[發明專利]摩擦處理方法、摩擦處理裝置、光學補償膜的制造方法及其裝置

有效

• 申請號: 201010583629.5
• 申請日: 2010-12-08
• 公開（公告）號: CN102087442A
• 公開（公告）日: 2011-06-08
• 發明（設計）人: 村上大;伊藤秀知
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: G02F1/1337
• 分類號: G02F1/1337;G02F1/13363;G02B5/30;B29C67/00
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 張楠;陳建全

1.一種摩擦處理方法，其特征在于，其包括下述工序：

取向膜形成工序，使具備取向膜形成材料層的長條撓性薄膜沿著其長度方向移動，同時使粘貼在摩擦輥上的摩擦布以旋轉的狀態與該取向膜形成材料層的表面接觸，從而形成取向膜；

摩擦布除塵工序，上述摩擦布與上述長條撓性薄膜接觸之后，使輥狀的刷子與上述摩擦布的表面接觸，從而除去附著在上述摩擦布上的塵埃；和

塵埃排氣工序，對在上述摩擦布塵埃除去工序中被除去了的塵埃進行排氣除去。

2.根據權利要求1所述的摩擦處理方法，其特征在于，

使上述輥狀的刷子一邊左右振動一邊與上述摩擦布的表面接觸。

3.根據權利要求1或2所述的摩擦處理方法，其特征在于，

上述輥狀的刷子被施加超聲波振動。

4.根據權利要求1或2所述的摩擦處理方法，其特征在于，

具有用于除去附著在上述輥狀的刷子上的塵埃的刷子除塵工序。

5.根據權利要求4所述的摩擦處理方法，其特征在于，

在上述刷子除塵工序中，對上述輥狀的刷子吹送空氣并進行吸引。

6.根據權利要求4所述的摩擦處理方法，其特征在于，

在上述刷子除塵工序中，使刷子表面除塵構件與上述輥狀的刷子接觸。

7.根據權利要求4所述的摩擦處理方法，其特征在于，

在上述刷子除塵工序中，使除塵輥與上述輥狀的刷子接觸，并且，通過排氣而除去附著在上述除塵輥上的塵埃。

8.根據權利要求7所述的摩擦處理方法，其特征在于，

在上述刷子除塵工序中，使用于除去附著在上述除塵輥上的塵埃的第2除塵輥與上述除塵輥接觸。

9.根據權利要求1或2所述的摩擦處理方法，其特征在于，

上述輥狀的刷子具有導電性。

10.根據權利要求1或2所述的摩擦處理方法，其特征在于，

上述輥狀的刷子與上述摩擦布的基布組織的距離為0.05～5mm。

11.根據權利要求1或2所述的摩擦處理方法，其特征在于，

具有使上述摩擦布的絨毛一致的摩擦布矯正工序。

12.一種光學補償膜的制造方法，其特征在于，使用通過權利要求1或2所述的摩擦處理方法進行摩擦處理而得到的長條撓性薄膜來制造光學補償膜。

13.一種摩擦處理裝置，其用于在具有取向膜形成材料層的長條撓性薄膜上形成取向膜，其特征在于，其具備：

在周面粘貼有摩擦布的摩擦輥；

用于除去附著在上述摩擦布上的塵埃的輥狀的刷子；和

用于對由上述摩擦布除去的塵埃進行排氣的塵埃排氣裝置。

14.根據權利要求13所述的摩擦處理裝置，其特征在于，

具備使上述輥狀的刷子左右振動的刷子振動機構。

15.根據權利要求13或14所述的摩擦處理裝置，其特征在于，

具備使上述摩擦布的絨毛一致的矯正構件。

16.一種光學補償膜的制造裝置，其特征在于，具有權利要求13或14所述的摩擦處理裝置。