[發明專利]靜電電容輸入裝置以及具有輸入裝置的電光設備

有效

• 申請號: 201010234484.8
• 申請日: 2010-07-20
• 公開（公告）號: CN101968702A
• 公開（公告）日: 2011-02-09
• 發明（設計）人: 倉島健
• 申請（專利權）人: 索尼公司
• 主分類號: G06F3/044
• 分類號: G06F3/044
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 彭久云

1.一種靜電電容輸入裝置，包括：

基板的輸入區域，在該輸入區域中提供多個輸入位置檢測電極；

多條配線，電連接到所述多個輸入位置檢測電極并且在所述基板的所述輸入區域之外延伸；以及

屏蔽電極，在輸入操作側與所述配線重疊。

2.如權利要求1所述的靜電電容輸入裝置，其中

所述屏蔽電極提供為沿著所述基板的整個外周邊緣。

3.如權利要求1所述的靜電電容輸入裝置，其中

第一導電膜、層間絕緣膜和第二導電膜從基板側開始依次形成在所述基板上，

在所述第一導電膜和所述第二導電膜中，該兩個導電膜中的至少一個用于形成所述輸入位置檢測電極，

在所述第一導電膜和所述第二導電膜中，在所述輸入操作側的相反側的導電膜用于形成所述配線，并且

在所述第一導電膜和所述第二導電膜中，在所述輸入操作側的導電膜用于形成所述屏蔽電極。

4.如權利要求3所述的靜電電容輸入裝置，其中

在所述第一導電膜和所述第二導電膜中，在所述輸入操作側的相反側的導電膜在所述基板上用于形成在所述配線的外周側的屏蔽輔助電極，并且

所述屏蔽輔助電極和所述屏蔽電極在沒有形成所述層間絕緣膜的區域中重疊并電連接在一起。

5.如權利要求4所述的靜電電容輸入裝置，其中

所述屏蔽輔助電極形成為沿著所述基板的所有邊，并且

沿著所述屏蔽輔助電極的整個縱向方向所述屏蔽輔助電極和所述屏蔽電極重疊并電連接在一起。

6.如權利要求3所述的靜電電容輸入裝置，其中

在所述第一導電膜和所述第二導電膜中，該兩個導電膜中的至少一個用于在所述基板的所述輸入區域之外提供第一安裝端子和第二安裝端子，并且

所述第一安裝端子連接到所述配線，所述第二安裝端子連接到所述屏蔽電極。

7.如權利要求3所述的靜電電容輸入裝置，其中

在所述第一導電膜和所述第二導電膜中，該兩個導電膜中的至少一個用于在所述基板上提供多個第一輸入位置檢測電極和多個第二輸入位置檢測電極以作為所述輸入位置檢測電極，

所述第一輸入位置檢測電極在所述基板的平面內沿第一方向延伸，

所述第二輸入位置檢測電極在所述基板的平面內沿與所述第一方向交叉的第二方向延伸，

連接部分、中斷部分和中繼電極提供在所述第一輸入位置檢測電極和所述第二輸入位置檢測電極間的每個交叉部分處，

所述連接部分使所述第一輸入位置檢測電極和所述第二輸入位置檢測電極中的一方連續并包括所述第一導電膜和所述第二導電膜中的一個，

所述中斷部分是所述第一輸入位置檢測電極和所述第二輸入位置檢測電極中的另一方中斷的部分，

所述中繼電極隔著所述層間絕緣膜與所述連接部分重疊，以電連接所述第一輸入位置檢測電極和所述第二輸入位置檢測電極中的所述另一方的所述中斷部分，并且

所述中繼電極包括所述第一導電膜和所述第二導電膜中的另一個。

8.如權利要求3所述的靜電電容輸入裝置，其中

所述第一導電膜、所述層間絕緣膜和所述第二導電膜形成在所述基板的所述輸入操作側的基板表面上，

所述配線用所述第一導電膜形成，并且

所述屏蔽電極用所述第二導電膜形成。

9.如權利要求3所述的靜電電容輸入裝置，其中

所述第一導電膜、所述層間絕緣膜和所述第二導電膜形成在所述基板的所述輸入操作側的相反側的基板表面上，

所述配線用所述第二導電膜形成，并且

所述屏蔽電極用所述第一導電膜形成。

10.如權利要求1所述的靜電電容輸入裝置，其中

與施加給所述輸入位置檢測電極的位置檢測信號具有相同波形和相位的電勢被施加給所述屏蔽電極。

11.一種電光設備，配備有靜電電容輸入裝置的輸入裝置，該靜電電容輸入裝置包括：

基板的輸入區域，在所述輸入區域中提供多個輸入位置檢測電極；

多條配線，電連接到所述多個輸入位置檢測電極并在所述基板的所述輸入區域之外延伸；以及

屏蔽電極，在輸入操作側與所述配線重疊，其中

用于產生圖像的電光面板形成在與所述基板的所述輸入操作側相反的側。