[發(fā)明專利]大面積半導(dǎo)體器件的電氣及光電子表征有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201080018738.0 | 申請(qǐng)日: | 2010-04-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102439467A | 公開(公告)日: | 2012-05-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 菲利普·戴爾;蘇珊娜·西奔特力特 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 盧森堡大學(xué);TDK株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G01R31/26 | 分類號(hào): | G01R31/26;H01G9/20 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 孫紀(jì)泉 |
| 地址: | 盧森堡*** | 國省代碼: | 盧森堡;LU |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 大面積 半導(dǎo)體器件 電氣 光電子 表征 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種用于大面積半導(dǎo)體器件的電氣及光電子表征的方法和裝置。尤其是,本發(fā)明涉及在工業(yè)生產(chǎn)線中的此類半導(dǎo)體器件的表征。
背景技術(shù)
薄膜太陽能電池制造商生產(chǎn)由很多堆疊薄層構(gòu)成的昂貴產(chǎn)品。圖1示出太陽能電池的一個(gè)例子,圖1采用的形式是薄膜Cu(ln,Ga)(S,Se)2(下面稱為CIGS)的結(jié)構(gòu)的橫截面。該結(jié)構(gòu)的各個(gè)層依次沉積在玻璃基底11上。鉬導(dǎo)電層12提供電接觸到該結(jié)構(gòu)的背側(cè)。在鉬的上面是光吸收p型半導(dǎo)體層13,該層可以從CIGS選出。在它的上面是半導(dǎo)體緩沖層14,該緩沖層可以從CdS選出,在該層上面是透明窗層15和16,其首先包括非故意摻雜的ZnO層15,以及故意摻雜的氧化鋅層16。
所有的層都是重要的,需要精確控制沉積條件以從這些層獲得需要的特性,以制造有效的太陽能器件。一個(gè)問題是在大面積上獲得期望的控制,對(duì)于太陽能電池應(yīng)用來說大面積通常是在一或更大平方米的量級(jí)上。
在繼續(xù)完成堆疊的剩余部分以及因而完成太陽能器件之前,制造商很想證實(shí)半導(dǎo)體層已經(jīng)被正確沉積。如果它們能夠在所有區(qū)域上確定已沉積的半導(dǎo)體的光電子特性是否合適的話,他們將在他們的制造過程中提高產(chǎn)量并減少浪費(fèi)。大規(guī)模制造的典型問題是沉積不一致或在退火期間加熱不一致。
典型的太陽能電池生產(chǎn)過程在圖2a到2f中示出。在第一步驟(a)中,用作背電極的鉬導(dǎo)電層22被沉積在玻璃基底21(圖2a)。在步驟(b)中,接著用P1劃針(scribe)除去限定區(qū)域中的Mo層22(圖2b)。在第三步驟(c)中,光吸收Cu(ln,Ga)(S,Se)2p型半導(dǎo)體層23被沉積(圖2c)。此后,緩沖層例如硫化鎘層24在步驟(d)中被沉積,如圖2d所示。隨后,在步驟(e)中包括非故意摻雜的氧化鋅的透明窗層25被沉積在CdS緩沖層24上面(圖2e)。在步驟(f)中使用最終P2劃針除去所有沉積的層23至25,直到Mo導(dǎo)電層22在限定區(qū)域26中露出(圖2f)。在圖2中未示出的是,最終故意摻雜的氧化鋅層可以加到堆疊上以連接兩個(gè)單獨(dú)的電池。
為了知道半導(dǎo)體層是否在太陽能器件中正確執(zhí)行其功能,制造商目前使用間接測(cè)量來查明材料具有與特定性能特征相關(guān)的特定性質(zhì)。已知兩種吸收體層半導(dǎo)體材料質(zhì)量間接測(cè)量方法:拉曼光譜和光致發(fā)光壽命。已經(jīng)發(fā)現(xiàn),Cu(ln,Ga)(S,Se)2的特征拉曼響應(yīng)峰的寬度與該器件能產(chǎn)生的最大電壓相關(guān)。還有,在用激光激勵(lì)之后,吸收體層的光致發(fā)光的壽命與最終器件性能相關(guān)。另外,可以通過機(jī)械壓抵吸收體層并測(cè)量其導(dǎo)電性來測(cè)量吸收體層的導(dǎo)電性。
目前沒有直接的在線方法來確定該器件將產(chǎn)生多大的電流,該器件將吸收太陽光光譜的哪一部分(器件的能帶隙),以及完成的電池將具有多高的電壓。當(dāng)前,為了確定這些特性,半導(dǎo)體層必須實(shí)體地電接觸前側(cè)和背側(cè)兩者。P型半導(dǎo)體背側(cè)一般沉積在提供在背面的接觸的導(dǎo)電基板或?qū)щ妼拥纳厦妗H欢紤]到測(cè)試,半導(dǎo)體前側(cè)也必須要被接觸到。
一種接觸半導(dǎo)體前側(cè)的途經(jīng)是使用導(dǎo)電的方案,其本身可以被外部電極例如鉑“接觸”。該方案提供透明的電觸點(diǎn),調(diào)查用光可以通過所述透明電觸點(diǎn)以詢問(interrogate)半導(dǎo)體。此類技術(shù)一般被叫做光電化學(xué),并在文獻(xiàn)(Dale?P?J等人,2007ECStransactions?6;及Duffy?N?W等人,2002J.Electroanal.Chem.532?207-14)中介紹。一旦半導(dǎo)體被電接觸,光線可以照射到其上,而確定該層的光電特性。關(guān)鍵的優(yōu)點(diǎn)是,該方案提供一種非常容易除去(例如,洗掉就可以)的前側(cè)接觸,或者如果正確選擇接觸方案的話,可以形成電池制造過程的一部分。
然而,上面描述的光電化學(xué)技術(shù)僅限于實(shí)驗(yàn)室規(guī)模(例如1×1cm2),而不能用在較大面積例如平方米規(guī)模上,后者是工業(yè)生產(chǎn)過程中實(shí)際使用的大小。
本發(fā)明目的在于克服或至少減輕已知的現(xiàn)有技術(shù)表征方法和裝置的缺點(diǎn)。本發(fā)明還意圖提供一種電氣及/或光電子表征方法,該方法可以在大面積半導(dǎo)體器件的制造過程中使用。
發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)第一方面,本發(fā)明提出一種用于測(cè)試在生產(chǎn)中的大面積半導(dǎo)體器件的電氣及/或光電子表征方法,該方法包括下述步驟:
提供第一電極并將其設(shè)置成與半導(dǎo)體器件的導(dǎo)電層的接觸區(qū)域電接觸;
提供可移動(dòng)的電極組件,其包括保持電解質(zhì)溶液和至少第二電極的容器,將所述第二電極浸沒到所述電解質(zhì)溶液中,
放置電極組件使得電解質(zhì)溶液設(shè)置成讓第二電極與半導(dǎo)體器件的上表面電接觸;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于盧森堡大學(xué);TDK株式會(huì)社,未經(jīng)盧森堡大學(xué);TDK株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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G01R 測(cè)量電變量;測(cè)量磁變量
G01R31-00 電性能的測(cè)試裝置;電故障的探測(cè)裝置;以所進(jìn)行的測(cè)試在其他位置未提供為特征的電測(cè)試裝置
G01R31-01 .對(duì)相似的物品依次進(jìn)行測(cè)試,例如在成批生產(chǎn)中的“過端—不過端”測(cè)試;測(cè)試對(duì)象多點(diǎn)通過測(cè)試站
G01R31-02 .對(duì)電設(shè)備、線路或元件進(jìn)行短路、斷路、泄漏或不正確連接的測(cè)試
G01R31-08 .探測(cè)電纜、傳輸線或網(wǎng)絡(luò)中的故障
G01R31-12 .測(cè)試介電強(qiáng)度或擊穿電壓
G01R31-24 .放電管的測(cè)試





