[發(fā)明專利]光源裝置、具有該光源裝置的光照射裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010180504.8
• 申請日: 2010-05-14
• 公開（公告）號: CN101886758A
• 公開（公告）日: 2010-11-17
• 發(fā)明（設計）人: 井元正博;芳本光晴;數(shù)藤康裕;福留正一;山中久志
• 申請（專利權）人: 夏普株式會社
• 主分類號: F21S2/00
• 分類號: F21S2/00;F21V7/00;H04N1/04
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權代理有限公司 11227
• 代理人: 李偉;張浩

1.一種光源裝置，在基板表面隔著間隔設置有一列具有發(fā)光面的多個發(fā)光元件，從所述發(fā)光面沿著所述基板的表面向前方放射照射光，其特征在于，

在所述基板的表面的所述發(fā)光面的前方側，以比所述發(fā)光面的寬度窄的寬度形成從所述發(fā)光面的下端向前方延伸的光反射抑制區(qū)域。

2.根據(jù)權利要求1所述的光源裝置，其特征在于，所述發(fā)光元件為側面具有所述發(fā)光面的側發(fā)光型發(fā)光元件。

3.根據(jù)權利要求1所述的光源裝置，其特征在于，所述光反射抑制區(qū)域為黑色或灰色的面。

4.根據(jù)權利要求2所述的光源裝置，其特征在于，所述光反射抑制區(qū)域為黑色或灰色的面。

5.根據(jù)權利要求1至4中任一項所述的光源裝置，其特征在于，在所述基板的表面的所述發(fā)光元件的發(fā)光面的前方側，且在所述光反射抑制區(qū)域以外的部分中，形成有光反射率比所述光反射抑制區(qū)域高的光反射促進區(qū)域。

6.根據(jù)權利要求5所述的光源裝置，其特征在于，所述光反射促進區(qū)域為白色的面。

7.根據(jù)權利要求6所述的光源裝置，其特征在于，所述白色的光反射促進區(qū)域通過絲網(wǎng)印刷形成。

8.根據(jù)權利要求6或7所述的光源裝置，其特征在于，在所述基板的表面形成有白色保護層，所述白色的光反射促進區(qū)域形成于所述保護層的表面。

9.一種光照射裝置，其具有權利要求1至8中任一項所述的光源裝置，利用所述光源裝置將光照射到光照射對象物上并得到對象物反射光，其特征在于，

所述光源裝置設置成，使得照射光的光軸相對于所述對象物反射光的光軸傾斜，所述照射光為從所述光源裝置的所述發(fā)光面放射并照射到所述光照射對象物的光。

10.根據(jù)權利要求9所述的光照射裝置，其特征在于，所述光照射裝置具有2個所述光源裝置，所述光源裝置設置成使得以所述對象物反射光的光軸作為對稱軸，一個所述光源裝置的照射光的光軸與另一個所述光源裝置的照射光的光軸大致對稱。

11.一種圖像讀取裝置，具有權利要求9或權利要求10所述的光照射裝置。

12.一種圖像形成裝置，具有權利要求11所述的圖像讀取裝置。