[實用新型]直立筒式多靶磁控濺射鍍膜機

有效

• 申請號: 201020171331.9
• 申請日: 2010-04-12
• 公開（公告）號: CN201660695U
• 公開（公告）日: 2010-12-01
• 發明（設計）人: 郭廷瑋;俞科
• 申請（專利權）人: 常州龍騰太陽能熱電設備有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 常州市天龍專利事務所有限公司 32105
• 代理人: 夏海初

技術領域

本實用新型涉及一種直立筒式多靶磁控濺射鍍膜機，具體涉及一種用于太陽能熱發電集熱管內管的高吸收膜層鍍膜的所述鍍膜機。

背景技術

太陽能集熱管內管的表面，設置了包括紅外反射膜層和吸收膜層等多層復合鍍膜層，用以提高其吸收率，降低其發射率，有效提高集熱管吸收太陽能熱輻射的效率。

對于用于太陽能槽式熱發電裝備的集熱管，鑒于其處于熱聚焦線上工作環境的特定技術要求，所述集熱管必須具備耐高溫、高壓、和涂膜層結構穩定，不易開裂、剝落，以及吸收率高和發射率低的特性，而在工業上用于所述集熱管表面多層復合鍍膜層的鍍膜設備，一般采取由若干個鍍膜室實施相間反復鍍膜的方式。這種方式的已有鍍膜機，結構比較復雜，生產效率低，鍍膜質量比較難以掌控，很難滿足所述集熱管內管表面鍍膜的生產要求。

發明內容

本實用新型是在由本申請人在前申請的名稱為“適用于槽式太陽能熱發電的集熱管的內管及其鍍膜方法”發明專利申請的鍍膜機的基礎上作進一步改進，而提供一種優化結構，易于掌控，生產效率高，鍍膜質量好的直立筒式多靶磁控濺射鍍膜機，以滿足槽式太陽能熱發電用集熱管內管生產的要求。

本實用新型實現其目的的技術方案是：

一種直立筒式多靶磁控濺射鍍膜機，包括圓筒狀鍍膜室，鍍膜室上蓋，鍍膜基體件裝載組件，鍍膜基體件公轉驅動裝置，鍍膜基體件自轉驅動裝置，設置在鍍膜室內且位于鍍膜室中央部位的能夠旋轉的第一金屬靶和第二金屬靶，設置在鍍膜基體件公轉軌跡外圍的第一中頻孿生靶和第二中頻孿生靶，抽真空裝置，供電調控器以及進排氣調控器，其創新點在于，

a、所述鍍膜室上蓋，在工作狀態下與鍍膜室頂端密封配裝；所述第一金屬靶和第二金屬靶分別與鍍膜室上蓋轉動連接；在第一金屬靶和第二金屬靶的頂端，分別設有第一被動傳動件，固裝在鍍膜室上蓋上的第一電機，通過設在其輸出軸上的主動傳動件，與第一被動傳動件傳動連接；與所述鍍膜室內腔連接貫通的進排氣管，分別設置在鍍膜室上蓋上。

b、所述鍍膜基體件公轉驅動裝置，包括設在所述鍍膜室內的鍍膜基體件裝載架，轉軸，第二電機，第二主動傳動件，和第二被動傳動件；所述鍍膜基體件裝載架，由上圈、下圈，和若干根一端與上圈底面連接，另一端與下圈頂面連接的支撐桿組成；所述上圈設有若干通孔，所述下圈設有與上圈所設通孔等量且相應對的底孔；所述通孔和底孔，分別與鍍模基體件轉動配裝，所述轉軸與下圈固定連接；與轉軸固定連接的第二被動傳動件，與固裝在第二電機輸出軸上的第二主動傳動件傳動連接；所述下圈的底面承支在鍍膜室的內底平面上，且兩者呈面面接觸動配合；

由以上所給出的技術方案可以明了，本實用新型由于其采用4個金屬靶而可以實施至少5層膜層的復合鍍膜，且設置在鍍膜室中央的2個金屬靶可以自轉，加上鍍膜基體件或稱工件可以公轉和自轉，因而其鍍膜層不但可以鍍得很薄(例如＜10nm)，而且可以鍍得很均勻，以確保鍍膜質量，且通過鍍膜室上蓋的吊裝起閉，而操作自如方便，同時通過供電控制器，可以實現鍍膜厚度和鍍膜過程的自動控制，因而生產效率高，從而實現了本實用新型的目的。

本實用新型的進一步創新點在于：

為了有效減少所述2個中央金屬靶的相互干涉(或稱相互影響)，本實用新型還包括分隔板；所述分隔板與鍍膜室上蓋底面固定連接；圓筒式鍍膜室通過分隔板，分隔成左鍍膜室和右鍍膜室；所述第一金屬靶和第二金屬靶，分別設在左鍍膜室和右鍍膜室內，且位于接近鍍膜室的中央部位。盡管這種結構，并不能完全實現左、右鍍膜室的絕對隔離，但仍可令所述2個中央金屬靶的相互干涉，得到大幅度的減少。

本實用新型所包括的鍍膜基體件的自轉驅動裝置，可以有多件驅動結構形式，而本實用新型所主張的鍍膜基體件自轉驅動裝置的結構有以下兩種：

第一種所述鍍膜基體件自轉驅動裝置，包括內齒圈和被動齒輪；所述內齒圈與所述鍍膜室上口部位內壁固定連接；被動齒輪與設在鍍膜基體件裝載架的上圈的通孔和下圈的底孔內，且呈轉動配合的鍍膜基體件的頂端配裝固定連接，所述內圈與被動齒輪相嚙合；從而構成行星齒輪傳動式鍍膜基體件自轉裝置。當鍍膜基體件由其公轉驅動裝置驅動公轉時，由內齒圈通過被動齒輪驅動鍍膜基體件自轉。這種行星齒輪式自轉驅動裝置，它具有結構相對比較簡單，鍍膜室內對濺射鍍膜產生干擾的另部件少，且鍍膜基體件裝載也很方便簡易等優點。為此，本實用新型予以積極推薦。