[發明專利]一種高DO條件下短程硝化反硝化顆粒污泥的制備方法

無效

• 申請號: 201010171966.3
• 申請日: 2010-05-14
• 公開（公告）號: CN101830560A
• 公開（公告）日: 2010-09-15
• 發明（設計）人: 王新華;石義靜;王曙光;于海波;高明明;刁目賀;祁振
• 申請（專利權）人: 山東大學
• 主分類號: C02F3/30
• 分類號: C02F3/30
• 代理公司: 濟南圣達專利商標事務所有限公司 37221
• 代理人: 李健康

1.一種高DO條件下短程硝化反硝化顆粒污泥的制備方法，其特征在于在高DO濃度下通過逐步提高底物NH₄⁺-N濃度，制備出亞硝化細菌和反硝化菌大量富集的好氧短程硝化反硝化顆粒污泥。具體步驟如下：

(1)選取市政廢水處理廠的活性污泥注入序批式間歇反應器，循環時間為4h：其中進水6min，出水4min；厭氧攪拌1h；沉降時間隨著顆粒污泥的形成和沉降性能的改善逐漸縮短，由16min逐漸遞減至2min；其余為曝氣時間；

(2)反應器在20～30℃室溫下運行，pH值在7.5～8.5之間，曝氣量控制在0.3cm/s，保持DO濃度為8mg/L左右；

(3)將含有有機物和氨氮的廢水從反應器底部泵入，進水方式為間歇式，進水底物COD為500mg/L，加入氯化銨，最初底物NH₄⁺-N濃度為50mg/L，經過一個周期，出水由反應器中部排出，水力停留時間8h；

(4)監測出水中的NH₄⁺-N、NO₂^--N以及NO₃^--N濃度，當NH₄⁺-N去除率達到98％以上并能穩定三天以上的時間，同時NO₂^--N濃度下降、NO₃^--N濃度升高，即可提高底物NH₄⁺-N至下一濃度，每次提高值在50mg/L，按照上述方法，最終將底物NH₄⁺-N濃度提高至350mg/L，穩定運行一段時間后，在反應器內獲得短程硝化反硝化顆粒污泥。

2.根據權利要求1所述的一種高DO條件下短程硝化反硝化顆粒污泥的制備方法，其特征在于短程硝化反硝化顆粒污泥為淡黃色球形顆粒，直徑0.8mm，其中的微生物以球菌和桿狀菌為主，亞硝酸菌主要分布在顆粒外部，在顆粒內部含有極少的硝酸菌。