[發明專利]等離子顯示屏的介質保護膜及其制備方法和等離子顯示屏無效
| 申請號： | 201110459371.2 | 申請日： | 2011-12-31 |
| 公開（公告）號： | CN103794441A | 公開（公告）日： | 2014-05-14 |
| 發明（設計）人： | 羅向輝;邢芳麗 | 申請（專利權）人： | 四川虹歐顯示器件有限公司 |
| 主分類號： | H01J11/40 | 分類號： | H01J11/40;H01J9/00;H01J11/10 |
| 代理公司： | 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240 | 代理人： | 吳貴明;余剛 |
| 地址： | 621000 四川省綿陽市*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 等離子 顯示屏 介質 保護膜 及其 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種等離子顯示屏的介質保護膜，其特征在于，所述介質保護膜包括：
氧化鎂層；以及
設置在所述氧化鎂層上表面的絕緣氧化物層，所述絕緣氧化物層的材料選自由SiO2、TiO2、ZnO、BaTiO3和Al2O3組成的組中的一種或多種。
2.根據權利要求1所述的介質保護膜，其特征在于，所述氧化鎂層的材料為氧化鎂。
3.根據權利要求1所述的介質保護膜，其特征在于，所述氧化鎂層進一步摻雜有Ca、Ce、Sr、Ba、Be、Ra、Sc、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Zn、Na或Al組成的組中的一種或多種的混合物。
4.根據權利要求1所述的介質保護膜，其特征在于，所述絕緣氧化物層的厚度為所述氧化鎂層厚度的1/30～1/80。
5.一種如權利要求1-4任一項所述等離子顯示屏的介質保護膜的制作方法，其特征在于，包括如下步驟：
1)在等離子顯示屏的介質層上形成氧化鎂層；
2)在氧化鎂層的上表面形成絕緣氧化物層。
6.根據權利要求5所述的制作方法，其特征在于，通過真空沉積法制得所述氧化鎂層和所述絕緣氧化物層。
7.一種等離子顯示屏，包括：前基板、PDP放電電極和后基板，其特征在于，所述前基板包含權利要求1-4任一項所述的介質保護膜。
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