[發(fā)明專利]襯底拋光設(shè)備和方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010271684.0
• 申請日: 2007-10-08
• 公開（公告）號: CN101985208A
• 公開（公告）日: 2011-03-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 勝岡誠司;關(guān)本雅彥;國澤淳次;宮崎充;渡邊輝行;小林賢一;粂川正行;橫山俊夫
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社荏原制作所
• 主分類號: B24B29/00
• 分類號: B24B29/00;B24B57/02;B24B41/04;B24B41/06
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002
• 代理人: 蔡洪貴

1.一種在襯底被拋光之后通過具有多個襯底支撐件的襯底接收器從機(jī)頭接收已拋光襯底的方法，所述襯底在真空吸引作用下保持在所述機(jī)頭的襯底吸引表面上、壓靠安裝在所述拋光臺上的拋光工具、且通過所述襯底和所述拋光工具的相對運(yùn)動被拋光，所述方法包括：

利用保持在相同垂直位置的所述襯底支撐件支撐由所述機(jī)頭保持的已拋光襯底；

降低所述襯底支撐件中選擇的襯底支撐件的垂直位置并釋放所述機(jī)頭的真空吸引以使所述襯底從所述襯底吸引表面移開，從而使所述襯底傾斜；

通過所述襯底支撐件接收所述傾斜的襯底；

降低所述襯底支撐件中其余襯底支撐件的垂直位置而與所述襯底支撐件中選擇的襯底支撐件的垂直位置對齊，從而使所述襯底水平；以及

由所述襯底支撐件支撐水平的襯底。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述襯底被安裝在所述襯底支撐件的相應(yīng)上端上的吸盤接收。

3.一種通過將襯底壓靠大于所述襯底的拋光工具的拋光表面、并使所述襯底和所述拋光工具相對彼此運(yùn)動而拋光襯底表面的方法，所述方法包括：

從形成在所述拋光工具的所述拋光表面上的多個漿液出口供應(yīng)漿液；以及

在所述襯底被拋光時使所述襯底的待拋光表面保持在所述拋光工具的所述拋光表面上，以覆蓋所述漿液出口。