種光刻方法。

背景技術(shù)

光刻設(shè)備是一種將所需圖案應(yīng)用到襯底的目標(biāo)部分上的機(jī)器。例如，可以將光刻設(shè)備用在集成電路(IC)的制造中。在這種情況下，可以將可選地稱為掩模或掩模版的圖案形成裝置用于生成對(duì)應(yīng)于IC的單個(gè)層的電路圖案。可以將該圖案轉(zhuǎn)移到襯底(例如，硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如，包括一部分管芯、一個(gè)或多個(gè)管芯)上。典型地，經(jīng)由成像到在所述襯底上設(shè)置的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上，而將所述圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)部分上。通常，單個(gè)襯底將包含連續(xù)形成圖案的相鄰目標(biāo)部分的網(wǎng)絡(luò)。

傳統(tǒng)的光刻設(shè)備包括照射系統(tǒng)、保持圖案形成裝置的支撐件和投影系統(tǒng)。照射系統(tǒng)布置在輻射源(例如極紫外輻射等離子體源)和圖案形成裝置支撐件。所述照射系統(tǒng)配置成接收來(lái)自所述源的輻射，產(chǎn)生輻射束且將輻射束投影到圖案形成裝置上。輻射束通過(guò)圖案形成裝置來(lái)形成圖案。投影系統(tǒng)布置在圖案形成裝置支撐件和襯底之間。投影系統(tǒng)配置成將圖案化的輻射束投影到襯底的目標(biāo)部分上。

光刻設(shè)備中的雜散輻射可以降低圖案投影到襯底上的精度。

發(fā)明內(nèi)容

期望例如提供光刻設(shè)備，所述光刻設(shè)備減小了被投影到襯底上的雜散輻射的量。

根據(jù)一個(gè)方面，提供了一種光刻設(shè)備，包括：照射系統(tǒng)，配置成調(diào)節(jié)極紫外輻射束；支撐件，配置成保持圖案形成裝置，所述圖案形成裝置配置成將圖案賦予所述輻射束；襯底臺(tái)，配置成保持襯底；投影系統(tǒng)，配置成將所述圖案化的輻射束投影到所述襯底的目標(biāo)部分上；和遮擋裝置，配置成控制通過(guò)所述輻射束對(duì)所述圖案形成裝置的照射，所述遮擋裝置包括遮擋片，所述遮擋片配置成反射入射到所述遮擋片上的輻射，使得至少一部分所述被反射的輻射不被所述投影系統(tǒng)捕獲。

根據(jù)一個(gè)方面，提供了一種用于控制光刻設(shè)備中的極紫外輻射的反射的方法，所述方法包括以下步驟：朝向所述光刻設(shè)備中的圖案形成裝置投影極紫外輻射束；和在所述束的光路中使用在所述圖案形成裝置前面的遮擋片，以等于或大于特定角的角度反射所述輻射的至少一部分，使得所述被反射的輻射的至少一部分不被所述光刻設(shè)備中的投影系統(tǒng)所捕獲。

根據(jù)一個(gè)方面，提供了一種用于控制光刻設(shè)備中的輻射反射的方法，所述方法包括：在輻射束的光路中在所述光刻設(shè)備的圖案形成裝置和照射系統(tǒng)之間設(shè)置遮擋裝置，所述遮擋裝置包括遮擋片，所述遮擋片配置成反射從照射系統(tǒng)傳遞的輻射的至少一部分；和利用遮擋片以等于或大于特定角的角度反射輻射，使得所述被反射的輻射的至少一部分不被光刻設(shè)備的投影系統(tǒng)所捕獲。

根據(jù)一個(gè)方面，提供了一種用于光刻設(shè)備中的圖案形成裝置的遮擋裝置，所述遮擋裝置包括具有擴(kuò)散區(qū)域的遮擋表面，其中所述擴(kuò)散區(qū)域配置成反射極紫外輻射，使得所述被反射的輻射的至少一部分落到所述光刻設(shè)備的投影系統(tǒng)的角度捕獲范圍之外。

附圖說(shuō)明

現(xiàn)在參照隨附的示意性附圖，僅以舉例的方式，描述本發(fā)明的實(shí)施例，其中，在附圖中相應(yīng)的附圖標(biāo)記表示相應(yīng)的部件，且其中：

圖1示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的光刻設(shè)備；

圖2示意性地更詳細(xì)地示出了圖1的光刻設(shè)備的一部分；

圖3示意性地示出了光學(xué)部件的角度捕獲范圍；

圖4和5示意性地示出了現(xiàn)有技術(shù)的遮擋片；

圖6a示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的光刻設(shè)備中的遮擋片；

圖6b示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的光刻設(shè)備中的另一遮擋片；和

圖7示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的光刻設(shè)備中的又一遮擋片。

具體實(shí)施方式