[發明專利]含氧化合物的制造方法

無效

• 申請號: 201080008176.1
• 申請日: 2010-02-17
• 公開（公告）號: CN102317247A
• 公開（公告）日: 2012-01-11
• 發明（設計）人: 葭田真昭
• 申請（專利權）人: 國立大學法人宇都宮大學
• 主分類號: C07C45/40
• 分類號: C07C45/40;B01J3/00;C07C47/02;C07C47/12;C07C49/04;C07C49/433;C07C49/786;C07C51/34;C07C53/126;C07C55/14;C07C55/18;C07C59/147;C07C59/185
• 代理公司: 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262
• 代理人: 武晶晶;鄭霞

1.一種含氧化合物的制造方法，其特征在于，包括：

臭氧化反應工序，在將氧含量低于10％的臭氧溶解于高壓二氧化碳的狀態下，與有機化合物一起連續供給細管狀的臭氧化反應部，在由所述臭氧熱分解而產生氧被抑制的條件下，使所述臭氧與所述有機化合物反應，從而連續生成臭氧化物；

分解反應工序，接續所述臭氧化反應工序而設置，將所述臭氧化反應工序中生成的臭氧化物連續供給細管狀的分解反應部，從而連續生成含氧化合物。

2.如權利要求1所述的含氧化合物的制造方法，其特征在于，所述細管狀的臭氧化反應部由可以包含曲線形狀的管徑1.0mm～30mm的范圍的細管形成。

3.如權利要求2所述的含氧化合物的制造方法，其特征在于，所述由臭氧熱分解而產生氧被抑制的條件為，將供給所述臭氧化反應部的由所述臭氧、所述有機化合物及所述高壓二氧化碳構成的流體的流量調節為0.5mL/min～10.0mL/min的范圍。

4.如權利要求1～3中任一項所述的含氧化合物的制造方法，其特征在于，所述由臭氧熱分解而產生氧被抑制的條件為，將所述臭氧化反應部中的所述臭氧的濃度調節為0.01M～0.5M的范圍。

5.如權利要求1～4中任一項所述的含氧化合物的制造方法，其特征在于，在高壓二氧化碳中的各溫度下的臭氧熱分解的經時變化的相關圖中，將各溫度下的臭氧的殘存率為90％以上的溫度及時間設定為臭氧化反應部的溫度及反應時間。

6.如權利要求1～5中任一項所述的含氧化合物的制造方法，其特征在于，所述有機化合物為末端烯烴、環狀烯烴或內烯烴。

7.如權利要求6所述的含氧化合物的制造方法，其特征在于，所述末端烯烴用通式(1)表示，

通式(1)

[化學式3]

式中，R¹、R²相同或不同，表示氫原子、鹵原子、羧基、烷氧羰基、醛基、碳數1～30的烷基、碳數1～4的烷氧基、碳數2～5的酰基、環烷基、芳基，這些烷基鏈可以用碳數1～4的烷氧基、碳數5～7的環烷基、芳基、芳烷基、羧基、烷氧羰基、醛基、碳數2～5的酰基、羥基、巰基、鹵原子取代；另外，表示R¹、R²一起形成的5～7元環的環烷基或雜環，在這些環烷基或雜環上可以增環其它3～7元環的環烷基或雜環，這些烷基鏈可以獨立地用碳數1～4的烷基、碳數1～4的烷氧基、碳數5～7的環烷基、芳基、芳烷基、羧基、烷氧羰基、醛基、碳數2～5的?；⒘u基、巰基、鹵原子取代。

8.如權利要求6所述的含氧化合物的制造方法，其特征在于，所述環狀烯烴用下述通式(2)表示，

通式(2)

[化學式4]

式中，n表示0～3的整數，R¹、R²、R³、R⁴、R⁵相同或不同，表示氫原子、鹵原子、羥基、羰基、羧基、烷氧羰基、醛基、亞氨基、碳數1～4的烷基或鏈烯基、碳數1～4的烷氧基、碳數2～5的?；?、或相鄰的基團彼此之間一起形成的3～7元環的環烷基或雜環、芳基、酸酐、或者R¹和R⁴、R¹和R³、或R²和R⁴是用碳數1～3的碳鏈橋接成的基團，這些烷基鏈可以獨立地用碳數1～4的烷基、碳數1～4的烷氧基、碳數5～7的環烷基、芳基、芳烷基、羧基、烷氧羰基、醛基、碳數2～5的酰基、羥基、巰基、鹵原子取代。

9.如權利要求6所述的含氧化合物的制造方法，其特征在于，所述內烯烴為香茅醇或葉綠醇等不飽和醇、香茅醛等不飽和醛、油酸或菊酸等不飽和羧酸或其酯、或者天然橡膠或聚異戊二烯。

10.如權利要求1～5中任一項所述的含氧化合物的制造方法，其特征在于，所述有機化合物為β-蒎烯，所述含氧化合物為不蒎酮。

11.如權利要求1～5中任一項所述的含氧化合物的制造方法，其特征在于，所述有機化合物為3-亞甲基-4H-六氫呋喃并[2，3-b]呋喃，所述含氧化合物為4H-六氫呋喃并[2，3-b]呋喃-3-酮。