[發明專利]一種化學機械拋光漿料

有效

• 申請號: 201010585380.1
• 申請日: 2010-12-10
• 公開（公告）號: CN102533118A
• 公開（公告）日: 2012-07-04
• 發明（設計）人: 荊建芬;蔡鑫元;張建
• 申請（專利權）人: 安集微電子(上海)有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02
• 代理公司: 上海翰鴻律師事務所 31246
• 代理人: 李佳銘

1.一種化學機械拋光漿液，其包括：一種磷酸酯類表面活性劑、研磨顆粒、絡合劑和氧化劑。

2.如權利要求1所述的拋光漿液，其特征在于，所述的磷酸酯類表面活性劑具有如下結構：

RCOO-(CH₂CH₂O)_n)或含有兩個以上結構式1的多元醇磷酸酯，

其中R為C8～C22的烷基或烷基苯、甘油基(C₃H₅O₃-)等；n＝3～30，M＝H，K，NH₄，(CH₂CH₂O)_1～3NH_3～1和/或Na。

3.如權利要求1或2所述的拋光漿液，其特征在于，所述的磷酸酯類表面活性劑的含量為重量百分比0.0005～2％。

4.如權利要求3所述的拋光漿液，其特征在于，所述的磷酸酯類表面活性劑的含量為重量百分比0.001～1％。

5.如權利要求1所述的拋光漿液，其特征在于，所述的研磨顆粒為二氧化硅、氧化鋁、摻雜鋁或覆蓋鋁的二氧化硅、二氧化鈰、二氧化鈦和/或高分子研磨顆粒。

6.如權利要求1所述的拋光漿液，其特征在于，所述的研磨顆粒的重量百分比濃度為0.1～20％。

7.如權利要求1或5所述的拋光漿液，其特征在于，所述的研磨顆粒的粒徑為20～150nm。

8.如權利要求1所述的拋光漿液，其特征在于，所述的絡合劑為氨羧化合物及其鹽、有機羧酸及其鹽、有機膦酸及其鹽和/或有機胺。

9.如權利要求8所述的拋光漿液，其特征在于，所述的氨羧化合物選自甘氨酸、丙氨酸、纈氨酸、亮氨酸、脯氨酸、苯丙氨酸、酪氨酸、色氨酸、賴氨酸、精氨酸、組氨酸、絲氨酸、天冬氨酸、蘇氨酸、谷氨酸、天冬酰胺、谷氨酰胺、氨三乙酸、乙二胺四乙酸、環己烷四乙酸、乙二胺二琥珀酸、二乙烯三胺五乙酸和三乙烯四胺六乙酸中的一種或多種；所述的有機羧酸為醋酸、草酸、檸檬酸、酒石酸、丙二酸、丁二酸、蘋果酸、乳酸、沒食子酸和磺基水楊酸中的一種或多種；所述的有機膦酸為2-膦酸丁烷-1，2，4-三羧酸、氨基三甲叉膦酸、羥基乙叉二膦酸、乙二胺四甲叉膦酸、二乙烯三胺五甲叉膦酸、2-羥基膦酸基乙酸、乙二胺四甲叉膦酸和多氨基多醚基甲叉膦酸中的一種或多種；所述的有機胺為乙二胺、二乙烯三胺、五甲基二乙烯三胺、多乙烯多胺、三乙烯四胺、四乙烯五胺；所述的鹽為鉀鹽、鈉鹽和/或銨鹽。

10.如權利要求1所述的拋光漿液，其特征在于，所述的絡合劑的含量為質量百分比0.01～10％。

11.如權利要求1所述的拋光漿液，其特征在于，所述的氧化劑選自過氧化氫、過氧化脲、過氧甲酸、過氧乙酸、過硫酸鹽、過碳酸鹽、高碘酸、高氯酸、高硼酸、高錳酸鉀和硝酸鐵中的一種或多種。

12.如權利要求1所述的拋光漿液，其特征在于，所述的氧化劑的含量為質量百分比0.05～10％。