[發明專利]改善鎢沉積拓樸形貌的微機電系統光罩與方法無效
| 申請號: | 201010163295.6 | 申請日: | 2010-04-14 |
| 公開(公告)號: | CN102219177A | 公開(公告)日: | 2011-10-19 |
| 發明(設計)人: | 徐新惠;王傳蔚;李昇達;呂志宏 | 申請(專利權)人: | 原相科技股份有限公司 |
| 主分類號: | B81C1/00 | 分類號: | B81C1/00 |
| 代理公司: | 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219 | 代理人: | 陳肖梅;謝麗娜 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 改善 沉積 拓樸 形貌 微機 系統 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種微機電系統光罩,特別有關于一種改善鎢沉積拓樸形貌的微機電系統光罩,也有關于一種改善微機電系統鎢沉積拓樸形貌的方法。
背景技術
大部份的微機電系統中包含微機電元件與其它微電子電路,必須互相整合,構成整合芯片。因此,在微機電系統整合芯片中,芯片制程必須同時考慮微機電元件與微電子電路元件的整合。
圖1標出現有技術的微機電系統光罩的一部份圖案100,該光罩用以定義金屬鎢層,所顯示的是微機電元件的一部分圖案,至于微電子電路的圖案則未顯示。鎢是作為微電子電路金屬導線栓接的重要材料,可以利用鑲嵌制程(damascene?process)來完成,鑲嵌制程的作法是先在氧化硅中蝕刻出所需要的圖案溝槽,接著例如以化學汽相沉積(chemical?vapor?deposition)方式,將金屬鎢沉積于溝槽中,然后以化學機械研磨(chemical?mechanical?polish)將表面磨平,以利后續金屬導線的沉積。在微電子電路區域沉積鎢的同時,于微機電元件的區域亦形成鎢層,此鎢層在微機電元件區域則需要構成機械結構,例如與其上或下方的金屬層構成微機電元件的一部分,如移動元件、固定元件、彈簧、或是固定柱(anchor)等等。
請對照圖2,2A,2B,該微機電元件的三維結構例如如圖所示,在基板20上構成圖2A所示的移動電極30與2B所示的固定電極40,其中固定電極40由下方一或多層結構層12固定于基板20。當移動電極30如圖2A中箭號所示方向移動時,其與固定電極40的間隙改變,造成電容亦隨之改變,由此可感測位移量的大小。在本例中,即需要以圖1所示的光罩,來定義金屬鋁層10與金屬鎢層11的結構。
請回到圖1,在定義鎢層的光罩圖案100上,經常發生兩線段或更多線段交會的情況,例如圖1中的左方十字型圖案110,在虛線圓圈處發生線段交會。此時如利用第1圖中的十字型圖案110來定義并沉積金屬鎢,將可能形成如圖3A的拓樸形貌,其AB切線的剖面示意圖則如圖3B所示。由圖可見,會因交會處的中心點距離線段邊緣較遠,造成在金屬鎢沉積時無法填滿,而使金屬鎢在交會處中心點下陷,若其上沉積其它金屬,如鋁、銅等,也會跟著在交會處中心點下陷,形成一個較小的凹洞,并且因拓樸形貌不平坦,不同金屬間的應力也會相對增加,造成微機電元件中,例如移動電極與固定電極間,感應的誤差,而可能導致錯誤的操作。
上述現有技術中,鎢的鑲嵌制程會在微機電元件上,使鎢沉積拓樸形貌出現凹陷,因而影響微機電元件的功能,是其缺點。有鑒于此,本發明即針對上述現有技術的不足,提出一種能夠改善鎢沉積拓樸形貌的微機電系統光罩與方法。
發明內容
本發明的一目的在于克服現有技術的不足與缺陷,提出一種改善鎢沉積拓樸形貌的微機電系統光罩。
本發明的另一目的在于,提出一種改善微機電系統鎢沉積拓樸形貌的方法。
為達上述目的,就本發明的其中一個觀點而言,提供了一種改善鎢沉積拓樸形貌的微機電系統光罩,包含:一交會圖案,其由至少兩不小于最小設計線寬的線段交會形成,且于該交會處的轉角,形成一由該轉角處向該交會處的中心點延伸,使該交會處寬度相對小的凹入圖案,其中,該光罩所定義的線段用以制作溝槽,以供沉積填入鎢而構成微機電系統的一部份,且所填入的鎢表面最低高度不低于溝槽表面高度的80%。
上述改善鎢沉積拓樸形貌的微機電系統光罩,其中該凹入圖案可為矩形或多邊形。
上述改善鎢沉積拓樸形貌的微機電系統光罩,其中該交會圖案可具有一直角或一斜角。
上述改善鎢沉積拓樸形貌的微機電系統光罩,其中該交會圖案可為十字形圖案、X形圖案、T字形圖案、Y形圖案、或λ形圖案。
為達上述目的,就本發明的另一個觀點而言,提供了一種改善微機電系統鎢沉積拓樸形貌的方法,包含:提供一光罩,該光罩具有一交會圖案,其由至少兩不小于最小設計線寬的線段交會形成,且于該交會處的轉角,形成一由該轉角處向該交會處的中心點延伸,使該交會處寬度相對小的凹入圖案;利用該光罩,于一基板上進行微影制程,并應用蝕刻技術,形成具有一交會溝槽的拓樸形貌;將鎢沉積于該交會溝槽中,其中,所填入的鎢表面最低高度不低于溝槽表面高度的80%;以及以沉積鎢所構成的結構,構成微機電系統的一部份。
上述改善微機電系統鎢沉積拓樸形貌的方法,可更包含:以化學機械研磨技術將沉積的鎢磨平。
下面通過具體實施例詳加說明,當更容易了解本發明的目的、技術內容、特點及其所達成的功效。
附圖說明
圖1標出現有技術微機電元件的一部份光罩圖案;
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