[發明專利]液晶顯示裝置

無效

• 申請號: 201080019031.1
• 申請日: 2010-04-28
• 公開（公告）號: CN102422208A
• 公開（公告）日: 2012-04-18
• 發明（設計）人: 松井浩平;八田薰
• 申請（專利權）人: 凸版印刷株式會社
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335;G02B5/00;G02B5/20;G02F1/1368;G09F9/30;G09F9/35
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 楊宏軍;王大方

技術領域

本發明涉及一種將液晶封入彩色濾光片與薄膜晶體管(TFT)基板之間而成的液晶顯示裝置。

背景技術

用于液晶顯示裝置的彩色濾光片在基板上具備構成像素的紅、綠及藍三種顏色的著色層、以及設置于各像素之間以遮蔽光的黑色矩陣。具有多個薄膜晶體管(包含像素電極、由半導體構成的開關元件及絕緣膜層)、以及源極布線及柵極布線的TFT基板與該彩色濾光片相對配置，并且它們兩者之間被封入液晶。

在彩色濾光片的制造工序中，通過光刻法(photolithography)對著色層及黑色矩陣進行圖案形成，在此情況下，采用的是使用多個小型光掩膜的曝光方法(以下，稱為“小型掩膜連續曝光方式”)。

圖6是表示彩色濾光片制造工序中的曝光方法的示意圖，是說明小型掩膜連續曝光方式的圖。

在使用小型掩膜曝光方式的曝光裝置中，并排配置多行具有小于基板94的掩膜的多個曝光頭90。在相鄰曝光頭90之間，無間隙地配置其他行的曝光頭90，使形成于各光掩膜的掩膜圖案的節距一定。

通過一邊使涂布有光阻劑的基板94在Y軸正方向(圖中箭頭方向)移動，一邊對如上所述那樣排列的多個曝光頭90多次重復進行曝光處理，能夠在基板94的整面上進行圖案的曬圖(print)。

在通過上述小型掩膜連續曝光方式形成彩色濾光片的著色圖案的情況下，產生的問題是，在通過曝光頭90的連接部分而被曝光的部分(圖6中雙點劃線附近。以下，將該部分也稱為“連接部分”)中，因曝光頭90的錯位而造成著色圖案的形成不均勻。

圖7是表示現有液晶顯示裝置的概要結構的一例的截面圖。此外，圖7中，雙點劃線對應于圖6所示的雙點劃線中的一個，并表示基板上的連接部分的位置。雙點劃線的左側示出的彩色濾光片的一部分與雙點劃線的右側示出的彩色濾光片的一部分分別通過不同的曝光頭曝光。

現有的液晶顯示裝置91具備相對而置的彩色濾光片92及TFT基板93。黑色矩陣95a和95b、以及著色層96a、96b、97a和97b形成在彩色濾光片92的基板94上，與黑色矩陣95a及95b相對配置的遮光部100a及100b形成在構成TFT基板93的基板99上。這些遮光部100a及100b是形成有與設置于TFT基板93上的薄膜晶體管連接的金屬布線的區域。

首先，在靠連接部分(雙點劃線)左側的像素區域中，形成于基板94上的各像素位置的著色層96a及97a都形成為與黑色矩陣95a部分重疊。通過使著色層96a與黑色矩陣95a重疊，來形成以上端邊緣119a為頂點的隆起物118a(圖中粗線部分)，通過使著色層97a與黑色矩陣95a重疊，來形成以上端邊緣129a為頂點的隆起物128a。此外，上端邊緣119a及129a在Y軸方向上的線上相連。此外，著色層96a與黑色矩陣95a重疊的部分的重疊寬度為W₉₁，著色層97a與黑色矩陣95a重疊的部分的重疊寬度為W₉₂。

其次，在靠連接部分(雙點劃線)右側的像素區域中，也是形成于基板94上的各像素位置的著色層96b及97b都形成為與黑色矩陣95b部分重疊。同樣地，通過使著色層96b及97b與黑色矩陣95b重疊，來分別形成以上端邊緣119b為頂點的隆起物118b、以及以上端邊緣129b為頂點的128b。雖然著色層96b與黑色矩陣95b的重疊部分的重疊寬度與靠連接部分左側的像素區域同樣的都為W₉₁，但由于在使著色層97b曝光時曝光頭產生錯位，因此著色層97a與黑色矩陣95a的重疊部分的重疊寬度為W₉₃(＜W₉₂)。并且，上端邊緣129b位于被遮光部100b遮光的區域的外側。

在著色層與黑色矩陣的重疊部分的重疊寬度在連接部分的兩側不同的情況下，透過連接部分的左側的光L₉₁和透過右側的光L₉₂的射出方向不同。并且，在上端邊緣119b位于遮光部的遮光區域外側的情況下，光L₉₂經過上端邊緣119b。其結果，透過連接部分左側的光L₉₁與透過右側的光L₉₂的射出方向的差異變得更大。該連接部分兩側的光輸出的差異導致液晶顯示裝置的圖像的顯示不均勻。

此外，使用圖7所示的結構的彩色濾光片的液晶顯示裝置還有以下問題。

圖8是表示現有的液晶顯示裝置的概要結構的其它一例的截面圖。