[發(fā)明專利]光學(xué)元件、光學(xué)元件制作用原盤的制造方法以及光電轉(zhuǎn)換裝置無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010180243.X | 申請(qǐng)日： | 2007-08-21 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN101825730A | 公開（公告）日： | 2010-09-08 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 遠(yuǎn)藤惣銘;林部和彌;永井透;秀田育弘;白鷺俊彥;西村公孝;鈴木忠男 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 索尼株式會(huì)社;索尼碟片數(shù)位解決方案股份有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G02B1/11 | 分類號(hào)： | G02B1/11;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240 | 代理人： | 余剛;吳孟秋 |
| 地址： | 日本*** | 國(guó)省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光學(xué) 元件 制作 用原盤 制造 方法 以及 光電 轉(zhuǎn)換 裝置 | ||
1.一種安裝有光學(xué)元件的顯示裝置，所述光學(xué)元件在基體表面上以可 視光的波長(zhǎng)以下的微小間隔配置有多個(gè)包括凸部或凹部的構(gòu)造體， 其特征在于：
所述各構(gòu)造體被配置為在所述基體表面呈多列圓弧狀軌跡，且 形成準(zhǔn)六邊形格子圖案，
其中，所述構(gòu)造體是在所述圓弧狀軌跡的圓周方向上具有長(zhǎng)軸 方向的橢圓錐或橢圓錐臺(tái)形狀。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于：
相同軌跡內(nèi)的所述構(gòu)造體的配置間隔P1長(zhǎng)于鄰接的兩個(gè)軌跡 間的所述構(gòu)造體的配置間隔P2。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于：
當(dāng)將相同軌跡內(nèi)的所述構(gòu)造體的配置間隔設(shè)定為P1，并將鄰接 的兩個(gè)軌跡間的所述構(gòu)造體的配置間隔設(shè)定為P2時(shí)，P1/P2為1.00＜ P1/P2≤1.32。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于：
所述各構(gòu)造體為如下的橢圓錐或橢圓錐臺(tái)形狀：在所述圓弧狀 軌跡的圓周方向上具有長(zhǎng)軸方向，且中央部的傾斜比尖端部以及底 部的傾斜更為陡峭。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于：
所述圓弧狀軌跡的圓周方向上的所述構(gòu)造體的高度或深度小 于所述圓弧狀軌跡的直徑方向上的所述構(gòu)造體的高度或深度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于：
所述構(gòu)造體的縱橫尺寸比為0.81～1.46。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示裝置，其特征在于：
所述構(gòu)造體的縱橫尺寸比為0.94～1.28。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于：
所述構(gòu)造體的縱橫尺寸比為0.94～1.46。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于：
所述構(gòu)造體的縱橫尺寸比為0.81～1.28。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于：
相同軌跡內(nèi)的所述構(gòu)造體的配置間隔P1為300nm～350nm，鄰 接的兩個(gè)軌跡間的所述構(gòu)造體的配置間隔P2為265nm～300nm。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于：
所述基體的光射入面以及光射出面兩者上都設(shè)置有所述多個(gè) 構(gòu)造體。
12.一種光學(xué)元件制作用原盤金屬模，所述光學(xué)元件在基體表面上以可 視光的波長(zhǎng)以下的微小間隔配置有多個(gè)包括凸部或凹部的構(gòu)造體， 其特征在于：
所述各構(gòu)造體被配置為在所述基體表面呈多列圓弧狀軌跡，且 形成準(zhǔn)六邊形格子圖案，
其中，所述構(gòu)造體是在所述圓弧狀軌跡的圓周方向上具有長(zhǎng)軸 方向的橢圓錐或橢圓錐臺(tái)形狀。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的光學(xué)元件制作用原盤金屬模，其特征在于：
相同軌跡內(nèi)的所述構(gòu)造體的配置間隔P1長(zhǎng)于鄰接的兩個(gè)軌跡 間的所述構(gòu)造體的配置間隔P2。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的光學(xué)元件制作用原盤金屬模，其特征在于：
當(dāng)將相同軌跡內(nèi)的所述構(gòu)造體的配置間隔設(shè)定為P1，并將鄰接 的兩個(gè)軌跡間的所述構(gòu)造體的配置間隔設(shè)定為P2時(shí)，P1/P2為1.00＜ P1/P2≤1.32。
15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的光學(xué)元件制作用原盤金屬模，其特征在于：
所述各構(gòu)造體為如下的橢圓錐或橢圓錐臺(tái)形狀：在所述圓弧狀 軌跡的圓周方向上具有長(zhǎng)軸方向，且中央部的傾斜比尖端部以及底 部的傾斜更為陡峭。
16.根據(jù)權(quán)利要求12所述的光學(xué)元件制作用原盤金屬模，其特征在于：
所述圓弧狀軌跡的圓周方向上的所述構(gòu)造體的高度或深度小 于所述圓弧狀軌跡的直徑方向上的所述構(gòu)造體的高度或深度。
17.根據(jù)權(quán)利要求12所述的光學(xué)元件制作用原盤金屬模，其特征在于：
所述構(gòu)造體的縱橫尺寸比為0.81～1.46。
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