[實用新型]研磨液手臂以及化學機械研磨設備

有效

• 申請號: 201020264923.5
• 申請日: 2010-07-20
• 公開（公告）號: CN201841472U
• 公開（公告）日: 2011-05-25
• 發明（設計）人: 高思瑋
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司
• 主分類號: B24B57/02
• 分類號: B24B57/02;B24B37/00;H01L21/304
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

1.一種研磨液手臂，設置在化學機械研磨設備中，所述化學機械研磨設備包括多個研磨平臺、罩設在多個研磨平臺上的蓋子、去離子水管路以及研磨液管路，其特征在于，所述研磨液手臂包括：殼體，至少一個研磨液噴嘴、至少一個第一清洗噴嘴以及至少一個第二清洗噴嘴，所述研磨液噴嘴與所述研磨液管路連通，所述第一清洗噴嘴和第二清洗噴嘴均設置于所述殼體上并與所述去離子水管路連通，所述第二清洗噴嘴的方向與所述蓋子的方向相對應，以使所述第二清洗噴嘴噴出的去離子水能夠清洗所述蓋子。

2.如權利要求1所述的研磨液手臂，其特征在于，所述殼體包括第一壁、第二壁以及由所述第一壁和第二壁限定的容置空間。

3.如權利要求2所述的研磨液手臂，其特征在于，所述第一清洗噴嘴設置在所述第一壁上，所述第二清洗噴嘴設置在所述第二壁上。

4.如權利要求2所述的研磨液手臂，其特征在于，所述第二清洗噴嘴與水平方向的夾角在30度至75度之間。

5.如權利要求2所述的研磨液手臂，其特征在于，還包括第一去離子水支路和設置在第一去離子水支路上的第一閥，所述第一去離子水支路設置在所述容置空間內，所述第一清洗噴嘴通過第一去離子水支路與去離子水管路連通。

6.如權利要求2所述的研磨液手臂，其特征在于，還包括第二去離子水支路和設置在第二去離子水支路上的第二閥，所述第二去離子水支路設置在所述容置空間內，所述第二清洗噴嘴通過第二去離子水支路與去離子水管路連通。

7.如權利要求1至6中任意一項所述的研磨液手臂，其特征在于，所述第二清洗噴嘴的數量為2～5個。

8.一種化學機械研磨設備，包括多個研磨平臺、罩設在多個研磨平臺上的蓋子、去離子水管路、研磨液管路以及多個研磨液手臂，其特征在于，所述研磨液手臂包括：殼體，至少一個研磨液噴嘴、至少一個第一清洗噴嘴以及至少一個第二清洗噴嘴，所述研磨液噴嘴與所述研磨液管路連通，所述第一清洗噴嘴和第二清洗噴嘴均設置于所述殼體上并與所述去離子水管路連通，所述第二清洗噴嘴的方向與所述蓋子的方向相對應，以使所述第二清洗噴嘴噴出的去離子水能夠清洗所述蓋子。

9.如權利要求8所述的化學機械研磨設備，其特征在于，所述殼體包括第一壁、第二壁以及由所述第一壁和第二壁限定的容置空間。

10.如權利要求9所述的化學機械研磨設備，其特征在于，所述第一清洗噴嘴設置在所述第一壁上，所述第二清洗噴嘴設置在所述第二壁上。

11.如權利要求9所述的化學機械研磨設備，其特征在于，所述第二清洗噴嘴與水平方向的夾角在30度至75度之間。

12.如權利要求9所述的化學機械研磨設備，其特征在于，所述研磨液手臂還包括第一去離子水支路和設置在第一去離子水支路上的第一閥，所述第一去離子水支路設置在所述容置空間內，所述第一清洗噴嘴通過第一去離子水支路與所述去離子水管路連通。

13.如權利要求9所述的化學機械研磨設備，其特征在于，所述研磨液手臂還包括第二去離子水支路和設置在第二去離子水支路上的第二閥，所述第二去離子水支路設置在所述容置空間內，所述第二清洗噴嘴通過第二去離子水支路與所述去離子水管路連通。

14.如權利要求8至13中任意一項所述的化學機械研磨設備，其特征在于，所述第二清洗噴嘴的數量為2～5個。