[發(fā)明專利]具有中間導電層的觸控面板及其制作方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010252115.1
• 申請日: 2010-08-13
• 公開（公告）號: CN101893966A
• 公開（公告）日: 2010-11-24
• 發(fā)明（設計）人: 陳棟南
• 申請（專利權(quán)）人: 牧東光電(蘇州)有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種具有中間導電層的觸控面板，包含第一層是銘板層(1)，其特征在于：第二層是金屬線路層(2)，第三層是中間導電層(3)，第四層是透明導電層(4)，第五層是基板層(5)，依次疊加。

2.如權(quán)利要求1所述具有中間導電層的觸控面板，其特征在于：所述銘板層(1)的厚度范圍值在0.7毫米到1.8毫米之間；金屬線路層(2)的厚度范圍值在0.04微米到0.1微米之間；中間導電層(3)或者透明導電層(4)的厚度范圍值在0.04微米到0.1微米之間；基板層(5)的厚度范圍值在50微米到180微米之間。

3.如權(quán)利要求1所述具有中間導電層的觸控面板，其特征在于：所述中間導電層(3)是氧化銦；金屬線路層(2)是銅線；透明導電層(4)是氧化銦錫；基板層(5)是硬化玻璃或者聚碳酸樹脂。

4.一種如權(quán)利要求1所述的制作具有中間導電層的觸控面板的方法，包括如下步驟，其特征在于：所述步驟在無塵干燥條件下進行；

步驟一：基板層(5)的一面覆蓋透明導電層(4)，在透明導電層(4)上覆蓋中間導電層(3)；

步驟二：中間導電層(3)上電鍍金屬線路層(2)，在金屬線路層(2)上貼光阻膜；其中，光阻膜上鏤空圖案分別與金屬走線痕跡、感應線和網(wǎng)格狀蝕刻線痕跡吻合；

步驟三：先對金屬線路層(2)表面視窗操作區(qū)域曝光顯影后，室溫狀態(tài)下，用硫酸雙氧水混合液蝕刻中間導電層(3)和透明導電層(4)，形成感應線和網(wǎng)格圖案非導電區(qū)域；

步驟四：對步驟三中金屬線路層(2)周邊曝光顯影蝕刻形成金屬走線；

步驟五：用透明光學膠將銘板層(1)貼合在金屬走線和步驟三中透明導電層(4)上。

5.如權(quán)利要求4所述制作具有中間導電層的觸控面板的方法，其特征在于：所述步驟三中硫酸雙氧水混合液的摩爾濃度范圍值在4.0MOL/L到4.5MOL/L之間。

6.如權(quán)利要求4所述制作具有中間導電層的觸控面板的方法，其特征在于：所述步驟三中網(wǎng)格圖案為方塊矩陣；其中，單個方塊蝕刻邊長0.35毫米，蝕刻線寬60微米；步驟二中光阻膜的厚度范圍值在15微米到20微米之間。

7.如權(quán)利要求4所述制作具有中間導電層的觸控面板的方法，其特征在于：所述蝕刻反應時間為30秒鐘到60秒鐘。