[發明專利]高溫高壓水輔助的超臨界二氧化碳剝離光刻膠的裝置及方法

無效

• 申請號: 201010241985.9
• 申請日: 2010-07-30
• 公開（公告）號: CN102346381A
• 公開（公告）日: 2012-02-08
• 發明（設計）人: 王磊;景玉鵬
• 申請（專利權）人: 中國科學院微電子研究所
• 主分類號: G03F7/42
• 分類號: G03F7/42
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 周國城

1.一種高溫高壓水輔助的超臨界二氧化碳剝離光刻膠的裝置，其特征在于，該裝置包括：

二氧化碳儲氣罐(1)，通過第一閥門(2)連接于第一質量流量控制器(3)，第一質量流量控制器(3)的出口連接于第一增壓泵(4)；

氧氣罐(6)，連接于平流泵(5)，通過第二閥門(9)與第二質量流量控制器(10)連接；

去離子水儲罐(8)，連接于計量泵(7)，通過第三閥門(11)與流量計(12)連接；

精密混合器(13)，連接于第一增壓泵(4)、平流泵(5)和計量泵(7)的出口；

球形混合器(14)一端連接精密混合器(13)，另一端連接加熱器(15)；

加熱器(15)，通過溢流閥(16)連接于延伸至反應腔室(17)內部的噴嘴(18)；

安裝于反應腔室(17)內部并用于固定樣片的旋轉托盤(20)；

安裝于噴嘴(18)下方反應腔室(17)內壁上將反應腔室(17)中的氣態物和顆粒物帶出的二氧化碳氣源(19)；

噴嘴(18)，連接于反應腔室(17)的入口；

安裝于反應腔室(17)側壁出口的第二增壓泵(21)；

過濾器(23)，連接于第二增壓泵(21)的出口；

連接于過濾器(23)并對其出口氣體進行冷卻的冷卻器(24)；

安裝于反應腔室(17)底部并控制排液管道開關的第四閥門(22)；

連接于冷卻器(24)另一出口的第五閥門(25)。

2.根據權利要求1所述的基于高溫高壓水輔助的超臨界二氧化碳剝離光刻膠的裝置，其特征在于，該裝置還包括：CO₂循環使用回路和CO₂回收回路，所述過濾器(23)進一步用于過濾干燥CO₂循環使用回路和CO₂回收回路中的CO₂。

3.根據權利要求1所述的基于高溫高壓水輔助的超臨界二氧化碳剝離光刻膠的裝置，其特征在于，該裝置還包括：安裝于反應腔室(17)上壁并實時測量顯示噴嘴出口溫度的溫度傳感器和安裝于反應腔室(17)上壁并實時測量顯示噴嘴出口壓力的壓力傳感器。

4.根據權利要求1所述的基于高溫高壓水輔助的超臨界二氧化碳剝離光刻膠的裝置，其特征在于，所述精密混合器(13)用于預混合，所述球形混合器(14)用于充分混合。

5.根據權利要求1所述的基于高溫高壓水輔助的超臨界二氧化碳剝離光刻膠的裝置，其特征在于，所述二氧化碳氣源(19)位于噴嘴(18)下方反應腔室(17)內壁上，用于將剝離下來的光刻膠帶離樣片的表面。

6.根據權利要求1所述的基于高溫高壓水輔助的超臨界二氧化碳剝離光刻膠的裝置，其特征在于，所述噴嘴(18)連接于反應腔室(17)內部且其位置和角度可改變。

7.根據權利要求1所述的基于高溫高壓水輔助的超臨界二氧化碳剝離光刻膠的裝置，其特征在于，所述溢流閥(16)位于加熱器(15)的出口且用于維持恒定的壓力。

8.一種基于高溫高壓水輔助的超臨界二氧化碳剝離光刻膠的方法，應用于權利要求1所述的裝置，其特征在于，該方法將超臨界二氧化碳、高溫高壓水和氧氣結合起來去除光刻膠。

9.根據權利要求8所述的基于高溫高壓水輔助的超臨界二氧化碳剝離光刻膠的方法，其特征在于，所述水為去離子水，CO₂氣體純度達99.999％以上，氧氣純度達99.99％以上。

10.根據權利要求8所述的基于高溫高壓水輔助的超臨界二氧化碳剝離光刻膠的方法，其特征在于，所述高溫為300℃至700℃，壓力為8Mpa至50MPa。