[發明專利]發光器件及發光器件的制造方法有效
| 申請號: | 201010163914.1 | 申請日: | 2008-07-28 |
| 公開(公告)號: | CN101854756A | 公開(公告)日: | 2010-10-06 |
| 發明(設計)人: | 山本和人 | 申請(專利權)人: | 卡西歐計算機株式會社 |
| 主分類號: | H05B33/22 | 分類號: | H05B33/22;H01L51/52 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 陳萍 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 發光 器件 制造 方法 | ||
1.一種發光器件,具有多個像素,其特征在于,具備:
發光功能層,由至少一層構成,放射與供給的電流相對應的光;
第1電極層,設置在上述發光功能層的一個面上,由導電性材料構成,對于從上述發光功能層放射的光的至少一部分的波段的光具有透射性;
第2電極層,在上述發光功能層的另一個面上,與上述第1電極層相對設置,含有導電性材料,對于從上述發光功能層放射的光的至少一部分的波段的光具有透射性;以及
反射層,設置在上述第2電極層上,對于從上述發光功能層放射的光的至少一部分的波段的光具有反射性;
上述第2電極層具有:
導電體層,由上述導電性材料構成,設置在上述發光功能層上,對從上述發光功能層放射的光的至少一部分的波段的光具有透射性;以及
厚膜層,設置在上述導電體層上,對從上述發光功能層放射的光的至少一部分的波段的光具有透射性。
2.如權利要求1所述的發光器件,其特征在于,
上述厚膜層由無機材料構成,具有800-1500nm的膜厚。
3.如權利要求2所述的發光器件,其特征在于,
上述無機材料由氮化硅、氮氧化硅中的某一種構成。
4.如權利要求1所述的發光器件,其特征在于,
上述厚膜層由有機材料構成,具有2000-7000nm的膜厚。
5.如權利要求4所述的發光器件,其特征在于,
上述有機材料由可在真空中蒸鍍的對二甲苯系樹脂、聚酰亞胺系樹脂、聚尿素系樹脂中的某一種構成。
6.如權利要求1所述的發光器件,其特征在于,
上述第2電極層具有透明電極層、以及設置在上述發光功能層和上述透明電極層之間的電子輸送層,其中上述透明電極層包含具有上述透射性的上述導電性材料,
上述透明電極層是用濺射法形成的,
上述電子輸送層由對上述透明電極層的形成中濺射所用的氧具有耐性的材料構成。
7.如權利要求6所述的發光器件,其特征在于,
對上述電子輸送層采用Ca。
8.如權利要求6所述的發光器件,其特征在于,
上述電子輸送層、上述透明電極層和上述反射層,設置在與上述多個像素相對應的區域。
9.如權利要求6所述的發光器件,其特征在于,
該發光器件具有對上述多個像素的各個形成區域進行劃分的多個隔壁,
上述電子輸送層、上述透明電極層和上述反射層,設置為覆蓋上述各像素的形成區域和上述各隔壁。
10.一種發光器件的制造方法,該發光器件具有多個像素,該多個像素具有由至少1層構成的發光功能層,其特征在于,包括以下步驟:
利用對于從上述發光功能層放射的光的至少一部分的波段的光具有透射性的導電性材料,來形成第1電極層的步驟;以及
在上述第1電極層上形成上述發光功能層的步驟;
在上述發光功能層上,與上述第1電極層相對置,利用至少包含對于從上述發光功能層放射的光的至少一部分的波段的光具有透射性的導電性材料的材料,來形成第2電極層的步驟;以及
在上述第2電極層上,利用對于從上述發光功能層放射的光的至少一部分的波段的光具有反射性的材料,來形成反射層的步驟;
形成上述第2電極層的步驟包括:
在上述發光功能層上,利用具有上述透射性的上述導電性材料來形成導電體層的步驟;
在上述導電體層上,利用對于從上述發光功能層放射的光的至少一部分的波段的光具有透射性的材料,來形成厚膜層的步驟。
11.如權利要求10所述的發光器件的制造方法,其特征在于,
上述厚膜層由無機材料構成,具有800-1500nm的膜厚。
12.如權利要求10所述的發光器件的制造方法,其特征在于,
上述厚膜層由有機材料構成,具有2000-7000nm的膜厚。
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