[發明專利]薄膜沉積設備和制造有機發光顯示裝置的方法

有效

• 申請號: 201010263417.9
• 申請日: 2010-08-25
• 公開（公告）號: CN101997092A
• 公開（公告）日: 2011-03-30
• 發明（設計）人: 柳在光;樸鉉淑;李潤美;金鐘憲;金相洙;吳枝淑
• 申請（專利權）人: 三星移動顯示器株式會社
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;H01L27/32;H01L21/82
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 韓明星;李娜娜

1.一種薄膜沉積設備，用于在基底上形成薄膜，所述設備包括：

沉積源，排放沉積材料；

沉積源噴嘴單元，設置在沉積源的一側處，并包括沿第一方向布置的多個沉積源噴嘴；

圖案化縫隙片，設置為與沉積源相對，并包括沿第一方向布置的多個圖案化縫隙；

障礙板組件，沿第一方向設置在沉積源噴嘴單元和圖案化縫隙片之間，并包括將沉積源噴嘴單元和圖案化縫隙片之間的空間劃分為多個子沉積空間的多個障礙板，

其中，

與每個子沉積空間對應的圖案化縫隙的長度彼此不同，

薄膜沉積設備與基底分開預定距離，

薄膜沉積設備和基底能夠相對于彼此移動。

2.如權利要求1所述的設備，其中，圖案化縫隙距每個子沉積空間的中心越遠，圖案化縫隙的長度越長。

3.如權利要求1所述的設備，其中，與每個子沉積空間的中心對應的圖案化縫隙的長度小于與每個子沉積空間的端部對應的圖案化縫隙的長度。

4.如權利要求1所述的設備，所述設備還包括：

支撐構件，用于支撐圖案化縫隙片，從而防止圖案化縫隙片朝向沉積源凹陷。

5.如權利要求4所述的設備，其中，支撐構件設置為與圖案化縫隙的縱向方向交叉。

6.如權利要求5所述的設備，其中，支撐構件延伸為垂直于圖案化縫隙的縱向方向。

7.如權利要求1所述的設備，所述設備還包括校正板，設置在沉積源噴嘴單元和圖案化縫隙片之間，并阻擋從沉積源排放的沉積材料中的至少一部分。

8.如權利要求7所述的設備，其中，校正板設置為使得沉積的薄膜的部分的厚度基本相同。

9.如權利要求7所述的設備，其中，距每個子沉積空間的中心越遠，校正板的高度越小。

10.如權利要求9所述的設備，其中，校正板是弧形或余弦曲線形狀。

11.如權利要求7所述的設備，其中，校正板在每個子沉積空間的中心中的高度小于校正板在每個子沉積空間的端部處的高度。

12.如權利要求7所述的設備，其中，由校正板在每個子沉積空間的中心中阻擋的沉積材料的量大于由校正板在每個子沉積空間的端部處阻擋的沉積材料的量。

13.如權利要求7所述的設備，其中，校正板設置在相鄰的障礙板之間。

14.如權利要求7所述的設備，其中，

校正板設置在每個子沉積空間中，

校正板的尺寸或形狀是根據通過設置在每個子沉積空間中的沉積源噴嘴排放的沉積材料的特性而能夠改變的。

15.如權利要求14所述的設備，其中，校正板的尺寸或形狀是能夠改變的，使得在多個子沉積空間中沉積的薄膜的部分的厚度相同。

16.如權利要求1所述的設備，其中，每個障礙板沿與第一方向基本垂直的第二方向延伸，以將沉積源噴嘴單元和圖案化縫隙片之間的空間劃分為多個子沉積空間。

17.如權利要求1所述的設備，其中，所述多個障礙板按相等的間距布置。

18.如權利要求1所述的設備，其中，障礙板與沉積源噴嘴單元分開預定的距離。

19.如權利要求1所述的設備，其中，每個障礙板組件包括第一障礙板組件和第二障礙板組件，第一障礙板組件包括多個第一障礙板，第二障礙板組件包括多個第二障礙板。

20.如權利要求19所述的設備，其中，每個第一障礙板和每個第二障礙板沿與第一方向基本垂直的第二方向延伸，以將沉積源噴嘴單元和圖案化縫隙片之間的空間劃分為多個子沉積空間。

21.如權利要求19所述的設備，其中，第一障礙板布置為分別對應于第二障礙板。

22.如權利要求21所述的設備，其中，彼此對應的每對第一障礙板和第二障礙板布置在基本同一平面上。

23.如權利要求19所述的薄膜沉積設備，其中，第一障礙板組件和第二障礙板組件中的至少一個包括冷卻構件。

24.如權利要求19所述的薄膜沉積設備，其中，第一障礙板和第二障礙板具有相同的厚度。