[實用新型]一種用于窯法磷酸生產的控制性燃燒氧化爐窯

有效

• 申請號: 201020220227.4
• 申請日: 2010-06-09
• 公開（公告）號: CN201746328U
• 公開（公告）日: 2011-02-16
• 發明（設計）人: 倪天銀;陳愛中
• 申請（專利權）人: 云南常青樹投資有限公司
• 主分類號: C01B25/20
• 分類號: C01B25/20
• 代理公司: 昆明大百科專利事務所 53106
• 代理人: 何健

技術領域

本實用新型涉及磷酸制取設備，特別是一種用于窯法磷酸生產的控制性燃燒氧化窯爐結構技術領域。

背景技術

目前工業化生產磷酸的爐窯有回轉窯、立窯、隧道窯等，但目前所采用的爐窯在窯內還原氣氛不好控制，不能讓P₄和一氧化碳進行控制性氧化，五氧化二磷反吸嚴重，造成磷收率降低，熱利用率不高。

發明內容

本實用新型的目的是克服上述窯法生產磷酸存在的不足而提供一種還原氣氛強、磷收率降低，熱利用率不高的用于窯法磷酸生產的控制性燃燒氧化窯爐。

本實用新型的目的是這樣實現的：

一種用于窯法磷酸生產的控制性燃燒氧化爐窯，由筒體、窯頭端板和窯尾端板組成，在筒體兩端對應設置有與窯頭端板配合的靜密封環和與窯尾端板配合的靜密封環；在靜密封環正面的上端開有取樣接口；并在靜密封環正面的上端開有助燃空氣補入口；在筒體的中間線左右兩邊的徑向圓周上分別均布有一排高分散噴嘴；高分散噴嘴通過單獨的聯通管分別與窯頭端板、窯尾端板上對應的通氣孔相連通，通氣孔均勻對應的開在窯頭端板和窯尾端板的徑向圓周上。

本實用新型的有益效果是，窯內還原氣氛強、能夠有效避免窯內的局部氧化氣氛使P₄在物料表面及葉氧化和局部五氧化二磷過濃導致的料坯過原碳早燃和五氧化二磷反吸現象的發生的用于窯法磷酸生產的控制性燃燒氧化窯爐。

下面結合附圖及實施例進一步闡述本實用新型內容。

附圖說明

圖1是本實用新型結構示意圖；

圖2是圖1的左視放大示意圖；

圖3是圖1的右視放大示意圖；

圖4為本實用新型應用在隧道窯上的示意圖。

具體實施方式

見圖1，圖2，圖3，一種用于窯法磷酸生產的控制性燃燒氧化爐窯，由筒體3窯頭端板6和窯尾端板7組成，在筒體3兩端對應設置有與窯頭端板6配合的靜密封環1和與窯尾端板7配合的靜密封環2；在靜密封環1和2正面的上端開有取樣接口9；并在靜密封環1和2正面的上端開有助燃空氣補入口8；在筒體3的中間線左右兩邊的徑向圓周上分別均布有一排高分散噴嘴4；高分散噴嘴4通過單獨的聯通管5分別與窯頭端板6、窯尾端板7上對應的通氣孔10相連通，通氣孔10均勻對應的開在窯頭端板6和窯尾端板7的徑向圓周上。

本實用新型適用的爐窯可以是回轉窯、隧道窯、輥道窯、推板窯、轉底窯；輥道窯、推板窯、隧道窯、轉底窯也可以在窯的兩側同時安裝。

取樣接口9是用于與二氧化碳和一氧化碳濃度測試儀相連接的接口，供二氧化碳和一氧化碳濃度測試儀對窯上部氣氛進行在線連續檢測。隨著筒體的轉動，沿圓周均布的通氣孔10分別與取樣接口9和助燃空氣補入口8連通，通過取樣接口9、通氣孔10、聯通管5、高分散噴嘴4完成取樣分析和通過助燃空氣補入口8、通氣孔10、聯通管5、高分散噴嘴4完成助燃空氣噴入。

窯法磷酸物料在筒體下部還原氣氛下被加熱到反應溫度，發生還原反應放出的P₄和CO，P₄和CO上升到上部空間被助燃空氣控制氧化，控制氧化反應產生的熱量通過氣體和窯壁反射到物料，部分補充物料發生還原反應消耗的熱量；窯內下部是強的還原氣氛，且氧化反應生成的五氧化二磷氣體經窯的上部空間由尾部排出，故能很好的控制五氧化二磷的反吸，提高磷收率。助燃空氣的噴入量根據二氧化碳和一氧化碳濃度測試儀測試數據進行調整，確保窯下部的強還原氣氛和上部的微還原氣氛。

圖4為本實用新型應用在隧道窯上的實施例，隧道窯窯身由預熱區、反應區、和冷卻區組成，反應區產生的窯氣由反應區尾的上部排出；在隧道窯的反應區上部1/2處設有二氧化碳和一氧化碳濃度測試儀取樣接口，取樣接口與二氧化碳和一氧化碳濃度測試儀相連接，供二氧化碳和一氧化碳濃度測試儀對窯上部氣氛進行在線連續檢測。在隧道窯的反應區上部靠頂方向1/3處設有助燃空氣高分散噴嘴，根據二氧化碳和一氧化碳濃度測試儀的結果分點向窯上部靠頂區域高分散補入助燃空氣，嚴格控制窯內良好的還原氣氛。在隧道窯反應區，窯法磷酸物料在還原氣氛下被加熱到反應溫度，發生還原反應放出的P₄和CO，P₄和CO上升到上部空間被助燃空氣控制氧化，控制氧化反應產生的熱量通過氣體和窯壁反射到物料，部分補充物料發生還原反應消耗的熱量；窯內反應區下部是強的還原氣氛，且氧化反應生成的五氧化二磷氣體經窯的上部空間由尾部排出，故能很好的控制五氧化二磷的反吸，提高磷收率。助燃空氣的噴入量根據二氧化碳和一氧化碳濃度測試儀測試數據進行調整，確保窯下部的強還原氣氛和上部的微還原氣氛。