[發明專利]奧氏體不銹鋼小孔電解拋光方法有效
| 申請號： | 201010228099.2 | 申請日： | 2010-07-08 |
| 公開（公告）號： | CN101892511A | 公開（公告）日： | 2010-11-24 |
| 發明（設計）人： | 方剛;祝恒陽;張猛 | 申請（專利權）人： | 北京七星華創電子股份有限公司 |
| 主分類號： | C25F3/24 | 分類號： | C25F3/24;C25F7/00 |
| 代理公司： | 北京路浩知識產權代理有限公司 11002 | 代理人： | 王瑩 |
| 地址： | 100016 北京市*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 奧氏體 不銹鋼 小孔 電解 拋光 方法 | ||
1.一種用于電解拋光奧氏體不銹鋼小孔的拋光溶液，其特征在于，每升所述拋光溶液中含有磷酸1000-1250g，硫酸200-260g，無水乙醇180-240g。
2.如權利要求1所述的拋光溶液，其特征在于，每升所述拋光溶液還包括5-8ml重量百分比濃度為30-40％的羥基乙酸溶液。
3.如權利要求1或2所述的拋光溶液，其特征在于，所述磷酸的重量百分比濃度為85％，所述硫酸的重量百分比濃度為95％，所述無水乙醇的重量百分比濃度為99.5％。
4.一種用于電解拋光奧氏體不銹鋼小孔的拋光方法，其特征在于，采用拋光液對待拋光工件進行拋光處理，每升所述拋光溶液中含有磷酸1000-1250g，硫酸200-260g，無水乙醇180-240g。
5.如權利要求4所述用于電解拋光奧氏體不銹鋼小孔的拋光方法，其特征在于，每升所述拋光溶液還包括5-8ml的羥基乙酸溶液。
6.如權利要求4或5所述用于電解拋光奧氏體不銹鋼小孔的拋光方法，其特征在于，所述拋光方法包括步驟：
S1，將待拋光工件穿過電極針并固定在夾持裝置上，形成溶液循環通道，并將其整體浸入拋光溶液中；
S2，連接并開啟溶液循環流動設備，使拋光溶液以一定速度循環流動；
S3，夾持裝置接電源正極，電極針接電源負極，開啟直流電源，調整電壓范圍進行電解拋光。
7.如權利要求6所述的電解拋光奧氏體不銹鋼小孔的拋光方法，其特征在于，所述拋光溶液的溫度為50-65℃。
8.如權利要求6所述的電解拋光奧氏體不銹鋼小孔的拋光方法，其特征在于，所述拋光溶液的流速為200-500ml/min。
9.如權利要求6所述的電解拋光奧氏體不銹鋼小孔的拋光方法，其特征在于，步驟S3中的電壓范圍為2.5-4.2V；電流密度為3.5-15A/dm2。
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