[實(shí)用新型]擋板冷卻機(jī)構(gòu)

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201020140683.8
• 申請日: 2010-03-23
• 公開（公告）號: CN201648511U
• 公開（公告）日: 2010-11-24
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 楊明生;葉宗峰;劉惠森;范繼良;王曼媛;王勇;張華
• 申請（專利權(quán)）人: 東莞宏威數(shù)碼機(jī)械有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/24
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利代理有限公司 44202
• 代理人: 張艷美;郝傳鑫

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種真空蒸鍍用的擋板，更具體地涉及一種擋板冷卻機(jī)構(gòu)。

背景技術(shù)

隨著現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，對產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)工藝要求不斷提高，真空技術(shù)成為一門不可缺少的技術(shù)，已被廣泛應(yīng)用到各個技術(shù)領(lǐng)域中。其中，應(yīng)用較為廣泛的真空鍍膜技術(shù)，是指在真空中把蒸發(fā)源加熱蒸發(fā)或用加速離子轟擊濺射，沉積到基片表面形成單層或多層薄膜。該真空鍍膜技術(shù)已經(jīng)廣泛的應(yīng)用到各個領(lǐng)域，如眾所周知的物理氣相沉積(Physical?Vapor?Deposition，PVD)，化學(xué)氣相淀積(Chemical?Vapor?Deposition，CVD)技術(shù)。在制備薄膜工藝過程中，一般都要求膜厚均勻，組分純凈、性能穩(wěn)定、無應(yīng)力、附著牢固等。一般的薄膜制備方式都需要經(jīng)歷抽真空、加熱、鍍膜等一系列過程。在鍍膜之前的加熱過程中，在未達(dá)到蒸發(fā)物的蒸發(fā)溫度時就會有蒸發(fā)源將雜質(zhì)蒸發(fā)掉，另有一些蒸發(fā)物在加熱蒸發(fā)過程中會釋放氣體，使鍍膜室內(nèi)壓強(qiáng)上升。雜質(zhì)和不穩(wěn)定的氣體擴(kuò)散是造成薄膜厚度不均，組分不凈、性能不穩(wěn)、應(yīng)力較大、附著不牢固等影響鍍膜質(zhì)量的主要原因。原有的在蒸發(fā)源和處理板之間沒有采取相應(yīng)的保護(hù)措施的設(shè)計已經(jīng)不能滿足工藝的需要，另有一些廠商通過在蒸發(fā)源和處理板之間設(shè)置擋板來解決上述缺點(diǎn)。

擋板的作用是阻擋不必要的物質(zhì)進(jìn)入到相應(yīng)的空間，在真空環(huán)境下還要要求擋板不會對真空環(huán)境造成污染，甚至說可以改善真空環(huán)境，而對擋板的冷卻可以增強(qiáng)沉積物質(zhì)與擋板的附著力，使附著在擋板上的沉積物質(zhì)不易脫落，也使蒸發(fā)源更加順暢的進(jìn)行蒸鍍，另外還可以降低腔體溫度，保持真空腔體內(nèi)真空環(huán)境的清潔。而設(shè)置在腔體之外的一般是通過波紋管或者密封墊圈進(jìn)行密封，通常也沒有采取良好的冷卻措施，較高的真空處理腔內(nèi)溫度會通過熱傳遞到相應(yīng)的墊圈或者波紋管，這樣也很容易造成密封圈老化、波紋管斷裂。另外，擋板的旋轉(zhuǎn)通過軸來帶動控制，軸的一端需要接觸到真空腔內(nèi)。某些時候，軸需要高速運(yùn)轉(zhuǎn)或者需要承受較大的扭矩或者會接收到外部的熱量，相應(yīng)的在軸上也會產(chǎn)生熱量，當(dāng)熱量無法得到有效的冷卻時，就會降低軸的壽命和安裝精度，甚至造成軸報廢，影響擋板控制機(jī)構(gòu)的的正常運(yùn)行，最主要的一點(diǎn)由此將會帶來噪音、震動，由此可能造成產(chǎn)品出現(xiàn)問題。

已知的現(xiàn)有的冷卻機(jī)構(gòu)都是對安裝軸的軸承、基座或者腔體進(jìn)行的冷卻。現(xiàn)有技術(shù)中無法有效地對遮擋蒸發(fā)源的擋板進(jìn)行冷卻，或者說沒有冷卻蒸發(fā)源擋板，會造成膜層容易脫落，降低了真空腔內(nèi)的工藝環(huán)境等。另外現(xiàn)有的擋板，也無法保證膜層的純度及品質(zhì)。因此提供一種合理的擋板冷卻機(jī)構(gòu)至關(guān)重要。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的是提供一種冷卻效果好、附著力強(qiáng)、清潔度高并能降低真空腔體溫度、提高膜層形成質(zhì)量的擋板冷卻機(jī)構(gòu)。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案為：提供一種適用于與冷卻介質(zhì)配合使用的擋板冷卻機(jī)構(gòu)，所述擋板通過旋轉(zhuǎn)軸懸設(shè)于提供真空環(huán)境的真空腔體內(nèi)并位于蒸發(fā)源與待鍍基板之間，所述旋轉(zhuǎn)軸的上端與所述擋板固定連接，所述旋轉(zhuǎn)軸的下端穿過所述真空腔體并與真空腔體外的傳動組件固定連接，所述旋轉(zhuǎn)軸與所述真空腔體之間設(shè)有動密封組件，所述動密封組件套設(shè)于所述旋轉(zhuǎn)軸上并與所述旋轉(zhuǎn)軸樞接，其中，所述擋板冷卻機(jī)構(gòu)包括：連接座、連接件、冷卻腔、冷卻管、輸出管、輸入接口及輸出接口，所述擋板通過所述連接座與所述旋轉(zhuǎn)軸固定連接，所述連接件套設(shè)于所述旋轉(zhuǎn)軸位于真空腔體外的端部上，所述連接件的上端與所述旋轉(zhuǎn)軸樞接，所述連接件的下端與所述輸入接口固定連接，所述輸入接口與所述輸出接口固定連接并位于所述連接件與輸出接口之間，所述旋轉(zhuǎn)軸、連接件、輸入接口及輸出接口均沿所述旋轉(zhuǎn)軸的軸向方向開設(shè)有中空結(jié)構(gòu)并相互連通形成所述冷卻腔，所述輸出管懸于所述冷卻腔內(nèi)并貫穿所述旋轉(zhuǎn)軸、連接件、輸入接口，所述輸出管位于腔體外的末端與所述輸出接口固定連接，所述冷卻管鋪設(shè)于所述擋板上，所述冷卻管具有輸入端與輸出端，所述冷卻管的輸入端與所述冷卻腔連通，所述冷卻管的輸出端與所述輸出管連通，所述輸入接口與所述冷卻腔連通，所述輸出接口與所述輸出管連通。