[發明專利]制造太陽能電池的薄膜沉積處理組件、系統及清洗方法

有效

• 申請號: 201010153042.0
• 申請日: 2010-04-20
• 公開（公告）號: CN101866981A
• 公開（公告）日: 2010-10-20
• 發明（設計）人: 白春金
• 申請（專利權）人: IPS株式會社
• 主分類號: H01L31/18
• 分類號: H01L31/18
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 謝順星

1.一種用于制造太陽能電池的薄膜沉積處理組件，所述組件包括：

真空室，其形成密封處理空間；

托盤支承單元，其安裝于所述真空室內，用于支承其上裝載有多個用于太陽能電池的晶體硅基片的托盤；

噴頭單元，其安裝于所述真空室的上方，用于將氣體噴射到所述處理空間中；以及

等離子產生器，用于從所提供的用于清洗所述真空室的清洗氣體產生等離子。

2.如權利要求1所述的薄膜沉積處理組件，其中，所述真空室由鋁或鋁合金制成，或者具有由鎳、鎳合金、鎢和鎢合金中的一種所涂覆的表面。

3.如權利要求1所述的薄膜沉積處理組件，其中，所述等離子產生器包括連接于所述噴頭單元的遠程等離子產生器，并通過所述噴頭單元提供由所述遠程等離子產生器轉變成等離子態的清洗氣體。

4.如權利要求1所述的薄膜沉積處理組件，其中，所述等離子產生器在所述噴頭單元或所述處理空間內從所述清洗氣體產生等離子。

5.如權利要求1至4中的任一項所述的薄膜沉積處理組件，其中，所述清洗氣體是包括氟或氯的氣體。

6.如權利要求5所述的薄膜沉積處理組件，其中，所述清洗氣體包括NF₃、C₂F₆、CF₄、F₂、CHF₃、SF₆和Cl₂中的一種。

7.如權利要求1所述的薄膜沉積處理組件，其中，所述真空室設有隔離件，用于當所述托盤裝配到所述托盤支承單元上時，將包括所述托盤支承單元的內表面的下部空間與所述處理空間及所述托盤隔離開，并且被構造成當所述托盤已裝配到所述托盤支承單元上時，防止氣體流入所述托盤支承單元中。

8.如權利要求7所述的薄膜沉積處理組件，其中，所述托盤由金屬材料或非金屬材料制成。

9.如權利要求7或8所述的薄膜沉積處理組件，其中，所述真空室還設有氣體流入防止裝置，其被構造成將惰性氣體噴射到所述下部空間內以便防止氣體流入所述下部空間內。

10.如權利要求1所述的薄膜沉積處理組件，其中，所述真空室還設有被構造以傳送所述托盤的托盤傳送裝置。

11.如權利要求10所述的薄膜沉積處理組件，其中，所述托盤傳送裝置包括：

多個滾輪，其安裝于具有矩形形狀的所述托盤支承單元的兩側，以便通過支承所述托盤的邊緣的底表面并被轉動從而移動所述托盤；以及

驅動單元，用于驅動所述多個滾輪。

12.如權利要求10所述的薄膜沉積處理組件，其中，所述托盤傳送裝置還包括上下移動裝置，用于向上和向下地移動所述滾輪。

13.一種用于制造太陽能電池的薄膜沉積處理系統，所述系統包括：

如權利要求1至4和權利要求7至8中的任一項所述的用于制造太陽能電池的所述薄膜沉積處理組件；

裝載鎖定組件，其安裝于所述薄膜沉積處理組件的前面，并被構造成從外部接收其上裝載有多個用于太陽能電池的晶體硅基片的、用于沉積處理的托盤，并將所接收的托盤傳送到所述薄膜沉積處理組件；以及

卸載鎖定組件，其安裝于所述薄膜沉積處理組件的后面，并被構造成接收其上具有多個已經過所述沉積處理的基片的所述托盤，并將所接收的托盤卸出到外部，

其中，所述真空室包括被構造成傳送已從所述裝載鎖定組件傳送的托盤的托盤傳送裝置。

14.如權利要求13所述的薄膜沉積處理系統，還包括基片裝載組件，其安裝于所述裝載鎖定組件的前面，且被構造以將多個所述基片裝載到所述托盤上。

15.如權利要求13所述的薄膜沉積處理系統，還包括托盤取回組件，其安裝于所述卸載鎖定組件的后面，且被構造以接收其上具有已經過所述沉積處理的基片的所述托盤。

16.如權利要求13所述的薄膜沉積處理系統，其中，所述托盤傳送裝置包括：

多個滾輪，其安裝于具有矩形形狀的所述托盤支承單元的兩側，以便通過支承所述托盤的邊緣的底表面并被轉動從而移動所述托盤；以及

驅動單元，用于驅動所述多個滾輪。