[發明專利]單天線干擾消除能力識別方法和裝置

有效

• 申請號: 201010285643.7
• 申請日: 2010-09-15
• 公開（公告）號: CN101938437A
• 公開（公告）日: 2011-01-05
• 發明（設計）人: 楊廣義
• 申請（專利權）人: 華為技術有限公司
• 主分類號: H04L25/03
• 分類號: H04L25/03;H04L27/00;H04B17/00
• 代理公司: 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138
• 代理人: 何文彬

1.一種單天線干擾消除能力識別方法，其特征在于，所述方法包括：

使用阿爾法正交相移鍵控(alpha-QPSK)調制和高斯最小移頻鍵控(GMSK)調制分別對非單天線干擾消除(Non-SAIC)類型的待測終端進行測試；

根據所述待測終端在alpha-QPSK調制與GMSK調制下對應的下行質量，識別所述待測終端是否具有單天線干擾消除(SAIC)能力。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述使用alpha-QPSK調制和GMSK調制分別對Non-SAIC類型的待測終端進行測試包括：

根據檢測參數，使用alpha-QPSK調制和GMSK調制交替對所述待測終端進行測試，其中，所述檢測參數包括：檢測次數n和檢測時間T中的至少一個、交替周期N和質量變化門限，所述交替周期N表示每隔N個時隙將所述待測終端下行數據的調制方式在alpha-QPSK調制和GMSK調制中進行切換，N為大于或等于1的整數，所述檢測次數n表示alpha-QPSK調制和GMSK調制交替的次數，n為大于或等于1的整數，所述檢測時間T，表示檢測過程持續的最大時間，所述質量變化門限為判斷所述待測終端是否具有SAIC能力的檢測門限。

3.如權利要求2所述的方法，其特征在于，所述根據所述待測終端在alpha-QPSK調制與GMSK調制下對應的下行質量，識別所述待測終端是否具有單天線干擾消除SAIC能力包括：

根據獲取第一下行質量相關值，其中，ΔRxQual₁為第一下行質量相關值，RxQual_QPSK和RxQual_GMSK分別為alpha-QPSK調制和GMSK調制每個上報周期對應的下行質量，c為倍增因子，取值范圍為c≥1，P為所述交替周期N中所述上報周期的個數，P≤N；

根據獲取第二下行質量相關值，其中，ΔRxQual₂為第二下行質量相關值；

如果所述第二下行質量相關值小于或等于所述質量變化門限，確定所述待測終端具備SAIC能力。

4.如權利要求3所述的方法，其特征在于，所述確定所述待測終端具備SAIC能力之前還包括：

根據獲取第一方差σ₁²；如果所述第一方差σ₁²小于或等于預設的方差，確定所述待測終端具備SAIC能力。

5.如權利要求2所述的方法，其特征在于，所述質量變化門限包括質量變化門限下限M1和質量變化上限M2；

所述根據所述待測終端在alpha-QPSK調制與GMSK調制下對應的下行質量，識別所述待測終端是否具有單天線干擾消除SAIC能力包括：

根據獲取第三下行質量相關值，其中，ΔRxQual₃為第三下行質量相關值，RxQual_QPSK和RxQual_GMSK分別為alpha-QPSK調制和GMSK調制每個上報周期對應的下行質量，c為倍增因子，取值范圍為c≥1，P為所述交替周期N中所述上報周期的個數，P≤N；

根據獲取第四下行質量相關值，其中，ΔRxQual₄為第四下行質量相關值；

如果所述第四下行質量相關值在M1和M2之間，確定所述待測終端具備SAIC能力。

6.如權利要求5所述的方法，其特征在于，所述確定所述待測終端具備SAIC能力之前還包括：

根據獲取第二方差；如果所述第二方差σ₂²小于或等于預設的方差，確定所述待測終端具備SAIC能力。