[發(fā)明專利]一種建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010285010.6
• 申請(qǐng)日: 2010-09-17
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102402633A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-04-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳玉平;陳嵐;葉甜春
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院微電子研究所
• 主分類號(hào): G06F17/50
• 分類號(hào): G06F17/50
• 代理公司: 北京市德權(quán)律師事務(wù)所 11302
• 代理人: 王建國(guó)

1.一種建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序的方法，其特征在于，所述方法包括：

利用圖形編輯器輸入器件的物理圖形，在所述物理圖形上標(biāo)出圖形及圖形之間的設(shè)計(jì)規(guī)則參數(shù)、器件參數(shù)與圖形的對(duì)應(yīng)關(guān)系和選項(xiàng)區(qū)域；

掃描所述物理圖形，確定基本物理圖形之間的位置關(guān)系和位置依賴關(guān)系；

根據(jù)所述基本物理圖形之間的位置關(guān)系和位置依賴關(guān)系，建立各基本物理圖形的生成順序和程序流程，生成程序。

2.如權(quán)利要求1所述的建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序的方法，其特征在于，所述方法還包括添加圖形坐標(biāo)重定位程序，具體包括：遍歷器件物理版圖的所有基本物理圖形，計(jì)算得到橫、縱坐標(biāo)最小的坐標(biāo)點(diǎn)；將所述器件物理版圖的參考原點(diǎn)平移到所述橫、縱坐標(biāo)最小的坐標(biāo)點(diǎn)。

3.如權(quán)利要求1或2所述的建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序的方法，其特征在于，所述確定基本物理圖形之間的位置關(guān)系的步驟具體包括：

根據(jù)各個(gè)基本物理圖形的面積大小關(guān)系，確定各個(gè)基本物理圖形之間的包圍關(guān)系；

對(duì)所述基本物理圖形進(jìn)行無(wú)障礙圖形和有障礙圖形陣列分析；

對(duì)所述基本物理圖形進(jìn)行左右順序關(guān)系和上下順序關(guān)系分析。

4.如權(quán)利要求3所述的建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序的方法，其特征在于，所述對(duì)所述基本物理圖形進(jìn)行無(wú)障礙圖形陣列分析的步驟具體包括：

根據(jù)基本物理圖形之間的上下和/或左右間距一致性，將基本物理圖形聚合為一個(gè)或若干個(gè)一維或二維陣列圖形；

根據(jù)所述一維或二維陣列圖形的延展方向，確定無(wú)障礙圖形陣列的圖形數(shù)；

建立所述一維或二維陣列圖形的間距與設(shè)計(jì)規(guī)則參數(shù)和器件參數(shù)之間的關(guān)系。

5.如權(quán)利要求4所述的建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序的方法，其特征在于，所述根據(jù)一維陣列圖形的延展方向，確定無(wú)障礙圖形陣列的圖形數(shù)的步驟具體為：所述一維陣列圖形延展方向的圖形數(shù)＝(對(duì)應(yīng)延展方向的器件參數(shù)-2×陣列圖形和外包圖形之間的間距)/(陣列圖形在延展方向的幾何尺寸+設(shè)計(jì)規(guī)則允許的陣列圖形最小間距)。

6.如權(quán)利要求5所述的建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序的方法，其特征在于，所述建立所述一維陣列圖形的間距與設(shè)計(jì)規(guī)則參數(shù)和器件參數(shù)之間的關(guān)系的步驟具體為：所述一維陣列圖形之間的間距值＝(對(duì)應(yīng)延展方向的器件參數(shù)-2×陣列圖形和外包圖形之間的間距-陣列圖形在該方向的幾何尺寸×對(duì)應(yīng)方向的圖形數(shù))/(對(duì)應(yīng)方向的圖形數(shù)-1)。

7.如權(quán)利要求4所述的建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述二維陣列圖形的延展方向，確定無(wú)障礙圖形陣列的圖形數(shù)的步驟具體為：所述二維陣列圖形在X方向的圖形數(shù)＝(對(duì)應(yīng)X方向的器件參數(shù)-2×陣列圖形和外包圖形之間的間距)/(陣列圖形在X方向的幾何尺寸+設(shè)計(jì)規(guī)則允許的陣列圖形最小間距)，所述二維陣列圖形在Y方向的圖形數(shù)＝(對(duì)應(yīng)Y方向的器件參數(shù)-2×陣列圖形和外包圖形之間的間距)/(陣列圖形在Y方向的幾何尺寸+設(shè)計(jì)規(guī)則允許的陣列圖形最小間距)。

8.如權(quán)利要求7所述的建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序的方法，其特征在于，所述建立二維陣列圖形的間距與設(shè)計(jì)規(guī)則參數(shù)和器件參數(shù)之間的關(guān)系的步驟具體為：所述二維陣列圖形之間X方向的間距值＝(對(duì)應(yīng)X方向的器件參數(shù)-2×陣列圖形和外包圖形之間的間距-陣列圖形在X方向的幾何尺寸×X方向的圖形數(shù))/(X方向的圖形數(shù)-1)，所述二維陣列圖形之間Y方向的間距＝(對(duì)應(yīng)Y方向的器件參數(shù)-2×陣列圖形和外包圖形之間的間距-陣列圖形在Y方向的幾何尺寸×Y方向的圖形數(shù))/(Y方向的圖形數(shù)-1)。

9.如權(quán)利要求3所述的建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序的方法，其特征在于，所述對(duì)所述基本物理圖形進(jìn)行左右順序關(guān)系分析的步驟具體包括：

確定所述基本物理圖形的對(duì)齊方式，所述對(duì)齊方式包括上邊界垂線對(duì)齊、中心水平線對(duì)齊、下邊界垂線對(duì)齊和上下無(wú)對(duì)齊；

以陣列點(diǎn)圖形的最小外接矩形其左下角的點(diǎn)坐標(biāo)值作為該陣列點(diǎn)的左邊界坐標(biāo)值，根據(jù)左邊界坐標(biāo)值中X坐標(biāo)值的大小關(guān)系確定陣列圖形之間的左右順序關(guān)系，X坐標(biāo)值小的陣列點(diǎn)在左，X坐標(biāo)值大的陣列點(diǎn)在右。