[實(shí)用新型]電子元件極性反轉(zhuǎn)裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201020288906.5 | 申請日: | 2010-08-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN201761919U | 公開(公告)日: | 2011-03-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 莊長光 | 申請(專利權(quán))人: | 鋅詠豐精密科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | B65G47/244 | 分類號(hào): | B65G47/244;B65B35/58 |
| 代理公司: | 中國商標(biāo)專利事務(wù)所有限公司 11234 | 代理人: | 萬學(xué)堂 |
| 地址: | 中國臺(tái)*** | 國省代碼: | 中國臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電子元件 極性 反轉(zhuǎn) 裝置 | ||
1.一種電子元件極性反轉(zhuǎn)裝置,其特征在于,包括:
一測盤,為可轉(zhuǎn)動(dòng)形態(tài)的圓形盤體,并且于頂面的周緣以環(huán)繞且等間隔的形態(tài)凹設(shè)多個(gè)容槽,多個(gè)容槽分別于該測盤的周面形成開口;
一反轉(zhuǎn)構(gòu)造,設(shè)有一外筒,為圓環(huán)形的管體并位于該測盤旁,于該外筒朝向該測盤半側(cè)的等高位置,以間隔的形態(tài)各穿設(shè)一入口以及一出口,該入口與該出口的位置與各容槽等高;于該外筒內(nèi)以同心的形態(tài)設(shè)有一中柱,為圓形的柱體并且于周面的相反兩側(cè)貫穿設(shè)有一直線的隧道,為高度與該入口等高的孔道并具有一入口端以及一出口端,該入口端朝向該入口;
于該中柱與該外筒之間以可轉(zhuǎn)動(dòng)的形態(tài)設(shè)有一轉(zhuǎn)動(dòng)環(huán),為圓形的環(huán)體并且于頂面以環(huán)繞且等間隔的形態(tài)凹設(shè)多個(gè)置槽,多個(gè)置槽分別于該轉(zhuǎn)動(dòng)環(huán)的內(nèi)周面以及外周面形成開口,多個(gè)置槽的高度分別與該入口、該隧道以及該出口等高,并且其中三個(gè)置槽分別連接于該入口與該入口端、正對該出口以及正對該出口端;
一進(jìn)入軌道,為具有兩端的軌道且設(shè)于該測盤與該外筒之間與該入口同側(cè)的位置,并以一端連接該測盤的其中一容槽,又以另一端結(jié)合于該外筒的入口;以及
一送出軌道,為具有兩端的軌道且設(shè)于該測盤與該外筒之間與該出口同側(cè)的位置,并以一端連接該外筒的出口,又以另一端結(jié)合于該測盤的另一容槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子元件極性反轉(zhuǎn)裝置,其特征在于,于所述中柱高于所述隧道的表面朝內(nèi)穿設(shè)一隧道氣道,其內(nèi)端朝下連接于所述隧道位于入口端處的頂部。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電子元件極性反轉(zhuǎn)裝置,其特征在于,正對于所述出口端的置槽與正對于所述出口的置槽之間間隔一個(gè)以上的置槽;連接所述進(jìn)入軌道的容槽與連接所述送出軌道的容槽之間間隔的容槽數(shù)量與正對于所述出口端的置槽與正對于所述出口的置槽之間間隔的置槽的數(shù)量相同。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電子元件極性反轉(zhuǎn)裝置,其特征在于,正對于所述出口端的置槽與正對于所述出口的置槽之間間隔兩個(gè)置槽。
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