[發(fā)明專利]基板處理裝置和基板處理方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010534982.4
• 申請(qǐng)日: 2010-11-04
• 公開（公告）號(hào): CN102054663A
• 公開（公告）日: 2011-05-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 織戶康一;本間學(xué);田村辰也
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01L21/00
• 分類號(hào): H01L21/00;C23C16/44;C23C16/455
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會(huì)華

1.一種基板處理裝置，其是在真空容器內(nèi)的載置臺(tái)上載置基板、從處理氣體供給部對(duì)上述基板供給處理氣體、在真空氣氛下對(duì)上述基板進(jìn)行處理的基板處理裝置，其特征在于，包括：

第1排氣通路和第2排氣通路，分別用于對(duì)上述真空容器內(nèi)進(jìn)行真空排氣；

第1壓力調(diào)整閥和第2壓力調(diào)整閥，分別設(shè)在上述第1排氣通路和上述第2排氣通路上；

流導(dǎo)調(diào)整部，設(shè)于上述第2排氣通路的上述第2壓力調(diào)整閥的1次側(cè)，用于調(diào)整該第2排氣通路的流導(dǎo)；

第1壓力測(cè)量部件，用于測(cè)量上述真空容器內(nèi)的壓力；

壓差測(cè)量部件，用于測(cè)量上述流導(dǎo)調(diào)整部的1次側(cè)和2次側(cè)的壓差；

存儲(chǔ)部，存儲(chǔ)有規(guī)定了上述真空容器內(nèi)的壓力值、上述流導(dǎo)調(diào)整部的調(diào)整值、上述第2排氣通路的排氣流量和上述壓差的關(guān)系的數(shù)據(jù)；

控制部，從存儲(chǔ)于該存儲(chǔ)部的數(shù)據(jù)讀取與上述第2排氣通路的排氣流量的設(shè)定值相對(duì)應(yīng)的上述真空容器內(nèi)的壓力值、上述流導(dǎo)調(diào)整部的調(diào)整值和上述壓差并輸出控制信號(hào)，從而對(duì)上述第1壓力調(diào)整閥進(jìn)行調(diào)整，使得上述真空容器內(nèi)的壓力成為上述壓力值，并且利用上述流導(dǎo)調(diào)整部將上述第2排氣通路的流導(dǎo)調(diào)整成上述調(diào)整值，接著對(duì)上述第2壓力調(diào)整閥進(jìn)行調(diào)整，使得上述壓差成為與上述第2排氣通路的排氣流量的設(shè)定值相對(duì)應(yīng)的壓差。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

上述流導(dǎo)調(diào)整部是蝶閥，流導(dǎo)的調(diào)整值是蝶閥的開度。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基板處理裝置，其特征在于，

上述處理是依次對(duì)基板的表面供給互相反應(yīng)的至少兩種反應(yīng)氣體且進(jìn)行該供給循環(huán)而多層層疊反應(yīng)生成物的層來形成薄膜的成膜處理，

該基板處理裝置包括：

第1反應(yīng)氣體供給部件和第2反應(yīng)氣體供給部件，相互分開地設(shè)于上述真空容器的周向，分別用于向上述載置臺(tái)上的基板供給第1反應(yīng)氣體和第2反應(yīng)氣體；

分離區(qū)域，用于分離被供給上述第1反應(yīng)氣體的第1處理區(qū)域和被供給上述第2反應(yīng)氣體的第2處理區(qū)域的氣氛，在上述周向上設(shè)于上述第1和第2處理區(qū)域之間，用于從分離氣體供給部件供給分離氣體；

旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，使上述第1反應(yīng)氣體供給部件、上述第2反應(yīng)氣體供給部件以及上述分離區(qū)域和上述載置臺(tái)沿上述周向相對(duì)旋轉(zhuǎn)，使得上述基板經(jīng)由上述分離區(qū)域依次位于上述第1處理區(qū)域和上述第2處理區(qū)域，

上述第1排氣通路的排氣口為了排出第1反應(yīng)氣體和分離氣體而設(shè)置，上述第2排氣通路的排氣口為了排出第2反應(yīng)氣體和分離氣體而設(shè)置。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于，

上述存儲(chǔ)部?jī)?nèi)的數(shù)據(jù)是通過以下的步驟(a)、(b)、(c)而得到的數(shù)據(jù)，

(a)在對(duì)基板進(jìn)行處理之前，關(guān)閉上述第1壓力調(diào)整閥，打開上述第2壓力調(diào)整閥，

(b)向上述真空容器內(nèi)供給流量調(diào)整用氣體，并且利用上述流導(dǎo)調(diào)整部對(duì)上述第2排氣通路的流導(dǎo)進(jìn)行調(diào)整，使得上述真空容器內(nèi)的壓力成為規(guī)定的壓力，求出此時(shí)的上述流導(dǎo)調(diào)整部的調(diào)整值和上述壓差，

(c)對(duì)流量調(diào)整用氣體的供給流量和真空容器內(nèi)的壓力的組合嘗試進(jìn)行各種這樣的變更。

5.一種基板處理方法，其特征在于，包括以下工序：

將基板載置在真空容器內(nèi)的載置臺(tái)上，對(duì)上述基板供給處理氣體；

分別從設(shè)有第1壓力調(diào)整閥的第1排氣通路和設(shè)有第2壓力調(diào)整閥的第2排氣通路對(duì)上述真空容器內(nèi)進(jìn)行真空排氣；

從存儲(chǔ)部讀取數(shù)據(jù)；

接著，對(duì)上述第1壓力調(diào)整閥進(jìn)行調(diào)整，使得上述真空容器內(nèi)的壓力成為存儲(chǔ)在上述數(shù)據(jù)中的壓力值，并且利用流導(dǎo)調(diào)整部對(duì)上述第2排氣通路的流導(dǎo)進(jìn)行調(diào)整，使得上述第2排氣通路的設(shè)于上述第2壓力調(diào)整閥的1次側(cè)的該流導(dǎo)調(diào)整部的調(diào)整值成為存儲(chǔ)在上述數(shù)據(jù)中的調(diào)整值；

接著，對(duì)上述第2壓力調(diào)整閥進(jìn)行調(diào)整，使得上述流導(dǎo)調(diào)整部的1次側(cè)和2次側(cè)的壓差成為存儲(chǔ)在上述數(shù)據(jù)中的壓差，

上述讀取的工序是從上述數(shù)據(jù)讀取與上述第2排氣通路的排氣流量的設(shè)定值相對(duì)應(yīng)的上述真空容器內(nèi)的壓力值、上述流導(dǎo)調(diào)整部的調(diào)整值和上述壓差的工序。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板處理方法，其特征在于，

上述處理是依次對(duì)基板的表面供給互相反應(yīng)的至少兩種反應(yīng)氣體且進(jìn)行該供給循環(huán)而多層層疊反應(yīng)生成物的層來形成薄膜的成膜處理，

供給上述處理氣體的工序是分別從互相分開地設(shè)于上述真空容器的周向上的第1反應(yīng)氣體供給部件和第2反應(yīng)氣體供給部件向上述載置臺(tái)上的基板供給第1反應(yīng)氣體和第2反應(yīng)氣體的工序，

在對(duì)上述流導(dǎo)進(jìn)行調(diào)整的工序之前，為了分離被供給上述第1反應(yīng)氣體的第1處理區(qū)域和被供給上述第2反應(yīng)氣體的第2處理區(qū)域的氣氛，進(jìn)行如下工序：從分離氣體供給部件向在上述周向上設(shè)于上述第1和第2處理區(qū)域之間的分離區(qū)域供給分離氣體，并且使上述第1反應(yīng)氣體供給部件、上述第2反應(yīng)氣體供給部件以及上述分離區(qū)域和上述載置臺(tái)沿上述周向相對(duì)旋轉(zhuǎn)，使得上述基板經(jīng)由上述分離區(qū)域依次位于上述第1處理區(qū)域和上述第2處理區(qū)域，

上述真空排氣的工序是分別從為了排出第1反應(yīng)氣體和分離氣體而設(shè)置的上述第1排氣通路的排氣口和為了排出第2反應(yīng)氣體和分離氣體而設(shè)置的上述第2排氣通路的排氣口對(duì)上述真空容器內(nèi)進(jìn)行真空排氣的工序。