[發(fā)明專利]光電混合組件及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010283878.2 | 申請(qǐng)日: | 2010-09-13 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102023348A | 公開(kāi)(公告)日: | 2011-04-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 西尾創(chuàng);程野將行 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 日東電工株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G02B6/42 | 分類號(hào): | G02B6/42 |
| 代理公司: | 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;張會(huì)華 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光電 混合 組件 及其 制造 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及包括光波導(dǎo)路部分和安裝有光電轉(zhuǎn)換用的半導(dǎo)體芯片的光電轉(zhuǎn)換基板部分的光電混合組件及其制造方法。
背景技術(shù)
如圖6所示,光電混合組件分別制作光波導(dǎo)路部分W0和具有密封樹(shù)脂部69的光電轉(zhuǎn)換基板部分E0,借助透明的粘接劑層B將上述光電轉(zhuǎn)換基板部分E0的密封樹(shù)脂部69粘接在該光波導(dǎo)路部分W0的表面上(例如參照專利文獻(xiàn)1、2)。在上述光電轉(zhuǎn)換基板部分E0中,在形成有電極66的基板65上安裝有光電轉(zhuǎn)換用的半導(dǎo)體芯片67,該半導(dǎo)體芯片67和上述電極66利用接合線(bonding?wire)68電連接。并且,為了保護(hù)該接合線68,利用透明樹(shù)脂(密封樹(shù)脂部69)將上述半導(dǎo)體芯片67及電極66與該接合線68一同密封起來(lái)。另一方面,在上述光波導(dǎo)路部分W0中,傳播光的芯62處于被下敷層61和上敷層63夾著的狀態(tài)。并且,如圖所示,在下敷層61的、與芯62相反的一側(cè)的面上形成有其頂端通過(guò)芯62而到達(dá)上敷層63的倒V字形的切削部64。而且,該切削部64的切削面形成為與上述芯62的軸線方向(長(zhǎng)度方向)成45°的傾斜面,通過(guò)上述切削被切削了的芯62的部分自該傾斜面暴露出,該暴露部的內(nèi)側(cè)成為反射面62a。而且,上述光電轉(zhuǎn)換基板部分E0和光波導(dǎo)路部分W0的粘接通過(guò)透明的粘接劑層B介于光波導(dǎo)路部分W0的與上述反射面62a相對(duì)應(yīng)的上敷層63的表面部分同光電轉(zhuǎn)換基板部分E0的密封樹(shù)脂部69之間來(lái)進(jìn)行。另外,上述半導(dǎo)體芯片67是發(fā)光元件或者受光元件,在與上述基板65相反的一側(cè)的表面(圖6中的下端面)上形成有發(fā)光部67a或者受光部。
上述光電混合組件中的光L的傳播如下這樣進(jìn)行。即,在上述半導(dǎo)體芯片67是發(fā)光元件的情況下,首先,自該半導(dǎo)體芯片67的發(fā)光部67a向下方射出光L。該光L在通過(guò)上述密封樹(shù)脂部69、粘接劑層B之后,穿過(guò)光波導(dǎo)路部分W0的上敷層63,入射到芯62。接著,該光L在上述反射面62a反射,在芯62內(nèi)沿軸線方向前進(jìn)。然后,該光L自芯62的頂端面射出。
另一方面,在上述半導(dǎo)體芯片67是受光元件的情況下,雖未圖示,但光向與上述相反的方向前進(jìn)。即,光自芯62的頂端面入射到芯62內(nèi)。接著,該光在芯62內(nèi)沿軸線方向前進(jìn),在上述反射面62a向上方反射。然后,該光穿過(guò)上敷層63,通過(guò)粘接劑層B、密封樹(shù)脂部69之后,由上述半導(dǎo)體芯片67的受光部接收。
專利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2006-17885號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)2:日本特開(kāi)2007-286289號(hào)公報(bào)
在上述光L的傳播過(guò)程中,在上述半導(dǎo)體芯片67是發(fā)光元件的情況下,自該半導(dǎo)體芯片67的發(fā)光部67a發(fā)出的光發(fā)散。因此,在半導(dǎo)體芯片67的發(fā)光部67a與形成在芯62上的反射面62a之間的距離D較長(zhǎng)時(shí),光L的發(fā)散變大,根據(jù)情況的不同,該光L有時(shí)會(huì)偏離反射面62a而被引導(dǎo)到芯62內(nèi)。同樣,在上述半導(dǎo)體芯片67是受光元件的情況下,在芯62內(nèi)前進(jìn)而在反射面62a反射后的光也會(huì)發(fā)散,因此,根據(jù)情況的不同,該光有時(shí)會(huì)偏離半導(dǎo)體芯片67的受光部而接收不到。因此,在光電混合組件中,需要盡可能地將半導(dǎo)體芯片67的發(fā)光部67a或者受光部與形成于芯62上的反射面62a之間的距離D設(shè)計(jì)得較短。
但是,像專利文獻(xiàn)1、2那樣,以往在光電混合組件中,僅是借助粘接劑層B在光波導(dǎo)路部分W0的上敷層63上層疊粘接光電轉(zhuǎn)換基板部分E0的密封樹(shù)脂部69,這是技術(shù)常識(shí)。在該構(gòu)造的光電混合組件中,無(wú)法進(jìn)一步縮短半導(dǎo)體芯片67的發(fā)光部67a或者受光部與形成于芯62上的反射面62a之間的距離D。即,無(wú)法進(jìn)一步減小光電轉(zhuǎn)換基板部分E0與光波導(dǎo)路部分W0之間的光損耗。另外,上述半導(dǎo)體芯片67的下端面(發(fā)光部67a或者受光部)與反射面62a的中心(芯62的軸線)之間的距離D通常為200μm以上。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明即是打破該以往的技術(shù)常識(shí)而做成的,其目的在于提供能夠縮短半導(dǎo)體芯片的發(fā)光部或者受光部與形成于芯上的反射面之間的距離、減小光電轉(zhuǎn)換基板部分與光波導(dǎo)路部分之間的光損耗的光電混合組件及其制造方法。
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