[發(fā)明專利]基于SU-8厚光刻膠的三維圓滑曲面微結(jié)構(gòu)的制作方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010275953.0 | 申請日: | 2010-09-08 |
| 公開(公告)號: | CN101950126A | 公開(公告)日: | 2011-01-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李剛;陳強(qiáng);沈念;趙建龍 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所 |
| 主分類號: | G03F7/00 | 分類號: | G03F7/00;B81C1/00 |
| 代理公司: | 上海智信專利代理有限公司 31002 | 代理人: | 潘振甦 |
| 地址: | 200050 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 su 光刻 三維 圓滑 曲面 微結(jié)構(gòu) 制作方法 | ||
1.一種三維圓滑曲面微結(jié)構(gòu)的制作方法,其特征在于:所述制作方法以負(fù)性厚光刻膠SU-8為圓滑曲面微結(jié)構(gòu)的制作材料,首先通過常規(guī)光刻工藝制作SU-8原模,并在此原模上澆注PDMS制作母模,然后利用壓模技術(shù)通過PDMS母模將原模結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移形成未經(jīng)曝光交聯(lián)的SU-8陽模,最后將此SU-8陽模置于高溫環(huán)境中回流形成具有圓滑曲面特征的微結(jié)構(gòu)。
2.按權(quán)利要求1所述的制作方法,其特征在于制作步驟包括:
a)首先在硅片或玻璃基片上旋涂SU-8光刻膠,通過軟烘、曝光、后烘、顯影、硬烘制作SU-8原模;
b)然后將PDMS預(yù)聚體與固化劑混合物,兩者混合的質(zhì)量比10∶1,真空脫氣后,澆注在SU-8原模上,制成PDMS母模;
c)接著在硅片或玻璃基片上旋涂SU-8光刻膠,并通過軟烘除去SU-8光刻膠中的溶劑成分,然后對PDMS母模進(jìn)行真空脫氣;脫氣后,將PDMS母模的結(jié)構(gòu)面緊貼SU-8膠,施加壓力,置于>55℃高溫環(huán)境下,使得壓模過程中SU-8處于粘流態(tài),填充進(jìn)入PDMS母模的凹形結(jié)構(gòu)中,在此壓模過程通過PDMS母模將原模結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移形成未經(jīng)曝光交聯(lián)的SU-8陽模;
d)待模具冷卻至低于30℃后,SU-8從粘流態(tài)轉(zhuǎn)化為玻璃態(tài),此時(shí)從SU-8陽模上剝離PDMS母模,然后再將制備的SU-8陽模置于>55℃高溫環(huán)境下進(jìn)行回流;SU-8從玻璃態(tài)轉(zhuǎn)化為粘流態(tài),流動(dòng)性增加,在表面張力的作用下,SU-8陽模微結(jié)構(gòu)邊角將變得圓滑,從而形成具有圓滑曲面的三維微結(jié)構(gòu)。
3.按權(quán)利要求2所述的制作方法,其特征在于所述的軟烘溫度為60℃~120℃,軟烘時(shí)間為1小時(shí)~12小時(shí)。
4.按權(quán)利要求2所述的制作方法,其特征在于所述的回流溫度在55℃~120℃之間,回流時(shí)間30秒~3小時(shí)。
5.按權(quán)利要求1或2所述的制作方法,其特征在于所述的圓滑曲面微結(jié)構(gòu)為圓滑凸起的曲面結(jié)構(gòu)或?yàn)閳A滑凹陷曲面結(jié)構(gòu)。
6.按權(quán)利要求1或2所述的制作方法,其特征在于制作的具有不同曲率的微透鏡陣列,微透鏡曲率通過調(diào)節(jié)SU-8原模厚度以及光刻掩膜透光結(jié)構(gòu)大小或形成控制的。
7.按權(quán)利要求6所述的制作方法,其特征在于SU-8原模厚度介于10-1000μm之間。
8.按權(quán)利要求6所述的制作方法,其特征在于所述的光刻掩膜版透光結(jié)構(gòu)為正多邊形或圓形;正多邊形的邊長或圓形的直徑為10-1000μm。
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