[實用新型]藍光激光器無效
| 申請號: | 201020689895.1 | 申請日: | 2010-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN201910569U | 公開(公告)日: | 2011-07-27 |
| 發明(設計)人: | 張瑛;畢勇;劉誼元 | 申請(專利權)人: | 北京中視中科光電技術有限公司 |
| 主分類號: | H01S3/06 | 分類號: | H01S3/06;H01S3/00 |
| 代理公司: | 北京泛華偉業知識產權代理有限公司 11280 | 代理人: | 王勇 |
| 地址: | 100094 北京市海淀區永豐高新*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 激光器 | ||
技術領域
本實用新型涉及光學領域,特別涉及一種藍光激光器。
背景技術
LD泵浦的固體激光器由于具有較高的能量轉換效率以及體積小、結構緊湊、穩定、壽命長和全固化等優點而具有廣闊的應用前景。在具體應用中,對激光器所發出激光的顏色有多種需求,發出藍色激光的藍光激光器就是一種常見的激光器。目前,LD泵浦的固體藍光激光器主要包括LD泵浦光源、激光晶體和倍頻晶體。其中,激光晶體接收到LD泵浦光源發射的泵浦光后,將泵浦光轉換為基頻光,該基頻光通過所述倍頻晶體后變為倍頻光,波長在420nm~470nm范圍內的倍頻光屬于藍光。
在LD端面泵浦固體激光器中,通常通過鍍膜的方法使得激光晶體的一個端面作為激光器中諧振腔的前腔鏡。圖1為現有技術中在激光晶體的兩端面鍍激光膜的一種方式,即在激光晶體的入光面鍍泵浦光高透、基頻光和倍頻光高反的膜,在激光晶體的出光面鍍基頻光高透膜和倍頻光高反膜。在通過上述方式完成鍍膜操作以后,可將所得到的激光晶體的入光面作為諧振腔的前腔鏡。
但是上述現有鍍膜方法有如下缺點:
1)、激光晶體中未吸收的泵浦光會從激光晶體的出光面出射,降低了激光晶體對泵浦光的吸收效率。現有技術中提高激光晶體對泵浦光的吸收率可以采用提高激光晶體摻雜濃度或加長激光晶體通光方向長度的方法。但對于藍光激光器而言,具有較高摻雜濃度的激光晶體不僅會吸收泵浦光,還會吸收由泵浦光轉化而成的基頻光,即再吸收現象嚴重,因此位于藍光激光器中的激光晶體必需保持在一個較低的摻雜濃度下;而加長激光晶體通光方向長度的方法也會使再吸收現象加重,此外,考慮到泵浦光聚焦系統、最佳模式匹配等因素,激光晶體的長度也不可能增加很多。
2)、通過倍頻晶體產生的倍頻光一部分從倍頻晶體的出光面出射,還有一部分倍頻光通過鍍有倍頻光高透膜的激光晶體出光面入射到激光晶體中,激光晶體吸收到倍頻光后,增加了激光晶體的熱效應,降低了激光晶體的穩定性。
實用新型內容
本實用新型的目的是克服現有藍光激光器中的鍍膜方法使得激光晶體對泵浦光的吸收效率較低的缺陷,從而提供一種具有較高吸收效率的綠光激光器。
為了實現上述目的,本實用新型提供了一種藍光激光器,包括用于發射泵浦光的LD泵浦光源、用于將泵浦光轉換為基頻光的激光晶體以及用于將基頻光轉換為藍色倍頻光的倍頻晶體,所述激光晶體的出光面上則鍍有泵浦光部分反射膜;其中,
所述泵浦光部分反射膜將所述激光晶體尚未轉換的泵浦光反射回所述激光晶體內。
上述技術方案中,所述激光晶體的入光面上鍍有泵浦光高透膜、基頻光高反膜和倍頻光高反膜,所述激光晶體的出光面上還鍍有基頻光高透膜以及倍頻光高透膜。
上述技術方案中,所述激光晶體的入光面上鍍有泵浦光高透膜以及基頻光高反膜,所述激光晶體的出光面上還鍍有基頻光高透膜以及倍頻光高反膜。
上述技術方案中,還包括聚焦透鏡,所述聚焦透鏡位于所述LD泵浦光源與激光晶體之間,用于將所述LD泵浦光源發射的泵浦光聚焦后發射到所述激光晶體上。
上述技術方案中,所述泵浦光部分反射膜的反射率要使得所反射的泵浦光經由所述激光晶體的出光面透射出后的光功率小于所述LD泵浦光源的損傷閾值。
上述技術方案中,所述LD泵浦光源所發出的泵浦光的波長為808nm,所述泵浦光部分反射膜為適合反射波長為808nm的光的部分反射膜。
本實用新型還提供了一種藍光激光器,包括用于發射泵浦光的LD泵浦光源、用于將泵浦光轉換為基頻光的激光晶體以及用于將基頻光轉換為藍色倍頻光的倍頻晶體,所述激光晶體的出光面上鍍有倍頻光高反膜;其中,
所述倍頻光高反膜將所述倍頻晶體所生成的且入射到所述激光晶體上的倍頻光反射回所述倍頻晶體。
上述技術方案中,所述激光晶體的入光面上鍍有泵浦光高透膜和基頻光高反膜,所述激光晶體的出光面上還鍍有基頻光高透膜。
上述技術方案中,所述激光晶體的入光面上鍍有泵浦光高透膜和基頻光高反膜,所述激光晶體的出光面上還鍍有基頻光高透膜和泵浦光部分反射膜;所述泵浦光部分反射膜將所述激光晶體尚未轉換的泵浦光反射回所述激光晶體內。
上述技術方案中,還包括聚焦透鏡,所述聚焦透鏡位于所述LD泵浦光源與激光晶體之間,用于將所述LD泵浦光源發射的泵浦光聚焦后發射到所述激光晶體上。
上述技術方案中,所述泵浦光部分反射膜的反射率要使得所反射的泵浦光經由所述激光晶體的出光面透射出后的光功率小于所述LD泵浦光源的損傷閾值。
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