[發明專利]一種p型高透射率(100)-取向的LaNiO3納米薄膜的制備方法無效
| 申請號: | 201010593790.0 | 申請日: | 2010-12-17 |
| 公開(公告)號: | CN102154636A | 公開(公告)日: | 2011-08-17 |
| 發明(設計)人: | 胡廣達;焦璐;孫雯;鐘仿仿;武衛兵;楊長紅 | 申請(專利權)人: | 濟南大學 |
| 主分類號: | C23C20/08 | 分類號: | C23C20/08 |
| 代理公司: | 濟南泉城專利商標事務所 37218 | 代理人: | 李桂存 |
| 地址: | 250022 山*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 透射率 100 取向 lanio sub 納米 薄膜 制備 方法 | ||
1.一種p型高透射率高(100)-?取向的LaNiO3薄膜的制備方法,其特征是采用以下步驟:
(1)前驅體溶液的制備:采用溶膠凝膠法,按摩爾比1:1稱取硝酸鑭和硝酸鎳作為溶質,溶于摩爾比1:1混合的水和乙醇中,加入檸檬酸和聚乙二醇,配制成前驅體溶液,溶劑摩爾比水:乙醇:檸檬酸:聚乙二醇為=200:200:2:1,溶液濃度為0.08~0.20mol/L;?
(2)LaNiO3薄膜材料的制備:采用層層退火工藝,先用旋轉涂膜法將前驅體溶液沉積在襯底材料上,然后將材料放置在熱板上烘干,將干燥的薄膜置于快速退火爐中熱處理,熱處理工藝特征在于:在氧氣氣氛下從350℃以10℃/分鐘的速率升溫到450℃,450℃預處理10min,再以15℃/分鐘的速率升溫到600℃,在氮氣氣氛下退火20分鐘,退火溫度為600℃~650℃,得到LaNiO3薄膜。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于所制得的LaNiO3薄膜厚度小于50nm,電阻率為1×10-4?·cm~2×10-4?·cm,表面粗糙度不大于1nm。
3.根據權利要求1或2所述的方法,其特征在于襯底材料為石英、玻璃、硅片或者金屬薄片,所述金屬薄片為Ni片或Cu片。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C20-00 通過固態覆層化合物抑或覆層形成化合物懸浮液分解且覆層中不留存表面材料反應產物的化學鍍覆
C23C20-02 .鍍金屬材料
C23C20-06 .鍍金屬材料以外的無機材料
C23C20-08 ..鍍化合物、混合物或固溶體,例如硼化物、碳化物、氮化物
C23C20-04 ..鍍金屬
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