[發(fā)明專利]一種含B和Gd的整體型復合可燃毒物燃料及制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010606072.2 | 申請日： | 2010-12-24 |
| 公開（公告）號： | CN102129889A | 公開（公告）日： | 2011-07-20 |
| 發(fā)明（設計）人： | 易偉;楊靜;龍沖生;許奎 | 申請（專利權）人： | 中國核動力研究設計院 |
| 主分類號： | G21C3/326 | 分類號： | G21C3/326;G21C3/58;C23C14/06;C23C14/35 |
| 代理公司： | 核工業(yè)專利中心 11007 | 代理人： | 高尚梅 |
| 地址： | 610041 四*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 gd 整體 復合 可燃 毒物 燃料 制備 方法 | ||
1.一種含B和Gd的整體型復合可燃毒物燃料，其特征在于：由ZrB2涂層和UO2-Gd2O3組成。
2.一種含B和Gd的整體型復合可燃毒物燃料，其特征在于：所述可燃毒物燃料中Gd2O3的質量分數為2％～12％，濃縮10B線密度為0.1～1.0mg/cm。
3.如權利要求1所述的一種含B和Gd的整體型復合可燃毒物燃料，其特征在于：所述可燃毒物燃料中Gd2O3的質量分數為4％～12％，濃縮10B的線密度為0.2～1.0mg/cm。
4.如權利要求1所述的一種含B和Gd的整體型復合可燃毒物燃料，其特征在于：所述可燃毒物燃料中Gd2O3的質量分數為7％～12％，濃縮10B的線密度為0.5～1.0mg/cm。
5.如權利要求1所述的一種含B和Gd的整體型復合可燃毒物燃料，其特征在于：所述可燃毒物燃料中Gd2O3的質量分數為4％～7％，濃縮10B的線密度為0.2～0.9mg/cm。
6.如權利要求1所述的一種含B和Gd的整體型復合可燃毒物燃料，其特征在于：所述可燃毒物燃料中Gd2O3的質量分數為4％～7％，濃縮10B的線密度為0.2～0.5mg/cm。
7.一種在UO2-Gd2O3燃料芯塊上涂覆ZrB2薄層的涂層工藝方法，用直流磁控濺射涂層工藝方法在UO2-Gd2O3燃料芯塊上涂覆ZrB2薄層，其特征在于：所述涂層ZrB2靶件的密度≥5.14g/cm3，純度大于98.5％；ZrB2靶件固定，UO2-Gd2O3燃料芯塊自轉且繞ZrB2靶件公轉；或UO2-Gd2O3燃料芯塊固定，ZrB2靶件自轉且繞UO2-Gd2O3燃料芯塊公轉。
8.如權利要求5所述的一種在UO2-Gd2O3燃料芯塊上涂覆ZrB2薄層的涂層工藝方法，其特征在于：UO2-Gd2O3燃料芯塊繞ZrB2靶件公轉的速度0.2～1.0轉/分鐘，自轉速度0.1～0.5轉/分鐘。
9.如權利要求5所述的一種在UO2-Gd2O3燃料芯塊上涂覆ZrB2薄層的涂層工藝方法，其特征在于：所述直流磁控濺射的工作真空度為1.0Pa～5.0×10-2Pa，ZrB2靶件與UO2-Gd2O3燃料芯塊的距離為50～70mm，靶件功率5KW，濺射電壓為500V～600V，靶件在濺射時溫度為280℃～350℃，濺射時間為2～3小時，保證ZrB2涂層厚度為0～0.035mm。
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