[發明專利]氧化處理設備

無效

• 申請號: 201010592323.6
• 申請日: 2008-12-26
• 公開（公告）號: CN102011104A
• 公開（公告）日: 2011-04-13
• 發明（設計）人: 山本久;芝本雅弘
• 申請（專利權）人: 佳能安內華股份有限公司
• 主分類號: C23C16/448
• 分類號: C23C16/448
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種氧化處理設備，其包括：

真空室(1)，其用于容納待氧化的處理材料；

汽化材料供給保持件(4)，其上保持固態或液態的汽化材料，所述汽化材料供給保持件設置在所述真空室內，并且直接暴露在所述真空室內的氣氛下；

冷卻器(5)，其連接至所述汽化材料供給保持件，用于冷卻所述汽化材料供給保持件；

壓力測量單元(10)，其用于測量氧化蒸汽在所述真空室內的氣氛下的壓力；以及

冷卻器控制器(7)，其響應所述壓力測量單元測得的壓力值，用于操作所述冷卻器以控制所述汽化材料供給保持件的溫度，使得所述真空室內的氣氛下的氧化壓力維持在預定值。