[發(fā)明專利]對無機薄膜涂層具有改善粘附力的耐劃痕涂層

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201080013801.1
• 申請日: 2010-03-26
• 公開（公告）號: CN102388056A
• 公開（公告）日: 2012-03-21
• 發(fā)明（設計）人: T·J·恩格阿德;G·Y·胡;D·K·康;E·S·羅里
• 申請（專利權）人: 昔格耐阿莫立脫股份有限公司
• 主分類號: C07F7/02
• 分類號: C07F7/02;G02B1/10
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 沙永生

1.一種制備具有耐劃痕涂層的眼鏡鏡片的方法，其包括以下步驟：

提供包含聚倍半硅氧烷的可聚合的耐劃痕涂層組合物；

將在鏡片表面上的耐劃痕涂層組合物聚合，

以及將聚合后的耐劃痕涂層組合物暴露于氧化條件下。

2.如權利要求1所述的方法，其中聚倍半硅氧烷是多面體低聚倍半硅氧烷。

3.如權利要求2所述的方法，其中多面體低聚倍半硅氧烷具有選自如下的結(jié)構：

4.如權利要求1所述的方法，其中聚倍半硅氧烷含有能形成聚倍半硅氧烷聚合物的活性基團。

5.如權利要求4所述的方法，其中所述的活性基團是烯鍵型不飽和基團。

6.如權利要求4所述的方法，其中所述的活性基團是甲基丙烯酸酯。

7.如權利要求1所述的方法，其中耐劃痕涂層組合物還包括單體，且該多面體低聚倍半硅氧烷具有能夠形成聚倍半硅烷聚合物和/或該單體與聚倍半硅氧烷的共聚物的活性基團。

8.如權利要求7所述的方法，其中該活性基團是烯鍵型不飽基團，并且該單體選自(甲基)丙烯酸單體，(甲基)丙烯酸低聚物及其組合。

9.如權利要求1所述的方法，其中耐劃痕涂層組合物通過模內(nèi)方法在鏡片的表面上聚合。

10.如權利要求1所述的方法，其中氧化條件選自臭氧、氧氣等離子體、短波長紫外線或電子束輻射。

11.如權利要求1所述的方法，其中氧化條件包括暴露在波長約185nm和輻射度約為10毫瓦/厘米²的光下。

12.如權利要求11所述的方法，其中暴露時間為約1分鐘至約8分鐘。

13.如權利要求11所述的方法，其中暴露時間為約2分鐘至約4分鐘。

14.如權利要求1所述的方法，其中氧化條件包括暴露在氧氣中濃度約為55mg/l的臭氧中。

15.如權利要求14所述的方法，其中暴露時間為約2小時。

16.一種用于眼鏡鏡片的耐劃痕涂層，其包括含有聚倍半硅氧烷的聚合物，并且該涂層通過暴露在氧化條件下進行化學改性。

17.如權利要求16的耐劃痕涂層，其中聚倍半硅氧烷為多面體低聚倍半硅氧烷。

18.如權利要求17的耐劃痕涂層，其中多面體低聚倍半硅氧烷具有選自以下的結(jié)構：

19.如權利要求16的耐劃痕涂層，其進一步包含單體，并且其中聚倍半硅氧烷具有能夠形成聚倍半硅氧烷聚合物和/或聚倍半硅氧烷與單體的共聚物的活性基團。

20.如權利要求19的耐劃痕涂層，其中活性基團為烯鍵型不飽和基團。

21.如權利要求19的耐劃痕涂層，其中該單體選自(甲基)丙烯酸單體、(甲基)丙烯酸低聚物以及它們的組合。

22.如權利要求19的耐劃痕涂層，其中活性基團為甲基丙烯酸酯。

23.如權利要求16的耐劃痕涂層，其中氧化條件選自臭氧、氧等離子體、短波長紫外線或電子束輻射。

24.一種眼鏡鏡片，其包括：

光學鏡片；

光學鏡片表面的耐劃痕涂層，該涂層包括含有聚倍半硅氧烷的聚合物，以及該耐劃痕涂層的表面通過暴露于氧化條件下進行化學改性；

和耐劃痕涂層表面上的無機薄膜涂層。

25.如權利要求24的眼鏡鏡片，其中無機薄膜涂層包括與耐劃痕涂層相鄰的硅氧化物層。

26.如權利要求24的眼鏡鏡片，其中氧化條件選自臭氧、氧等離子體、短波長紫外線或電子束輻射。

27.如權利要求24的眼鏡鏡片，其進一步包含單體，并且聚倍半硅氧烷具有能夠形成聚倍半硅氧烷聚合物和/或聚倍半硅氧烷與該單體的共聚物的活性基團。

28.如權利要求27的眼鏡鏡片，其中活性基團為烯鍵型不飽和基團。