[發明專利]連續式多室濺射鍍膜室間氣氛隔離系統

無效

• 申請號: 201010298327.3
• 申請日: 2010-09-30
• 公開（公告）號: CN101962755A
• 公開（公告）日: 2011-02-02
• 發明（設計）人: 金烈
• 申請（專利權）人: 深圳市金凱新瑞光電有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/34
• 代理公司: 深圳市惠邦知識產權代理事務所 44271
• 代理人: 趙彥雄

技術領域

本發明涉及真空鍍膜技術，尤其涉及一種連續式多室濺射鍍膜室間氣氛隔離系統。

背景技術

濺射技術是真空鍍膜主要方式，現有技術中，涉及多次濺射的，一般采用非連續式分次濺射，中間需要轉運和存貯環節。中間環節不僅令制造成成本提高，被鍍物還容易在中間環節被氧化或污染，直接影響鍍膜品質。采用這種方式的主要是因為現有的真空濺設裝備，無法實現連續式作業，不同濺射室的工作氣體和真空度有所不同，連續作業會導致工作氣體的混同，無法鍍膜。

本發明中所稱的工作氣，指濺射反應氣體。

發明內容

本發明的目的在于克服上述現有技術的不足之處而提供一種連續式多室濺射鍍膜室間氣氛隔離系統，以便實現每個鍍膜室的氣氛需要嚴格控制的連續式多室鍍膜。

本發明的目的可以通過以下技術方案實現：

一種連續式多室濺射鍍膜室間氣氛隔離系統，包括至少二個濺射室，即第一濺射室和第二濺射室；其特征在于：還包括過度室，所述過度室設置于所述第一濺射室和所述第二濺射室之間；所述第一濺射室與所述過度室之間具有供被鍍物連續通過的第一通道，所述過度室與所述第二濺射室之間具有供被鍍物連續通過的第二通道；所述過度室連接真空發生裝置，所述過度室的真空度大于所述第一濺射室的真空度，所述過度室的真空度也大于所述第二濺射室的真空度；所述過度室還具有進氣孔和排氣孔，所述進氣孔和所述排氣孔均設置于所述第一通道與所述第二通道之間，氣體流過所述進氣孔流入所述排氣孔，在所述第一通道與所述第二通道之間構成風幕。

連續式多室濺射鍍膜室間氣氛隔離系統，其特征在于：所述第一濺射室還包括保護氣輸入管和工作氣輸入管，所述工作氣輸入管還連接第一單向閥，所述第一單向閥的設置方式為所述工作氣只能向所述第一濺射室流入。

連續式多室濺射鍍膜室間氣氛隔離系統，其特征在于：所述第二濺射室還包括保護氣輸入管和工作氣輸入管，所述工作氣輸入管還連接第二單向閥，所述第二單向閥的設置方式為所述工作氣只能向所述第二濺射室流入。

連續式多室濺射鍍膜室間氣氛隔離系統，其特征在于：所述保護氣為Ar，所述工作氣為O2/N2/C2H2,等。

連續式多室濺射鍍膜室間氣氛隔離系統，其特征在于：所述風幕是Ar氣風幕。

連續式多室濺射鍍膜室間氣氛隔離系統，其特征在于：所述第一濺射室和所述第二濺射室分別連接真空發生裝置。

連續式多室濺射鍍膜室間氣氛隔離系統，其特征在于：還包括被鍍物輸送裝置，所述被鍍物輸送裝置由所述第一濺射室連續經過所述第一通道、所述過度室、所述第二通道，通向所述第二濺射室。

本發明的目的還可以通過以下技術方案實現：

一種連續式多室濺射鍍膜室間氣氛隔離系統，包括至少二個濺射室，即第一濺射室和第二濺射室；其特征在于：還包括過度室，所述過度室設置于所述第一濺射室和所述第二濺射室之間；所述第一濺射室與所述過度室之間具有供被鍍物連續通過的第一通道，所述過度室與所述第二濺射室之間具有供被鍍物連續通過的第二通道；所述過度室連接真空發生裝置，所述過度室的真空度大于所述第一濺射室的真空度，所述過度室的真空度也大于所述第二濺射室的真空度；所述過度室還具有進氣孔，進氣孔的軸心位于一個平面內。

連續式多室濺射鍍膜室間氣氛隔離系統，其特征在于：所述進氣孔有兩組或多組，每一組進氣孔的軸心位于一個平面內，每一組進氣孔兩側區域分別連通真空發生裝置。

本發明的目的還可以通過以下技術方案實現：

一種連續式多室濺射鍍膜室間氣氛隔離系統，包括至少二個濺射室，即第一濺射室和第二濺射室；其特征在于：還包括過度室，所述過度室設置于所述第一濺射室和所述第二濺射室之間；所述第一濺射室與所述過度室之間具有供被鍍物連續通過的第一通道，所述過度室與所述第二濺射室之間具有供被鍍物連續通過的第二通道；所述過度室連接真空發生裝置，所述過度室的真空度大于所述第一濺射室的真空度，所述過度室的真空度也大于所述第二濺射室的真空度；所述過度室還具有進氣孔，所述真空發生裝置通過抽氣孔連通至過度室，所述進氣孔遠離所述抽氣孔。