[發明專利]一種化學機械拋光液有效
| 申請號： | 201010287359.3 | 申請日： | 2010-09-20 |
| 公開（公告）號： | CN102408834A | 公開（公告）日： | 2012-04-11 |
| 發明（設計）人： | 王晨;何華鋒 | 申請（專利權）人： | 安集微電子(上海)有限公司 |
| 主分類號： | C09G1/02 | 分類號： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鴻律師事務所 31246 | 代理人： | 李佳銘 |
| 地址： | 201203 上海市浦東新區張江高*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 化學 機械拋光 | ||
【權利要求書】：
1.一種化學機械拋光液，包括：研磨顆粒，含鹵素的氧化劑，唑類化合物和有機堿，所述的化學機械拋光液具有堿性的pH值。
2.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于：所述的研磨顆粒選自于SiO2、Al2O3、ZrO2、CeO2、SiC、Fe2O3、TiO2和Si3N4中的一種或多種。
3.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于：所述的研磨顆粒的質量百分含量為0.1～20％。
4.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于：所述的含鹵素的氧化劑為溴酸鹽和/或碘酸鹽。
5.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于：所述的含鹵素的氧化劑的質量百分含量為0.1～5％。
6.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于：所述的唑類化合物為三氮唑。
7.根據權利要求6所述的化學機械拋光液，其特征在于：所述的三氮唑為1-H-1，2，4-三氮唑(TAZ)。
8.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于：所述的唑類化合物的質量百分含量為0.1～5％。
9.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于：所述的有機堿為有機胺和/或季銨堿。
10.根據權利要求9所述的化學機械拋光液，其特征在于：所述的季銨堿為四甲基氫氧化銨。
11.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于：所述的化學機械拋光液的pH值為10～11。
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