[發(fā)明專利]用于殺滅細(xì)菌芽胞的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010593756.3 | 申請日: | 2010-12-17 |
| 公開(公告)號: | CN102049057A | 公開(公告)日: | 2011-05-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 熊鴻燕;張林;黃國榮;林輝;許斌 | 申請(專利權(quán))人: | 中國人民解放軍第三軍醫(yī)大學(xué) |
| 主分類號: | A61L2/18 | 分類號: | A61L2/18;A61L101/36;A61L101/22;A61L101/02;A61L101/28 |
| 代理公司: | 重慶志合專利事務(wù)所 50210 | 代理人: | 胡榮琿 |
| 地址: | 400038 重*** | 國省代碼: | 重慶;85 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 殺滅 細(xì)菌 方法 | ||
1.一種殺滅細(xì)菌芽胞的方法,其特征在于,有以下步驟:
1)在被污染的物品上,滴灑濃度為0.10-0.40?mol/L作為芽胞萌發(fā)劑的L-丙氨酸,作用20-60min;
2)隨后,在經(jīng)步驟1)所述的芽胞萌發(fā)劑處理過的被污染的物品上繼續(xù)滴灑濃度為0.02-0.50?mol/L作為抗力弱化劑的強(qiáng)堿溶液,作用20-40min;
3)以H2O2、Fe2+、EDTA為反應(yīng)體系,其中H2O2的濃度為0.10-0.80mol/L;Fe2+?的濃度為0.01-0.08mol/L;?EDTA的濃度為0.01-0.08mol/L;取等體積的H2O2、Fe2+、EDTA溶液混均,調(diào)整溶液的pH值為4.0-5.0,即得所配制的配制氧化劑;取配制的氧化劑滴灑在步驟2)所述的被污染的物品上,作用時(shí)間30-60min。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的殺滅細(xì)菌芽胞的方法,其特征在于:步驟2)所述的強(qiáng)堿溶液為氫氧化鈉或氫氧化鉀等強(qiáng)堿溶液。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的殺滅細(xì)菌芽胞的方法,其特征在于:步驟3)所述的;Fe2+?為硫酸亞鐵或氯化亞鐵溶液。
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