[發明專利]用于近紅外光學檢查的系統和方法無效
| 申請號: | 201010508512.0 | 申請日: | 2010-10-15 |
| 公開(公告)號: | CN102072909A | 公開(公告)日: | 2011-05-25 |
| 發明(設計)人: | D·夏皮羅弗 | 申請(專利權)人: | 卡姆特有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/88 | 分類號: | G01N21/88;G01N21/35 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 馬浩 |
| 地址: | 以色列米格*** | 國省代碼: | 以色列;IL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 紅外 光學 檢查 系統 方法 | ||
1.一種用于缺陷檢測的方法,該方法包括:
產生包括近紅外光譜分量和可見光分量的第一光束;
將第一光束的至少近紅外光譜分量指引向被檢查物體;
將通過照射被檢查物體產生的第二光束的近紅外光譜分量指引向傳感器;其中所述傳感器對可見光輻射和近紅外輻射敏感;
由所述傳感器產生響應第二光束的近紅外分量的檢測信號;和
通過處理所述檢測信號,檢測被檢查物體中的缺陷。
2.如權利要求1所述的方法,還包括基本上阻止近紅外頻帶之外的輻射到達所述傳感器。
3.如權利要求1所述的方法,其中所述被檢查物體包括硅和金屬結構中的至少一種,并且其中所述傳感器被定位為感測穿過被檢查物體的第二光束的近紅外光譜分量。
4.如權利要求1所述的方法,包括將第一光束的至少近紅外光譜分量指引向被檢查物體的金屬元件;和
由所述傳感器產生檢測信號,所述檢測信號對于被檢查物體的金屬元件的不同氧化水平基本上無差別。
5.如權利要求1所述的方法,其中所述傳感器是可見光傳感器,該可見光傳感器還被布置為感測近紅外輻射。
6.如權利要求1所述的方法,包括:
當包括所述傳感器的檢查系統工作在近紅外模式時,基本上阻止近紅外頻帶之外的輻射到達所述傳感器,并且由所述傳感器產生響應第二光束的近紅外分量的檢測信號;和
當檢查系統工作在可見光模式時,基本上阻止可見光頻帶之外的輻射到達所述傳感器,并且由所述傳感器產生響應第二光束的可見光分量的檢測信號。
7.如權利要求1所述的方法,其中近紅外頻帶的范圍在大約700納米的波長和大約1100納米的波長之間。
8.如權利要求1所述的方法,其中所述照射包括以相對于被檢查物體的虛擬法線至少呈20度的角度指引第一光束。
9.如權利要求1所述的方法,其中所述照射包括以相對于被檢查物體的虛擬法線大約呈60度的角度指引第一光束。
10.一種檢查系統,包括:
照明源,所述照明源被布置為產生包括近紅外光譜分量和可見光分量的第一光束;
光學器件,所述光學器件被布置為:
將第一光束的至少近紅外光譜分量指引向被檢查物體;
將通過照射被檢查物體產生的第二光束的近紅外光譜分量指引向傳感器;其中所述傳感器對可見光輻射和近紅外輻射敏感;
其中所述傳感器被布置為產生響應第二光束的近紅外分量的檢測信號;以及
處理電路,所述處理電路被布置為通過處理所述檢測信號,檢測被檢查物體中的缺陷。
11.如權利要求10所述的檢查系統,還包括濾光器,所述濾光器用于基本上阻止近紅外頻帶之外的輻射到達所述傳感器。
12.如權利要求10所述的檢查系統,其中所述被檢查物體包括硅和金屬結構中的至少一種,并且其中傳感器可被定位為感測穿過被檢查物體的第二光束的近紅外光譜分量。
13.如權利要求10所述的檢查系統,其中所述光學器件被布置為將第一光束的至少近紅外光譜分量指引向被檢查物體的金屬元件;并且其中所述傳感器可被布置為產生檢測信號,所述檢測信號對于被檢查物體的金屬元件的不同氧化水平基本上無差別。
14.如權利要求10所述的檢查系統,其中所述傳感器是可見光傳感器,該可見光傳感器還被布置為感測近紅外輻射。
15.如權利要求10所述的檢查系統,其中當檢查系統工作在近紅外模式時,所述濾光器被布置為基本上阻止近紅外頻帶之外的輻射到達所述傳感器,并且所述傳感器被布置為產生響應第二光束的近紅外分量的檢測信號;并且
當檢查系統工作在可見光模式時,所述濾光器還被布置為基本上阻止可見光頻帶之外的輻射到達所述傳感器,并且所述傳感器還被布置為產生響應第二光束的可見光分量的檢測信號。
16.如權利要求10所述的檢查系統,其中近紅外頻帶的范圍在大約700納米的波長和大約1100納米的波長之間。
17.如權利要求10所述的檢查系統,其中所述光學器件被布置為以相對于被檢查物體的虛擬法線至少呈20度的角度指引第一光束。
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