[發(fā)明專利]發(fā)光器件以及具有該發(fā)光器件的發(fā)光器件封裝有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010184880.4 | 申請(qǐng)日: | 2010-05-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101901859A | 公開(公告)日: | 2010-12-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 姜大成;鄭明訓(xùn) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | LG伊諾特有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L33/12 | 分類號(hào): | H01L33/12;H01L33/48 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 顧晉偉;吳鵬章 |
| 地址: | 韓國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 韓國(guó);KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)光 器件 以及 具有 封裝 | ||
1.一種發(fā)光器件,包括:
襯底;
在所述襯底的表面上散布的多個(gè)簇;
在所述多個(gè)簇上設(shè)置的第一半導(dǎo)體層,其中所述第一半導(dǎo)體層包括在所述多個(gè)簇上設(shè)置的氣隙;以及
發(fā)光結(jié)構(gòu),所述發(fā)光結(jié)構(gòu)包括:鄰接所述第一半導(dǎo)體層的第一導(dǎo)電型半導(dǎo)體層、在所述第一導(dǎo)電型半導(dǎo)體層上的有源層和在所述有源層上的第二導(dǎo)電型半導(dǎo)體層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光器件,其中所述簇包括MgN簇或Mg簇。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光器件,其中所述氣隙與所述簇對(duì)準(zhǔn)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光器件,其中所述襯底包括:在所述簇層下的摻雜半導(dǎo)體層或未摻雜半導(dǎo)體層、II-VI族元素中至少一種的緩沖層中的至少一種。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光器件,其中所述第一半導(dǎo)體層包括:未摻雜半導(dǎo)體層、非導(dǎo)電半導(dǎo)體層或?qū)щ姲雽?dǎo)體層中的至少一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光器件,還包括:在所述第一半導(dǎo)體層和所述第一導(dǎo)電型半導(dǎo)體層之間的第二半導(dǎo)體層。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的發(fā)光器件,其中所述第二半導(dǎo)體層包括超晶格結(jié)構(gòu)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光器件,其中所述第一半導(dǎo)體層中的所述氣隙中的至少一個(gè)為錐形。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光器件,其中所述襯底是導(dǎo)電型襯底。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光器件,還包括:與所述第一導(dǎo)電型半導(dǎo)體層連接的第一電極、以及與所述第二導(dǎo)電型半導(dǎo)體層連接的第二電極。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光器件,其中所述氣隙是對(duì)齊的。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光器件,其中所述第一半導(dǎo)體層與所述襯底之間的接觸面積大于所述第一半導(dǎo)體層和所述簇層之間的接觸面積。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光器件,其中所述襯底由硅制成。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光器件,還包括:在所述第二導(dǎo)電型半導(dǎo)體層上的透射性電極層或反射性電極層中的至少一種。
15.一種發(fā)光器件封裝,具有根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光器件,并具有封裝體和在所述封裝體上的多個(gè)引線電極。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的發(fā)光器件封裝,還包括:覆蓋所述發(fā)光器件的模制元件。
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