[發明專利]定影裝置以及圖像形成裝置

有效

• 申請號: 201010284420.9
• 申請日: 2010-09-14
• 公開（公告）號: CN102023545A
• 公開（公告）日: 2011-04-20
• 發明（設計）人: 長谷岳誠;江原正尚;石井賢治;小川禎史;上野智志;瀬尾洋;今田高廣
• 申請（專利權）人: 株式會社理光
• 主分類號: G03G15/20
• 分類號: G03G15/20;G03G15/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 楊梧

1.一種定影裝置，其中包括：

定影部，用于對載置在記錄介質上的未定影圖像進行加熱，并將該未定影圖像定影到該記錄介質上；以及，

彎曲矯正裝置，用于矯正通過該定影部的該記錄介質發生的彎曲，其特征在于，

還包括磁束發生裝置，其設置于該定影部以及該彎曲矯正裝置的附近，用于發生磁束，

該定影部包括：

定影輥，其能夠受到該磁束發生裝置發生的磁束引起的電磁感應的加熱；以及，

加壓輥，其以壓力接觸該定影輥，

該彎曲矯正裝置包括：

加熱輥部，其能夠受到該磁束發生裝置發生的磁束引起的電磁感應的加熱；以及，

彈性輥，其以壓力接觸該加熱輥部。

2.根據權利要求1所述的定影裝置，其中，所述加熱輥部包括：

加熱輥，可以受到磁束作用而被加熱；

硬質輥，被設置為與該加熱輥相隔預定距離；以及，

環狀帶，其架繞在該加熱輥以及該硬質輥上，所述彈性輥隔著該環狀帶，以壓力接觸該硬質輥。

3.根據權利要求1所述的定影裝置，其中，所述加熱輥部由可受到磁束作用而被加熱的加熱輥構成，所述彈性輥以壓力接觸該加壓輥。

4.根據權利要求2或3所述的定影裝置，其中，

所述加熱輥包括：

第一輥，受到所述磁束發生裝置發生的磁束的影響；

磁束遮擋板，被形成為與該第一輥同軸的圓弧形，并被設置在該第一輥外側，用以遮擋該磁束發生裝置發生的、到達該第一輥的磁束；

第二輥，與該第一輥同軸地設置在該磁束遮擋板外側，受到該磁束發生裝置發生的、到達該第一輥的磁束的作用而生成的渦電流的加熱，

進而具有控制裝置，用于調節該磁束遮擋板的轉動位置，使作用于第二輥的磁束的量發生變化，以控制該第二輥的發熱量。

5.根據權利要求4所述的定影裝置，其中，所述第一輥由鐵氧體芯構成。

6.根據權利要求4所述的定影裝置，其中，

進一步包括彈性輥溫度測定裝置，用于測定所述彈性輥的溫度，

所述控制裝置根據該彈性輥溫度測定裝置檢測到的該彈性輥的溫度，調節所述磁束遮擋板的位置。

7.根據權利要求4至6中的任意一項所述的定影裝置，其中，所述控制裝置根據所述記錄介質的稱量來調節所述磁束遮擋板的位置。

8.根據權利要求4至6中的任意一項所述的定影裝置，其中，

進一步包括：

定影輥溫度測定裝置，用于測定所述定影輥的溫度；以及，

彈性輥溫度測定裝置，用于測定所述彈性輥溫度，

所述控制裝置根據該定影輥溫度測定裝置測定的該定應輥的溫度、和該彈性輥溫度測定裝置測定的該彈性輥的溫度之間的溫度差，來調節所述磁束遮擋板的位置。

9.根據權利要求4至6中的任意一項所述的定影裝置，其中，

進一步包括濕度測定裝置，用于測定所述記錄介質周圍的濕度，所述控制裝置根據該濕度測定裝置測定的濕度，來調節所述磁束遮擋板的位置。

10.根據權利要求4至6中的任意一項所述的定影裝置，其中，

進一步包括速度設定裝置，用于設定通過所述定影部的所述記錄介質的輸送速度，

所述控制裝置根據該速度設定裝置設定的該記錄介質的輸送速度，來調節所述磁束遮擋板的位置。

11.根據權利要求4至6中的任意一項所述的定影裝置，其中，

進一步包括含水量測定裝置，用于測定所述記錄介質的含水量，

所述控制裝置根據該含水量測定裝置測定的該記錄介質的含水量，來調節所述磁束遮擋板的位置。

12.根據權利要求4至6中的任意一項所述的定影裝置，其中，形成多條不同的輸送路，用于向所述彎曲矯正裝置的下游輸送方輸送所述記錄介質，

所述控制裝置根據該不同的輸送該記錄介質的輸送路，來調節所述磁束遮擋板的位置。

13.根據權利要求1所述的定影裝置，其中，所述磁束發生裝置包括：

線圈導件，其被形成為覆蓋所述定影輥的部分外周部和所述加熱輥的部分外周部；

勵磁線圈，其受到該線圈導件的保持，并接受高頻交流電流的供給；以及，

芯部，用強磁性體沿著該勵磁線圈形成。