[實(shí)用新型]一種鍍金陶瓷

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201020004382.2
• 申請(qǐng)日: 2010-01-12
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN201614403U
• 公開(kāi)（公告）日: 2010-10-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 汪友林
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳森豐真空鍍膜有限公司;森科五金(深圳)有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/18
• 分類號(hào): C23C14/18;B32B15/04
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種鍍金陶瓷，包括陶瓷基體和鍍金層，其特征在于，該鍍金層是一種在真空鍍膜室中用物理氣相沉積方法鍍制的金層；在該陶瓷基體與鍍金層之間還設(shè)置有用物理氣相沉積方法鍍制的過(guò)渡層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鍍金陶瓷，其特征在于，所述過(guò)渡層是先在陶瓷基體表面鍍制的鉻層及在該鉻層表面鍍制的鎳層。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鍍金陶瓷，其特征在于，所述過(guò)渡層是鉻鎳合金層。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鍍金陶瓷，其特征在于，所述過(guò)渡層是鈦層或鈦合金層。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鍍金陶瓷，其特征在于，所述物理氣相沉積方法包括磁控濺射方法、多弧離子鍍方法及電子槍蒸發(fā)。