[發明專利]高純度鉺的制造方法、高純度鉺、包含高純度鉺的濺射靶以及以高純度鉺為主要成分的金屬柵膜

有效

• 申請號: 201080006117.0
• 申請日: 2010-01-13
• 公開（公告）號: CN102301018A
• 公開（公告）日: 2011-12-28
• 發明（設計）人: 新藤裕一朗;八木和人
• 申請（專利權）人: 吉坤日礦日石金屬株式會社
• 主分類號: C22B59/00
• 分類號: C22B59/00;C22B9/02;C22B9/04;C22B9/14;C22C28/00;C23C14/34
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 王海川;穆德駿

1.一種高純度鉺的制造方法，其特征在于，將氧化鉺與還原金屬混合后，在真空中加熱，還原為金屬鉺的同時進行蒸餾，再將蒸餾物在惰性氣氛中熔融，得到高純度的鉺。

2.如權利要求1所述的高純度鉺的制造方法，其特征在于，進行鉺的還原和蒸餾時，加熱到1500～2500℃的溫度。

3.如權利要求1或2所述的高純度鉺的制造方法，其特征在于，使用純度3N以下的氧化鉺作為原料，將其純化而得到純度4N以上的高純度鉺。

4.如權利要求1～3中任一項所述的高純度鉺的制造方法，其特征在于，能夠實現：除稀土元素和氣體成分以外的純度為4N以上，氧含量為200重量ppm以下，堿金屬的各元素分別為10重量ppm以下，過渡金屬的各元素分別為100重量ppm以下，放射性元素分別為10重量ppb以下。

5.一種高純度鉺，其特征在于，除稀土元素和氣體成分以外的純度為4N以上，氧含量為200重量ppm以下。

6.如權利要求5所述的高純度鉺，其特征在于，堿金屬元素分別為10重量ppm以下，過渡金屬的各元素分別為100重量ppm以下，放射性元素分別為10重量ppb以下。

7.一種高純度鉺濺射靶，其特征在于，除稀土元素和氣體成分以外的純度為4N以上，氧含量為200重量ppm以下，堿金屬的各元素分別為10重量ppm以下，過渡金屬的各元素分別為100重量ppm以下，放射性元素分別為10重量ppb以下。

8.一種以高純度鉺為主要成分的金屬柵膜，其特征在于，除稀土元素和氣體成分以外的純度為4N以上，氧含量為200重量ppm以下，堿金屬的各元素分別為10重量ppm以下，過渡金屬的各元素分別為100重量ppm以下，放射性元素分別為10重量ppb以下。