[發明專利]到燒氧循環流化床(CFB)的一次氧化劑饋送有效
| 申請號: | 201010505814.2 | 申請日: | 2010-09-29 |
| 公開(公告)號: | CN102032561A | 公開(公告)日: | 2011-04-27 |
| 發明(設計)人: | M·瑪亞切克;K·C·亞歷山大;M·C·戈登;D·L·克拉夫特 | 申請(專利權)人: | 巴布科克和威爾科克斯能量產生集團公司 |
| 主分類號: | F23C10/20 | 分類號: | F23C10/20 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 浦易文;李丹丹 |
| 地址: | 美國俄*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 到燒氧 循環 流化床 cfb 一次 氧化劑 饋送 | ||
1.一種將一次氧化劑饋送到燒氧循環流化床(CFB)鍋爐的系統,所述系統包括:
多個泡罩組件,每個泡罩組件包括泡罩、桿、至少一個出口孔以及內表面和外表面;
至少一個風箱,其中所述至少一個風箱具有其自身受控制的氧化劑饋送并連接到所述多個泡罩組件的各桿中的每個桿,且所述至少一個風箱還包括至少一個歧管;
多個管道,每個管道位于所述多個泡罩組件中的一個內,每個管道具有位于所述多個泡罩組件中每個的至少一個出口孔處或所述出口孔下方的開口端,且每個管道在相對端連接到包含在其相應風箱內的所述至少一個歧管;
第一受控制的氧化劑饋送,所述第一受控制的氧化劑饋送獨立地輸送到所述至少一個風箱,通過每個泡罩組件的所述桿并通過每個泡罩組件的所述至少一個出口孔進入所述CFB,并具有不超過壓縮氣體產業協會所闡述的當前標準中指定的限值的氧氣的體積濃度;以及
第二受控制的氧化劑饋送,所述第二受控制的氧化劑饋送獨立地通過所述至少一個歧管輸送到所述多個管道并進入所述多個泡罩組件,在所述泡罩組件內所述第二受控制的氧化劑饋送與所述第一受控制的氧化劑饋送混合并通過所述泡罩的所述至少一個出口孔排出并具有至少為壓縮氣體產業協會所闡述的當前標準中指定限值的氧氣體積濃度。
2.如權利要求1所述的系統,其特征在于,所述第二受控制的氧化劑饋送從所述多個泡罩組件中每個內的所述多個管道中的每個的所述開口端排出的方向是沿向下方向定向的。
3.如權利要求1所述的系統,其特征在于,每個風箱裝備有氧氣測量探針。
4.如權利要求1所述的系統,其特征在于,所述多個泡罩和桿的至少內表面涂有高級不銹鋼或由高級不銹鋼制成。
5.如權利要求1所述的系統,其特征在于,所述多個泡罩和桿的至少內表面涂有一種或多種非金屬材料或由一種或多種非金屬材料制成。
6.如權利要求1所述的系統,其特征在于,所述至少一個風箱和所述多個管道由不銹鋼制成或由不銹鋼做成襯里。
7.如權利要求1所述的系統,其特征在于,所述至少一個風箱和所述多個管道由一種或多種非金屬材料制成或由一種或多種非金屬材料做成襯里。
8.一種將一次氧化劑饋送到燒氧循環流化床(CFB)鍋爐的系統,所述系統包括:
多個泡罩組件,每個泡罩組件包括泡罩、桿、至少一個出口孔以及內表面和外表面;
至少一個風箱,其中所述至少一個風箱具有其自身受控制的氧化劑饋送并連接到所述多個泡罩組件的各桿中的每個桿,且所述至少一個風箱還包括至少一個歧管;
多個管道,每個管道位于所述多個泡罩組件中的一個內,每個管道具有位于所述多個泡罩組件中每個的至少一個出口孔處或所述出口孔上方的開口端,且每個管道在相對端連接到包含在其相應風箱內的所述至少一個歧管;
第一受控制的氧化劑饋送,所述第一受控制的氧化劑饋送獨立地輸送到所述至少一個風箱,通過每個泡罩組件的所述桿并通過每個泡罩組件的所述至少一個出口孔進入所述CFB,并具有不超過壓縮氣體產業協會所闡述的當前標準中指定限值的氧氣體積濃度;以及
第二受控制的氧化劑饋送,所述第二受控制的氧化劑饋送獨立地通過所述至少一個歧管輸送到所述多個管道并進入所述多個泡罩組件,在所述泡罩組件內所述第二受控制的氧化劑饋送與所述第一受控制的氧化劑饋送混合并通過所述泡罩的所述至少一個出口孔排出并具有至少為壓縮氣體產業協會所闡述的當前標準中指定限值的氧氣體積濃度。
9.如權利要求8所述的系統,其特征在于,所述第二受控制的氧化劑饋送從所述多個泡罩組件中每個內的所述多個管道中的每個的所述開口端排出的方向是沿向下方向定向的。
10.如權利要求8所述的系統,其特征在于,每個風箱裝備有氧氣測量探針。
11.如權利要求8所述的系統,其特征在于,所述多個泡罩和桿的至少內表面涂有高級不銹鋼或由高級不銹鋼制成。
12.如權利要求8所述的系統,其特征在于,所述多個泡罩和桿的至少內表面涂有一種或多種非金屬材料或由一種或多種非金屬材料制成。
13.如權利要求8所述的系統,其特征在于,所述至少一個風箱和所述多個管道由不銹鋼制成或由不銹鋼做成襯里。
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