[發明專利]光學裝置及投影機有效
| 申請號: | 201010221447.3 | 申請日: | 2010-06-30 |
| 公開(公告)號: | CN101937137A | 公開(公告)日: | 2011-01-05 |
| 發明(設計)人: | 江川明;長谷要;高城邦彥;清水鐵雄 | 申請(專利權)人: | 精工愛普生株式會社 |
| 主分類號: | G02F1/13 | 分類號: | G02F1/13;G03B21/16 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務所 11247 | 代理人: | 陳海紅;周春燕 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 裝置 投影機 | ||
1.一種光學裝置,其特征在于,具備:
光調制裝置,其具有元件基板及對置基板,并根據圖像信息對光束進行調制,所述元件基板具有像素電極及與前述像素電極連接的開關元件,所述對置基板與前述元件基板相對地配設;
框架,其對前述光調制裝置進行保持;以及
入射側防塵玻璃,其緊密附著地配置于前述對置基板的前述光束所入射的入射側端面;
其中,前述入射側防塵玻璃其平面尺寸形成得比前述對置基板的平面尺寸大,并配置于前述框架的光路前級側。
2.按照權利要求1所述的光學裝置,其特征在于:
前述框架具備氣流調整部,所述氣流調整部與前述入射側防塵玻璃的端面相鄰,將從沿著前述入射側防塵玻璃的前述光束所入射的第1面的方向朝向該光學裝置供給的空氣引導至前述第1面。
3.按照權利要求1所述的光學裝置,其特征在于:
在前述框架與前述入射側防塵玻璃之間,設置有使沿著前述入射側防塵玻璃的前述光束所入射的第1面的方向的空氣進行流通的間隙。
4.按照權利要求1所述的光學裝置,其特征在于:
前述框架具有氣流調整部,所述氣流調整部與前述入射側防塵玻璃的第1端面相鄰,將從沿著前述入射側防塵玻璃的前述光束所入射的第1面的方向朝向該光學裝置供給的空氣引導至前述第1面,并且在前述入射側防塵玻璃的端部與前述框架之間,設置有使沿著前述第1面的方向的空氣進行流通的間隙,所述入射側防塵玻璃的端部包括與前述第1端面交叉的第2端面。
5.按照權利要求1~4中的任意一項所述的光學裝置,其特征在于:
前述元件基板經由粘接劑固定在前述框架上。
6.一種投影機,其特征在于,具備:
光源;
對從前述光源射出的光束進行調制的權利要求1~5中的任意一項所述的光學裝置;以及
投影光學裝置,其對由前述光學裝置調制后的光束進行投影。
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