[發明專利]具有防眩光表面的玻璃及其制備方法無效
| 申請號: | 201080024906.7 | 申請日: | 2010-03-26 |
| 公開(公告)號: | CN102448904A | 公開(公告)日: | 2012-05-09 |
| 發明(設計)人: | K·L·卡爾森;S·D·哈特;K·恩古耶;R·薩比亞;D·A·斯特恩奎斯特;張魯 | 申請(專利權)人: | 康寧股份有限公司 |
| 主分類號: | C03C15/00 | 分類號: | C03C15/00;C09K13/08 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 江磊 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 眩光 表面 玻璃 及其 制備 方法 | ||
相關申請的交叉參考
本申請要求2009年3月31日提交的美國臨時申請系列號第61/165,154號以及2009年9月15日提交的美國臨時專利申請第61/242,529號的權益。
背景技術
在許多便攜式和觸摸敏感型電子裝置中、特別是對于設計用于戶外使用的產品來說,經常需要減少從顯示器表面的鏡面反射。一種用來減少鏡面反射強度(通常用光澤定量)的方法是使得玻璃表面變粗糙或者用有紋理的膜覆蓋玻璃表面。該粗糙度或紋理的尺寸應當足夠大,以便對可見光進行散射,由此形成模糊或消光的表面,但是又不能過大,以免顯著影響玻璃的透明度。濕蝕刻法是一種能夠在玻璃上形成防眩光表面、同時能夠保持玻璃本身具有的表面機械性質的方法。在蝕刻過程中,使玻璃表面接觸化學物質,使得玻璃表面降解,形成一定程度的粗糙度,導致可見光的散射。具體來說,可以通過將鈉鈣硅酸鹽玻璃放在無機酸溶液中,從而在該玻璃上形成變粗糙的表面。溶液中的H+離子與玻璃中的可移動堿金屬離子交換,從而形成模糊的表面。但是,一個缺陷在于最后在表面處或表面附近堿金屬離子耗盡,通常會使得所述鈉鈣玻璃通過離子交換進行強化的能力降低。另外,濕蝕刻或選擇性浸出過程通常無法在其它的常用顯示器玻璃上制得均勻的防眩光表面,特別是無法在包含很少或者不含可移動堿金屬離子的其它的常用顯示器玻璃上形成均勻的防眩光表面。
發明概述
本發明提供了一種具有防眩光表面的玻璃制品。所述防眩光表面具有能夠產生所需的霧度和反射圖像的清晰度的紋理或粗糙度。在一個實施方式中,所述玻璃制品還包括設置在所述防眩光表面上的防污染表面。本發明還描述了制備所述玻璃制品和防眩光表面的方法。
因此,本發明一個方面是提供一種玻璃制品。所述玻璃制品具有防眩光表面,圖像清晰度小于95,霧度小于或等于50%。
本發明的第二個方面提供了一種制造具有防眩光表面的玻璃的方法。該方法包括以下步驟:提供所述玻璃制品;在所述玻璃制品的表面上形成晶體;以及從所述表面除去晶體,從而在所述玻璃制品上形成防眩光表面。
本發明的第三個方面提供了一種制備防眩光表面的方法。該方法包括以下步驟:提供玻璃基材;在所述玻璃基材的表面上形成晶體;從圍繞所述晶體的表面蝕刻玻璃;以及將所述晶體從所述表面除去,從而形成防眩光表面,其中,所述防眩光表面的霧度小于或等于50%,反射圖像的清晰度小于95。
本發明的第四個方面提供了一種用來在基材上形成防眩光表面的系統。該系統包括晶體形成溶液、以及晶體去除溶液和粗糙度調節溶液中的至少一種。所述晶體形成溶液包括第一蝕刻水溶液。所述第一蝕刻溶液在所述基材的表面上形成晶體,并對圍繞所述晶體的表面進行蝕刻,所述第一蝕刻溶液包含無機氟化物和潤濕劑。所述晶體去除溶液包含第二蝕刻溶液,所述第二蝕刻溶液將所述晶體從所述表面除去,并包含無機酸且不含HF。所述粗糙度調節溶液包括第三蝕刻水溶液,所述第三蝕刻溶液將所述粗糙度減小到最大粗糙度,包含HF和無機酸。
從以下詳細描述、附圖和所附權利要求書能明顯地看出本發明的這些和其它方面、優點和顯著特征。
附圖簡要說明
圖1是用第一蝕刻劑對玻璃制品進行處理的示意圖;
圖2是用第二蝕刻劑對玻璃制品進行處理的示意圖;
圖3是在堿金屬鋁硅酸鹽玻璃樣品的表面上形成的晶體的掃描電子顯微(SEM)圖(放大2000倍);
圖4是用氫氟酸(HF)作為第三蝕刻劑蝕刻之后,堿金屬鋁硅酸鹽玻璃樣品表面的SEM圖(放大800倍);
圖5是用包含NaOH和EDTA的蝕刻溶液蝕刻之后,堿金屬鋁硅酸鹽玻璃樣品表面的SEM圖(放大1000倍);
圖6是第三無氟蝕刻劑以及在第二蝕刻浴中所耗時間變化的實驗的結果匯總列表;
圖7是顯示用玻璃料與第二玻璃制品結合的玻璃制品的示意圖;以及
圖8是玻璃制品的防眩光表面的粗糙度和霧度隨光澤變化的關系圖。
詳述
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于康寧股份有限公司,未經康寧股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201080024906.7/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





