[發(fā)明專利]磁盤用基板以及其制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010156298.7 | 申請日： | 2010-03-30 |
| 公開（公告）號： | CN101853670A | 公開（公告）日： | 2010-10-06 |
| 發(fā)明（設計）人： | 土屋弘;深田順平;水野高德 | 申請（專利權）人： | HOYA株式會社 |
| 主分類號： | G11B5/84 | 分類號： | G11B5/84 |
| 代理公司： | 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人： | 李洋 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 磁盤 用基板 及其 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種磁盤用基板，其特征在于，包括：
相互相向的第一及第二主表面；
與所述第一及第二主表面之間對應的端面；
連接所述第一主表面和所述端面的第一倒角面；以及
連接所述第二主表面和所述端面的第二倒角面，
從作為所述第一主表面與所述第一倒角面的邊界的第一邊界部到所述第一主表面與所述端面的延長線的交點的距離a、和從作為所述第二主表面與所述第二倒角面的邊界的第二邊界部到所述第二主表面與所述端面的延長線的交點的距離b被設定成，滿足a/b≥1.6。
2.如權利要求1所述的磁盤用基板，其特征在于，所述磁盤用基板是玻璃基板。
3.一種磁盤用基板的制造方法，是如權利要求1或2所述的磁盤用基板的制造方法，其特征在于，包括利用研磨裝置對盤狀基板進行研磨加工的工序，該研磨裝置具備載架，所述載架夾持在一對平臺之間、在保持多個所述盤狀基板的第一及第二主表面的朝向一致的狀態(tài)下進行自轉(zhuǎn)同時進行公轉(zhuǎn)。
4.一種磁盤的制造方法，其特征在于，在權利要求1或2所述的磁盤用基板的所述第一及第二主表面中至少一方，至少形成磁記錄層。
5.一種磁盤，其特征在于，利用權利要求4所述的磁盤的制造方法制造而成。
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